【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种光导锑化铟晶片刻槽腐蚀液，其特征是：由双氧水、氢氟酸、去离子水、冰醋酸、乙醇按1：1：2：2：1的配比混合而成，具有良好的选择性，腐蚀图形轮廓清晰，边沿整齐。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：刘晞贤，
申请(专利权)人：陕西华星电子集团有限公司，
类型：发明
国别省市：
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