【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种氯霉素分子印迹聚合物膜的制备方法,其特征在于依次按如下步骤进行:a.?将模板分子氯霉素、功能单体甲基丙烯酸二乙基氨基乙酯和交联剂乙二醇二甲基丙烯酸酯按照摩尔比1:4:20溶解于致孔剂四氢呋喃中,超声30min;所述四氢呋喃的用量为5ml/0.25mmol氯霉素;b.?加入引发剂偶氮二异丁腈,超声15min,加入量为10mg/0.25mmol氯霉素;c.?将膜载体浸入b步骤所得溶液中20min,再挤压浸液后的膜载体至没有气泡,放入密封袋,充入氮气,密封且紫外灯照射条件下,引发聚合12h;d.?再将膜载体置于体积比为3:1的甲醇—乙酸混合液中,超声洗脱24小时,得到氯霉素分子印迹聚合物膜。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:张峰,张慧晓,杜幸洁,文永佳,
申请(专利权)人:大连海洋大学,张峰,
类型:发明
国别省市:
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