一种新型的异质结太阳能电池制造技术

技术编号:9239171 阅读:118 留言:0更新日期:2013-10-10 03:08
本发明专利技术公开了一种新型的异质结太阳能电池,其中,超晶格结构P+层包括至少两层沉积在一起的P+复合层,该P+复合层由下至上依次包括P+窄禁带层和P+宽禁带层,每层P+复合层中的P+宽禁带层沉积在P+窄禁带层的上表面上,最下层P+复合层的P+窄禁带层沉积在P型单晶硅衬底的正面上;浅掺杂P型层沉积在最上层P+复合层的P+宽禁带层的上表面上;超晶格结构N型层包括至少两层沉积在一起的N型复合层,该N型复合层由下至上依次包括N型宽禁带层和N型窄禁带层,每层N型复合层中的N型窄禁带层沉积在N型宽禁带层的上表面上,最下层N型复合层的N型宽禁带层沉积在钝化层的上表面上。本发明专利技术不仅能够提高电池的开路电压和填充因子,从而提高转换效率,而且能够有效地降低成本。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种新型的异质结太阳能电池,其特征在于,它包括:一P型单晶硅衬底,其具有一正面和一背面;一欧姆接触层,位于P型单晶硅衬底的背面上;一超晶格结构P+层,包括至少两层沉积在一起的P+复合层,该P+复合层由下至上依次包括P+窄禁带层和P+宽禁带层,P+窄禁带层的禁带宽度Eg1<1.2eV,P+宽禁带层的禁带宽度Eg2>1.5eV,并且每层P+复合层中的P+宽禁带层沉积在P+窄禁带层的上表面上,最下层P+复合层的P+窄禁带层沉积在P型单晶硅衬底的正面上;一浅掺杂P型层,其沉积在最上层P+复合层的P+宽禁带层的上表面上;一钝化层,其沉积在浅掺杂P型层的上表面上;一超晶格结构N型层,包括至少两层沉积在一起的N型复合层,该N型复合层由下至上依次包括N型宽禁带层和N型窄禁带层,N型窄禁带层的禁带宽度Eg3<1.2eV,N型宽禁带层的禁带宽度Eg4>1.5eV,并且每层N型复合层中的N型窄禁带层沉积在N型宽禁带层的上表面上,最下层N型复合层的N型宽禁带层沉积在钝化层的上表面上;一透明导电膜层,其沉积在最上层N型复合层的N型窄禁带层的上表面上;一电极层,其位于透明导电膜层的上表面上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:崔艳峰袁声召
申请(专利权)人:常州天合光能有限公司
类型:发明
国别省市:

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