【技术实现步骤摘要】
一种高稳定性的薄膜电阻器及其制造方法
本专利技术涉及半导体领域,具体涉及一种高稳定性的薄膜电阻器及其制造方法。
技术介绍
电阻器是电路中应用最为广泛的无源元件之一,在电路中主要起电源去耦、晶体管工作点偏置、网络匹配以及间级耦合等作用。随着电子产品不断向高频化、小型化和高可靠性和高稳定性方向的发展,要求电阻元件尺寸越来越小、使用频率越来越高(20GHz以上)、电阻精度和可靠性越来越高、稳定性越来越高(即电阻温度系数TCR越来越小),甚至要求电阻温度系数TCR(TemperatureCoefficientofResistance,TCR)等于零(0±30ppm/℃)。传统的电阻器一般采用厚膜工艺制造,即通过印刷的方法将电阻和电极浆料涂覆在陶瓷基板上,然后经过高温烧结分别形成电阻层和电极层,从而构造出电阻器。专利CN101295569A、CN1525498A、CN1977347A、CN101203922A、CN1524275A、CN1325117A等专利文件公开的电阻器的制造方法,均是厚膜工艺。浆料在烧结之后存在大量的玻璃成分,玻璃的微波特性比较差,因此厚膜电阻的使用频 ...
【技术保护点】
一种高稳定性的薄膜电阻器,其特征在于:所述高稳定性的薄膜电阻器由基板,附着于基板上表面的薄膜电阻层,附着于基板下表面的下电极,以及附着于薄膜电阻层上表面的上电极组成。
【技术特征摘要】
1.一种高稳定性的薄膜电阻器,其特征在于:所述高稳定性的薄膜电阻器由基板,附着于基板上表面的薄膜电阻层,附着于基板下表面的下电极,以及附着于薄膜电阻层上表面的上电极组成;所述薄膜电阻层由AlN薄膜层和TaN薄膜层组成;所述AlN薄膜层附着于基板的上表面,所述TaN薄膜层附着于AlN薄膜层的上表面;所述上电极附着于TaN薄膜层的上表面;所述上电极由两块组成;电极块之间通过TaN薄膜层连接在同一个表面上;所述膜电阻器的电阻温度系数为零0±30ppm/℃。2.根据权利要求1所述的高稳定性的薄膜电阻器,其特征在于:所述AlN薄膜层的厚度为50-5000埃。3.根据权利要求2所述的高稳定性的薄膜电阻器,其特征在于:所述TaN薄膜层的厚度为50-5000埃。4.根据权利要求1所述的高稳定性的薄膜电阻器,其特征在于:所述的基板为陶瓷基板或氧化铝基板。5.根据权利要求4所述的高稳定性的薄膜电阻器,...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨俊锋,庄严,庄彤,冯毅龙,丁明健,李杰成,
申请(专利权)人:广州天极电子科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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