显微镜检验用试样的制备方法及检查试样覆盖质量的装置制造方法及图纸

一种其上盖有盖玻片的显微镜检验用试样的制备方法。该方法的特征在于覆盖质量被自动地且至少部分地是光学地检查。本发明专利技术还涉及执行该方法的装置、成像装置和用于检查其上盖有盖玻片的试样的覆盖质量的装置，该装置可以快速且可靠地检查被覆盖的试样的覆盖质量。

【技术实现步骤摘要】
显微镜检验用试样的制备方法及检查试样覆盖质量的装置
本专利技术涉及其上盖有盖玻片的显微镜检验用试样的制备方法。本专利技术还涉及用于检查其上盖有盖玻片的试样覆盖质量的装置。
技术介绍
在显微研究的准备过程中，例如可以是诸如组织切片的欲查验的试样通常被放在载玻片上，并在盖上盖玻片之前用覆盖介质进行处理，覆盖介质优选具有适合盖玻片或载玻片折射率的折射率，且起到粘结剂的功能。由于覆盖试样通常是个非常耗时的过程，经常为此使用覆盖机器。例如从DE10144048A1已知用于处理载玻片和盖玻片的装置。使用该装置，借助于由致动臂引导的接纳单元，盖玻片被分别接纳，并置于载玻片上的期望位置。在覆盖过程中会出现多种缺陷。例如，可能会发生盖玻片整个或局部破裂的情况，这会导致覆盖介质露出，形成进一步的缺陷。作为进一步的缺陷，在盖玻片下会出现包含气体；这将在之后的显微查验中造成不利影响，或者使得显微研究实际上不可能进行。当覆盖过程中出现缺陷时，这些缺陷通常只有在显微镜检验中才被发现。这为常规实验室操作带来了大量严重问题，因为这时通常不能重新覆盖试样。尤其是在有大量试样要查验时，例如在连续处理中，这种缺陷导致实验室整体研究效率的大幅度降低，因为整个过程顺序而不仅仅是覆盖过程被打乱了。US5566249公开了一种用于检测覆盖介质中的气泡的装置。该装置包括图像生成器件，盖玻片的图像可以利用该器件产生，而且该器件可实施成自动扫描显微镜。还设有用于识别气泡边缘和用于进一步的图像处理的器件。
技术实现思路
本专利技术的目的是描述一种方法，该方法使避免或者至少减轻前面提到的问题成为可能。这一目的通过一种方法达到，该方法的特征在于，自动地并至少部分在暗场照明下光学地检查覆盖质量。本专利技术进一步的目的是描述一种装置，该装置使快速且可靠地检查其上盖有盖玻片的试样的覆盖质量成为可能。这进一步的目的通过一种装置来实现，该装置的特征在于，自动和至少部分在暗场照明下操作的光学成像装置。已认识到，依照本专利技术，经过早期可靠的覆盖质量检查，会在常规实验室操作中出现的、由于有缺陷地覆盖试样而引起的大量问题能够至少被减轻。关于试样是否是有缺陷地被覆盖的早期检查，和优选地关于检测出的缺陷的种类的辨别，使随后的实验室过程、特别是显微镜检验可以在很大程度上与缺陷地覆盖的试样无关。例如通过重新覆盖，还创造了同时消除所识别的覆盖缺陷的可能性。在本专利技术的一个特定实施例中，进行关于在盖上盖玻片操作后盖玻片是否破损的检查，特别是关于在覆盖操作后盖玻片是否存在裂痕的检查。作为选择地或者另外地，可规定进行在覆盖介质中是否存在包含气体和/或在盖玻片和试样之间是否存在气体包容物的检查。作为选择地或者另外地，还可规定进行是否存在盖玻片表面不规则的检查。为了实施前面提到的检查，可生成盖玻片和/或覆盖介质中有利地至少一个、优选是显微的图像。可特别地规定生成灰度图像作为图像。盖玻片和/或嵌入介质的图像的生成使得特别在生成数字图像数据时可就是否存在覆盖缺陷和/或其特性作出自动的、例如计算机控制的分析。在此可以特别规定，将已知的覆盖缺陷和/或特定地频繁出现的覆盖缺陷的图像模式存储在存储器里，并与所生成图像的图像细节进行比较。盖玻片和/或嵌入介质被适当地照亮以生成图像，在此情况下可特别地规定在明场照明下生成图像。已发现特别有利的是，首先在明场照明下生成第一图像，以对成像的物体进行分类，并选择性地将它们与参考模式进行比较。优选地在(入射)明场照明系统和照相机关于载玻片的轴对称布置的情况下获得图像，结果是大体平行的波前冲击盖玻片的整个表面，良好地反射，并因此也容易被检测出。位于盖玻片下的物体减弱了光线，并且该光线的一部分也行进到探测器。覆盖缺陷，诸如气体包含物、表面不规则、或玻璃裂痕，引起照明光线的反射，该反射与在没有缺陷地覆盖试样的情况下出现的反射完全不同。这一点特别清晰的显示在灰度图像中。其中，气体包含物引起增强的反射，并在图像中表现为明亮区域。盖玻片的表面不规则和裂痕使光线偏转，并在图像中表现为特别暗的区域，因为较少光线从这些区域行进到探测器。通过标定，最优曝光时间被优选地确定，该最优曝光时间允许背景在中性灰度区内成像，因而，特别亮和/或特别暗的区域从背景特别良好地突显出来。当借助定向的照明来照亮试样时，除照明光线在空气-玻璃边界层处的反射之外，也在被封闭的气泡和围绕气泡的覆盖介质(粘结剂)之间的边界层处出现反射。从而，在具有气泡的情况下出现了双重反射，以致气泡在图像中表现为非常特别的明亮区域。优选地，选择如下材料和入射角，即，它们确保背景反射不超过一定值，以使空气包含物的反射总是高于其它部分处的反射，例如在载玻片或盖玻片的边界处的反射。为确保这一点，例如可采用特别是光学涂层的载玻片或盖玻片。优选地，所有参数选择成使背景表现为灰度值100，而图像中的空气包含物具有大约200的灰度值。已发现，如果空气包含物具有相对于背景至少20％的对比度，就可以可靠地识别出空气包含物。盖玻片的表面几何形状与理想的平坦表面的偏差引起入射光以两倍的角度误差被反射。另外，从盖玻片反射出的光线不再表现为完全平坦的波前(Wellenfront)。探测几何形状优选地选择成使从缺陷()反射出的光线不进入探测器。缺陷的图像因此显得比背景暗。特别地，相应地选择探测距离、探测器进入口(Eintrittsblende)尺寸、探测器(例如，照相机)光圈。在一个特别有利的实施例中，由分析装置计算出比背景高出20％以上对比度的区域的轮廓。然后，计算出的区域可以根据灰度值进行滤波，并与覆盖缺陷相关联。代替或除了在明场照明的情况下生成图像，也可规定，在暗场照明的情况下生成图像。特别准确和可靠的是这样的实施例，即，首先在明场中生成第一图像以对成像物体分类，然后在暗场照明下生成第二图像以实现对在明场照明条件下发现的物体的更精确的分类。暗场照明的特征特别是在于照明光线以足够斜度入射到物体上，该斜度使得被反射的光线不射入目标，并因此不有助于图像的产生。由此特别地实现仅折射和散射的光有助于图像的产生。有利地，目标结构因此通常在暗背景上显得亮。例如，暗场照明通过以平角照明(照明光线相对于盖玻片的表面法线的入射角较大)而获得。从而，亮的、边界突出的物体出现在图像中，具有相对于背景的高对比度。在这种情况下可规定，照明呈半圆模式，以使得探测到的物体轮廓也因此不完整和连续。为了对发现一半的图像物体进行准确地分类，可以对在暗场照明下生成的图像进行关于人为因素(如特殊反射)是否出现于图像的同一位置的附加检查。从而，可以特别可靠地区分在图像之一中可探测到的人为因素是否与覆盖缺陷相关联，或者是例如是否由试样自身引起。正如已经提及的，有利地可规定，利用分析装置对图像或多个图像进行自动分析，和/或利用包含数据处理设备的、特别是包含个人计算机的分析装置对图像或多个图像进行自动分析。这种实施方式不仅特别快速，而且也特别可靠和准确。明场照明图像和暗场照明图像都进行生成并随后将这些图像相互比较(例如，通过分析装置)的实施例如前所述以特别可靠的方式提供是否存在覆盖缺陷和涉及哪一种覆盖缺陷的信息。当进行对于在一个图像里探测到的细节是否在另一图像中存在对应细节的检查(例如，利用分析装置)时，这是特别本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种其上盖有盖玻片的显微镜检验用试样的制备方法，其中，自动地且至少部分地在暗场照明下光学地检查覆盖质量。

