一种蓝宝石衬底晶片清洗液、制备方法、用途和清洗方法技术

本发明专利技术涉及一种蓝宝石衬底晶片清洗液、制备方法、用途和清洗方法，所述清洗液包括氧化胺表面活性剂、含氟表面活性剂、有机磺酸盐、脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、碱、络合剂、颗粒捕捉剂和纯水，其对蓝宝石衬底晶片具有优异的清洗洁净能力，能够彻底除去污染物，提高电子元件的洁净度；此外，所述清洗液具有制备简单、成本低廉、环境友好等诸多优点，具有广阔的研究价值和工业应用前景。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种蓝宝石衬底晶片清洗液，所述清洗液包括下述以重量份计的各种组分：FDA00003525929000011.jpg

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：侯军，李波，熊展瑜，
申请(专利权)人：常熟奥首光电材料有限公司，
类型：发明
国别省市：