一种柔性面板连续无掩膜光刻装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种用于柔性面板连续无掩膜光刻方法的柔性面板连续无掩膜光刻装置，其技术方案的要点是，包括基座，所述的基座上设有光刻基板，所述的光刻基板上方设有光刻组件，所述的光刻基板的两侧分别设有卷出装置和收卷装置，所述的光刻基板上设有抽气定位孔，所述的光刻基板的下方设有与所述的抽气定位孔相通的抽吸装置。本实用新型专利技术目的是克服了现有技术的不足，提供一种能连续无掩膜光刻柔性面板的柔性面板连续无掩膜光刻装置。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种柔性面板连续无掩膜光刻装置，其特征在于：包括基座（1），所述的基座（1）上设有光刻基板（2），所述的光刻基板（2）上方设有光刻组件（3），所述的光刻基板（2）的两侧分别设有卷出装置（4）和收卷装置（5），所述的光刻基板（2）上设有抽气定位孔（201），所述的光刻基板（2）的下方设有与所述的抽气定位孔（201）相通的抽吸装置（6）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：梅文辉，杜卫冲，
申请(专利权)人：中山新诺科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：