【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种用于制造反向反射器模具的方法，其包括：提供其至少一个表面上具有光敏涂层的基底；通过将所述光敏涂层选择性地曝光至一束电磁辐射而在所述光敏涂层中产生表面浮突的微结构化图案；将所述光敏涂层的曝光部分显影，以在所述基底表面上形成反向反射微结构化图案；和将所述反向反射微结构化图案转印到在其表面上包括所述反向反射微结构化图案的反向反射器模具中。
【技术特征摘要】
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