【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种处理系统的降温方法，其特征在于，所述处理系统包括真空室、位于所述真空室内并用于在第一温度下处理基底的等离子体反应器，所述真空室设有第一进气口、第一出气口，所述等离子体反应器设有第二进气口、第二出气口，所述第一进气口与第二进气口相互独立，所述第一出气口与第二出气口相互独立，所述等离子体反应器还设有通向所述真空室的门，所述降温方法用于将所述第一温度下的等离子体反应器冷却至第二温度，所述降温方法包括：开启所述第二进气口，向所述第二进气口通入热传导气体，使所述等离子体反应器及真空室内填充有所述热传导气体且压力均达到预设值；保持所述等离子体反应器及真空室的压力，直至所述等离子体反应器的温度为所述第二温度。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：郭雷，
申请(专利权)人：理想能源设备上海有限公司，
类型：发明
国别省市：
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