【技术实现步骤摘要】
本技术涉及磁控溅射镀膜设备领域,特别涉及一种消除阴极背面辉光放电装置。
技术介绍
磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下,与氩原子发生碰撞,使其产生Ar离化,Ar正离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,发生所需要的溅射。磁控溅射设备其关键部分为阴极,而阴极可分为整体腔体内置阴极和部分腔体内置阴极。真空腔体内磁控溅射镀膜设备,阴极正面装备溅射靶材,背面有背板包装和保护磁铁材料。在溅射过程中,等离子体中的Ar正离子以高能量轰击靶表面,发生靶材中原子的溅射。但在设计不合理的情况下,阴极背面也会产生了等离子体,发生不需要的溅射。这样就会导致阴极与阳极间的绝缘块被溅射沉积了一层背板材料的导电薄膜,使得阴极与阳极发生直接连通,即阴极发生了短路现象,产生了绝缘块被烧坏的事情,阴极无法正常工作。经过广泛检索,尚未发现有相关的技术方案。
技术实现思路
本技术的目的是为了解决现阶段磁控溅射设备出现阴极盖板内辉光放电问题等缺点,而提出的一种消除阴极背面辉光放电装置。为了实现上述目的,本技术采用了如下技术方案:一种消除阴极背面辉光放电装置,包括机箱,在机箱中分别设有阳极和阴 ...
【技术保护点】
一种消除阴极背面辉光放电装置,包括阴极背板(1),其特征在于:在阴极背板(1)上设有绝缘板(2),绝缘板(2)将阴极背板(1)的一个面完全覆盖。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:徐根保,钱宝铎,徐学东,金克武,
申请(专利权)人:蚌埠玻璃工业设计研究院,中国建材国际工程集团有限公司,
类型:实用新型
国别省市:
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