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一种处理系统的降温方法，所述处理系统包括真空室、位于真空室内并用于在第一温度下处理基底的等离子体反应器，所述降温方法包括：开启第二进气口，向第二进气口通入热传导气体，使等离子体反应器及真空室内填充有热传导气体且压力均达到预设值；保持等离子体...
该专利属于理想能源设备（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过理想能源设备（上海）有限公司授权不得商用。

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