光硬化性涂布组成物、光硬化涂布膜及触控面板制造技术

技术编号:13303399 阅读:69 留言:0更新日期:2016-07-09 20:27
本发明专利技术提供一种光硬化性涂布组成物、光硬化涂布膜及触控面板,光硬化性涂布组成物包括光硬化性聚合物,其至少由式(I)所示的化合物、式(II)所示的化合物以及式(III)所示的化合物经水解缩合反应而得;从而具有良好光硬化性。M表示硅、钛、钽、锆、硼、铝、镁或锌;Ra、Rc及Re分别表示碳数1~5的直链或支链的烷基;n为2~5的整数;Rb表示碳数2~10的烯基、具有丙烯酰氧基的碳数1~5的烷基或具有甲基丙烯酰氧基的碳数1~5的烷基;Rd表示碳数1~15的直链或支链的亚烷基;X表示一价至六价的有机基;Y表示氢原子或式(IV)所示的基团;p为1~4的整数。

【技术实现步骤摘要】
201510353807

【技术保护点】
一种光硬化性涂布组成物,其特征在于,包括:光硬化性聚合物,为至少由式(I)所示的化合物、式(II)所示的化合物以及式(III)所示的化合物经水解缩合反应而得:M(ORa)n   式(I)式(I)中,M表示硅、钛、钽、锆、硼、铝、镁或锌;Ra表示碳数1~5的直链或支链的烷基;n为2~5的整数,RbSi(ORc)3   式(II)式(II)中,Rb表示碳数2~10的烯基、具有丙烯酰氧基的碳数1~5的烷基或具有甲基丙烯酰氧基的碳数1~5的烷基;Rc表示碳数1~5的直链或支链的烷基,式(III)中,X表示一价至六价的有机基;Y表示氢原子或式(IV)所示的基团;p为1~4的整数;当p为1时,Y表示式(IV)所示的基团,当p为2~4时,Y中的至少一个为式(IV)所示的基团,式(IV)中,Rd表示碳数1~15的直链或支链的亚烷基;Re分别表示碳数1~5的直链或支链的烷基,以所述式(I)所示的化合物、所述式(II)所示的化合物以及所述式(III)所示的化合物的总量为100重量份计,所述式(I)所示的化合物的含量为50重量份至85重量份,所述式(II)所示的化合物的含量为10重量份至45重量份,所述式(III)所示的化合物的含量为5重量份至40重量份。...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:黄昱豪
申请(专利权)人:奇美实业股份有限公司
类型:发明
国别省市:中国台湾;71

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