光硬化性聚硅氧烷组成物、保护膜及具有保护膜的元件制造技术

本发明专利技术涉及光硬化性聚硅氧烷组成物、保护膜及具有保护膜的元件。本发明专利技术提供一种光硬化性聚硅氧烷组成物，其包含聚硅氧烷高分子(A)、醌二叠氮磺酸酯(B)、式(II)所示的芴系化合物(C)及溶剂(D)。该聚硅氧烷高分子(A)是由硅烷单体组分经缩合反应而得的聚合物，且该硅烷单体组分包括式(I)所示的硅烷单体：(Ra)tSi(ORb)4-t??式(I)，该式(II)所示的芴系化合物(C)：在式(I)及(II)中，该Ra、Rb、t及R1～R10如说明书与权利要求中所定义。该光硬化性聚硅氧烷组成物具有高感度，且由其所形成的保护膜具有较佳的耐化学性及硬度。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种光硬化性聚硅氧烷组成物，其特征在于包含：聚硅氧烷高分子(A)，是由硅烷单体组分经缩合反应而得的聚合物，且所述硅烷单体组分包括式(I)所示的硅烷单体：(Ra)tSi(ORb)4?t??式(I)于式(I)中，t表示1至3的整数，且当t表示2或3时，多个Ra各自为相同或不同；至少一个Ra表示经酸酐基取代的C1～C10烷基、经环氧基取代的C1～C10烷基，或经环氧基取代的烷氧基，且其余Ra表示氢、C1～C10的烷基、C2～C10的烯基，或C6～C15的芳香基；Rb表示氢、C1～C6的烷基、C1～C6的酰基，或C6～C15的芳香基，且当4?t表示2或3时，多个Rb各自为相同或不同；醌二叠氮磺酸酯(B)；式(II)所示的芴系化合物(C)：在式(II)中，R1～R10为相同或不同，且R1～R10中至少一个包含反应基团，且所述反应基团表示含环氧基的有机基团、含羧基的有机基团、含酸酐基的有机基团，或含氨基的有机基团；及溶剂(D)；且当式(I)中的Ra表示经环氧基取代的C1～C10烷基，或经环氧基取代的烷氧基时，所述式(II)中的反应基团不可为含环氧基的有机基团。FDA00002981167900011.jpg...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：吴明儒，施俊安，
申请(专利权)人：奇美实业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：