一种具有双旋转机构的OLED镀膜机制造技术

本发明专利技术提供了一种具有双旋转机构的OLED镀膜机。所述双旋转机构组成的OLED镀膜机包括机架、真空室及真空室内部配置的双旋转机构、多个钼舟和驱动双旋转机构的动力系统、钼舟通电加热系统、真空抽气系统、真空室加热系统以及由双旋转机构转速指示和控制、真空抽气系统指示和控制、钼舟通电加热指示和控制、膜层厚度指示和控制、真空室温度指示和控制、总电源指示和控制等子系统组成的仪表柜；其中双旋转机构由位于真空室内上部旋转锅形支架和位于真空室中下部的旋转筒形支架及气体扰动均化机构组成，所述旋转锅形支架和旋转筒形支架均设置有用于固定被蒸镀工件的机构，方便工件的装卸。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种OLED镀膜机，本专利技术尤其适合于制造具有较大尺寸的OLED。
技术介绍
真空蒸镀是OLED (Organic Light-Emitting Diode,即有机发光二极管)器件制备过程的主要方法之一。OLED器件需要在高真空腔室中蒸镀多层有机薄膜，薄膜的质量关系到器件质量和寿命。有机材料的蒸镀目前还存在有效使用率低(〈10%)、蒸镀层上掺杂物成分不均匀性、蒸镀层厚度不均匀、蒸镀速率不稳定、真空腔容易污染等等不足之处，从而导致样片基板的镀膜均匀度达不到器件要求。现有镀膜机工件装夹旋转机构，无论是何种形式的设备，一般仅配置一只或三只旋转锅形支架，虽然均设置有锅形支架的“公转”和“自转”系统，来提高膜层厚度均匀性，但工件装夹数量受限是固有无法克服的缺陷，而且材料是自然蒸发飘散到真空室上部锅形支架上的工件，因此材料利用率较低。现有OLED镀膜材料大部分依赖进口，价格极其昂贵，显然传统镀膜机及其工艺技术已不适合于OLED镀膜。因此，需要一种新的技术方案以解决上述问题。
技术实现思路
本专利技术的目的是针对现有技术存在的不足，提供一种镀膜材料利用率高的具有双旋转机构的OLED镀膜机。为实现上述专利技术 目的，本专利技术具有双旋转机构的OLED镀膜机可采用如下技术方案:一种具有双旋转机构的OLED镀膜机，包括机架、真空室、多个钥舟、动力系统、钥舟通电加热系统、真空抽气系统、真空室加热系统以及仪表柜，仪表柜中包括双旋转机构转速指示和控制系统、真空抽气系统指示和控制系统、钥舟通电加热指示和控制系统、膜层厚度指示和控制系统、真空室温度指示和控制系统、总电源指示和控制系统；真空室内部配置有双旋转机构，所述双旋转机构由位于真空室内上部的旋转锅形支架和位于真空室中下部的旋转筒形支架组成，所述旋转锅形支架和旋转筒形支架均设置有用于固定被蒸镀工件的机构。与现有技术相比，本专利技术本通过在OLED镀膜机真空室内设计工件双旋转机构支架，有效增加了旋转筒形支架框，充分扩大了工件装夹面积，大大增加一炉蒸镀的工件的数量；蒸发源在上述装夹机构优化设计的前提下，几乎完全被装满工件的上下两个工件旋转机构“罩”起来了，蒸发源蒸散出来的气体分子在这个大“罩子”内循环，增加了旋转支架上的工件表面碰撞的几率，提高有机材料的使用率。本专利技术技术对现有OLED镀膜机及镀膜工艺技术有如下几点明显改进:一是提高了膜层的合格率，比较试验约提高了 15%左右；二是增加了一炉(车)的工件数量或工件总镀膜面积50 80%，尤其适合蒸镀超大面积的工件；三是镀膜材料利用率提高一倍以上。根据本技术专利技术，与一般现有技术不同的是双旋转机构有两套工件支架:一套是位于真空室内上部的旋转锅形支架，可以根据产品需要采用单独一只大旋转锅形支架，也可以采用由三只同样尺寸的小锅形支架组成。当采用后一设计时不仅是三只小锅形支架连在一个“三臂”组成的支撑架上，每一条伸出的“臂”的末端连接一只小锅形支架，“三臂”另一端与一带中轴的法兰盘均等分用电焊焊接牢固。法兰盘中轴与真空室顶部的动力驱动系统连接，获得动力旋转，从而带动三只小锅形支架同步旋转，即工件支架的“公转”。在“三臂”上各自还设置有同一设计的传动小轴，小轴上的齿轮与法兰盘中轴上的齿轮啮合获得旋转动力，使得三只小锅形支架在“公转”同时产生“自转”；另一套是由位于沿真空室内周边设置的旋转筒支架组成。三臂末端向下延伸且与旋转筒支架牢固连接，即旋转筒形支架是悬挂在“三臂”组成的整个支撑架上，与三只小锅形支架同步旋转。所以，“双旋转机构”含意有三层:一是有两套旋转机构，即两套工件支架合二为一的共同旋转；二是指气体扰动系统既有“公转”也有“自转”;三是本申请优选采用三只小锅支架的方案，也是既有“公转”也有“自转”。