一种可移位辐射源架及其工作方法技术

技术编号:9085005 阅读:94 留言:0更新日期:2013-08-28 21:22
本发明专利技术所述的一种可移位辐射源架及其工作方法,可移位辐射源架包括主转动轴,围绕主转动轴均匀设置若干个基片工件盘,主转动轴与各基片工件盘通过连杆连接,基片工件盘下装有使其自转的次传动轴,在基片工件盘旋转面上下两侧分别设有上部可移动加热辐射体和下部可移动加热辐射体。工作时,首先根据基片工件的位置及工件形状,通过CFdesign仿真出最佳的辐射源曲面参数,然后调整辐射加热源的位置,同时进行温度测试,最后通过微调辐射源位置以达到最佳均匀加热温度及加热时间。本发明专利技术可以同时加热多个基片,并均匀加热到理想温度。在提高了镀膜质量的同时还大大提高了镀膜机的效率以及加热源的电能利用率。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种可移位辐射源架,其特征在于,包括设在中间位置的主转动轴,围绕主转动轴均匀设置若干个绕主转动轴旋转的基片工件盘,主转动轴与各基片工件盘通过连杆连接,基片工件盘下装有使其自转的次传动轴,在基片工件盘旋转面上下两侧分别设有上部可移动加热辐射体和下部可移动加热辐射体。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:王朝阳宫睿
申请(专利权)人:无锡启晖光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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