【技术实现步骤摘要】
位置测量设备和具有这种位置测量设备的装置
本专利技术涉及一种位置测量设备和一种具有这种位置测量设备的装置。
技术介绍
在制造和检查半导体器件时所使用的机器中常常存在的要求是,精确地对对象进行定位。因此,譬如可能需要在曝光或检验单元的工具之下高精度地定位晶片。在此,晶片处于可以以6个自由度运动的工作台上,该工作台通过相应的驱动装置运动。因此,该工作台充当要高精度地检测其位置的对象;为了通过驱动装置和所属的控制单元对该工作台进行定位,需要借助于高精度的位置测量设备生成关于工作台的空间位置的位置信号。通常由干涉仪或者基于光栅的光学位置测量设备在这样的机器中充当高精度的位置测量设备。在专利技术人的DE102012201393.3中提出了用于这样的应用的测量装置,该测量装置由不同位置测量设备的组合构成。因此,为了位置测量沿着对象的长的第一主运动轴、以及为了检测旋转运动围绕另一轴使用多轴干涉仪。在此,在对象处布置测量反射器,所述测量反射器被施加多轴干涉仪的测量射束。为了沿着第二主运动轴和沿着第三轴进行位置测量,提出基于光栅的干涉的位置测量设备;该位置测量设备尤其是包括布置在对象处的入射光衍射光栅形式的计量用具以及相对其静止布置的反射器;在反射器处布置另外的衍射光栅,其中反射器譬如可以被构造成透射光栅反射镜单元。用在不同位置测量设备中的测量反射器、计量用具和反射器在安装期间和在使用中经历机械和热负荷,并且在此也可能缓慢地变型。这些元件的这样的变型在位置确定中造成测量误差。为了补偿该测量误差公知有所谓的自校准方法,通过所述方法在相应机器的运行中或特殊校准周期中通过测量技术 ...
【技术保护点】
一种用于检测第一对象(1)相对于第二对象(5)的位置的位置测量设备,其中第一和第二对象被布置为沿着至少两个测量方向(x,y,z)能相对运动,所述位置测量设备具有:-光学单元(2),其与两个对象之一(5)连接并且以所定义的布置包括至少一个光源、探测器装置以及另外的光学元件,和-计量用具?反射器单元(3,30’),其布置在另一对象(1)处并且具有轨迹(3.1,3.4,3.4’)中的至少两个被不同地构造的区域(3.1a,3.1b,3.4a,3.4b,3.4a’,3.4b’),这些区域为了位置检测而能用光学单元(2)光学扫描,其中通过区域(3.1a,3.1b,3.4a,3.4b,3.4a’,3.4b’)的不同构造能够在位置检测时在不同的测量方向(x,y,z)之间转换并且能够利用光学单元(2)为每个测量方向(x,y,z)分别生成关于两个对象(1,2)的相对运动的位置信号。
【技术特征摘要】
2012.03.22 DE 102012204572.41.一种用于检测第一对象(1)相对于第二对象(5)的位置的位置测量设备,其中第一和第二对象被布置为沿着至少两个测量方向(x,y,z)能相对运动,所述位置测量设备具有:-光学单元(2),其与两个对象之一连接并且以所定义的布置包括至少一个光源、探测器装置以及另外的光学元件,和-计量用具-反射器单元(3,30’),其布置在两个对象中的另一对象处并且具有轨迹(3.1,3.4,3.4’)中的至少两个被不同地构造的区域(3.1a,3.1b,3.4a,3.4b,3.4a’,3.4b’),这些区域为了位置检测而能用光学单元(2)光学扫描,其中通过区域(3.1a,3.1b,3.4a,3.4b,3.4a’,3.4b’)的不同构造能够在位置检测时在不同的测量方向(x,y,z)之间转换并且能够利用光学单元(2)为每个测量方向(x,y,z)分别生成关于两个对象的相对运动的位置信号。2.根据权利要求1所述的位置测量设备,其中在计量用具-反射器单元(3,30’)的轨迹(3.1,3.4,3.4’)的不同区域(3.1a,3.1b,3.4a,3.4b,3.4a’,3.4b’)中布置测量反射器和计量用具。3.根据权利要求2所述的位置测量设备,其中所述测量反射器被构造成平面反射镜并且所述计量用具被构造成入射光衍射光栅。4.根据权利要求2所述的位置测量设备,其中落到被不同地构造的区域(3.1a,3.1b,3.4a,3.4b,3.4a’,3.4b’)上的射束经历不同的偏转作用。5.根据权利要求1所述的位置测量设备,其中计量用具-反射器单元(3,30’)具有多个平行布置的轨迹(3.1-3.4,3.1’-3.4’),在所述轨迹中布置计量用具和/或测量反射器。6.根据权利要求5所述的位置测量设备,其中-在一个轨迹(3.2,3.3,3.2’)中布置计量用具,以及-在另外的轨迹(3.1,3.4,3.4’)中,在第一区域(3.1a,3.4a,3.4a’)中布置测量反射器,并且在第二区域(3.1b,3.4b,3.4b’)中布置计量用具,该计量用具被构造为与另一轨迹(3.2,3.3,3.2’)中的计量用具相同。7.根据权利要求1至6之一所述的位置测量设备,其中沿着轨迹(3.1,3.4,3.4’)的延伸方向布置轨迹(3.1,3.4,3.4’)中的中心的第一区域(3.1a,3.4a,3.4a’),并且至少在第一区域的末端处布置轨迹(3.1,3.4,3.4’)中的被不同地构造的第二区域(3.1b,3.4b,3.4b’)。8.根据权利要求1至6之一所述的位置测量设备,...
【专利技术属性】
技术研发人员:W霍尔萨普费尔,J德雷歇尔,M梅斯纳,R约尔格,B穆施,T克尔贝雷尔,
申请(专利权)人:约翰尼斯海登海恩博士股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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