所述旋转锅形支架和旋转筒形支架无论何种设置均具有用于固定被蒸镀工件的机构，且方便工件的装卸。所述旋转锅形支架和旋转筒形支架相对位置的设置，即旋转锅形支架的下边沿(锅边)与旋转筒形支架的上边沿(筒上部周边)距离的大小与调整非常关键。基于兼顾工件装卸便捷和工件膜层均匀(给蒸镀材料加热时常突然蒸发太快造成瞬态气体分子浓度太高且不均匀的情况，出现这种情况旋转锅和旋转筒有一定相对距离，部分材料气体分子可通过此处空隙弥漫飘向真空室壁而驻留下来)两点原因，所以留有30 50mm的间隔距离。根据本专利技术，进一步提供了一种蒸镀气体的扰动均化装置和应用方法，即在所述双旋转机构之一的旋转筒形支架上设置有至少一个气体扰动均化机构。每个气体扰动均化机构均由小圆锥轮、轴、轴承座及旋转叶片构成一个气体扰动总成；轴承座水平设置在所述的旋转筒支架中间靠下部的位置，且通过三支下垂杆或旋转筒形支架框边上预制的垂直长孔来固定，并可根据镀膜工艺控制的需要来调节上下位置，即调整气体扰动均化的点，达到在合理的位置实施扰动；在所述的气体扰动均化机构配置数量> I的情况下，按照其支架筒圆周角度均等分安装，并在圆筒支架框高度上设计上中下三个安装位置，即圆周上角度均布，高度根据需要可调，达到对蒸发材料分子气体充分扰动均化之目的，以满足镀膜层成分及厚度的一致性，提高OLED照明产品的光电特性。在所述真空室沿内圆周边水平设置有一直径的圆锥形齿轮，与所述的至少一个气体扰动均化机构的小圆锥形齿轮啮合，在所述双旋转机构的动力系统的驱动下，旋转筒形支架产生旋转时，啮合齿轮带动至少一个气体扰动均化机构的叶片旋转扰动气体，即所谓“自转”扰动。在所述的小圆锥形齿轮直径和齿牙数量增加或者减小时，在“公转”速度不变的前提下可以减小或增加“自转”速度。并且在所述的小圆锥形齿轮通过延伸臂或旋转筒支架框上预制的垂直孔来调整至少一个气体扰动均化机构的水平高度，满足蒸发材料分子气体充分扰动均化之目的。本申请专利技术技术设置的至少一个气体扰动均化机构，可分布在靠近蒸发源钥舟之上的上上下下的不同 位置，不仅仅是可以对蒸发出来的材料气体分子扰动均化，而且还有加速材料气体分子向工件表面运动的作用，增加气体分子碰撞工件表面的动能，提高一次性或再次性碰撞驻留在工件表面的几率，在保证膜层厚度均匀的前提下提高材料的利用率，减缓各种不同的材料气体对真空室腔体的污染。附图说明图1是示出了根据本专利技术的双旋转机构在真空室内布置示意图。图2是示出了根据本专利技术实施例的气体均化扰动机构的示意图。图3是示出了根据本专利技术实施例的工件旋转筒支架上装配一套气体扰动机构总成的示意图。图4a、图4b和图4c是示出了根据本专利技术优选实施例的3个气体均化扰动机构总成装配在旋转筒支架上以及气体均化扰动机构总成在旋转筒支架上高度位置调整的示意图。图5是示出了根据本专利技术实施例的真空室内沿其周边水平安装的大直径圆锥形齿轮的示意图。图6a及图6b是示出了根据本专利技术实施例的气体均化扰动机构的小圆锥形齿轮的直径增加或减小后 与大直径圆锥齿轮啮合示意图。具体实施例方式下面结合附图和具体实施例，进一步阐明本专利技术，应理解这些实施例仅用于说明本专利技术而不用于限制本专利技术的范围，在阅读了本专利技术之后，本领域技术人员对本专利技术的各种等价形式的修改均落于本申请所附权利要求所限定的范围。图1为根据本专利技术的双旋转机构I在真空室内布置示意图。本实施例采用了一种由双旋转机构I组成的OLED镀膜机。这款OLED镀膜本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有双旋转机构的OLED镀膜机，包括机架、真空室、多个钼舟、动力系统、钼舟通电加热系统、真空抽气系统、真空室加热系统以及仪表柜，仪表柜中包括双旋转机构转速指示和控制系统、真空抽气系统指示和控制系统、钼舟通电加热指示和控制系统、膜层厚度指示和控制系统、真空室温度指示和控制系统、总电源指示和控制系统；其特征在于：真空室内部配置有双旋转机构，所述双旋转机构由位于真空室内上部的旋转锅形支架和位于真空室中下部的旋转筒形支架组成，所述旋转锅形支架和旋转筒形支架均设置有用于固定被蒸镀工件的机构。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吕家东，陈宗烈，龚仕宏，何荣开，
申请(专利权)人：东南大学，江苏豪迈照明科技有限公司，
类型：发明
国别省市：