【技术特征摘要】
2012.02.21 DE 102012101377.21.一种其上盖有玻璃盖玻片的显微镜检验用试样的制备方法，其中，所述制备方法在覆盖机中执行，所述方法包括：自动地且至少部分地在暗场照明下光学地检查玻璃盖玻片在试样上的覆盖质量；使用所述覆盖机检查所述试样的着色质量；为了检查，生成盖玻片的至少一幅图像；通过分析装置来自动地分析所述图像，从而使用所述分析装置自动地识别有缺陷的被覆盖的试样；以及基于所述分析装置的结果，重新覆盖有缺陷的被覆盖的试样，以使得向后续的实验室过程提供无缺陷覆盖的试样。2.根据权利要求1的方法，其特征在于，进行关于如下的检查，即a.在覆盖操作之后盖玻片是否被损坏，和/或b.在覆盖操作之后盖玻片是否存在裂缝，和/或c.在盖玻片中是否存在气体包含物，和/或d.在盖玻片和试样之间是否存在气体包含物，和/或e.是否存在盖玻片表面不规则。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，为了检查，生成盖玻片的至少一幅显微图像。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，灰度图像作为图像被生成。5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，包括如下步骤中的至少一种：a.在图像生成的情况下照亮盖玻片和/或嵌入介质；b.在明场照明下生成图像；c.在暗场照明下生成图像。6.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，通过具有数据处理装置的分析装置自动地分析图像。7.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在明场照明下和暗场照明下生成图像，且将这些图像互相进行比较。8.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，图像获取角和/或照明角度是可调节的。9.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在检查覆盖质量之前，人工地或自动地测量参考图像的平均亮度和/或亮度分布。10.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在检查覆盖质量之前，人工地或自动地测量没有试样的被覆盖的载玻片的平均亮度和/或亮度分布。11.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，由所测量的平均亮度和亮度分布计算用于生成图像的曝光时间。12.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，基于测得的亮度和/或亮度分布来为每个图像实施对所述图像的校正。13.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，基于测得的亮度和/或亮度分布来为每个图像实施对所述图像的明暗校正。14.根据权利要求1到11之一所述的方法，其特征在于，a.生成总图像；和/或b.读出试样特征码。15.根据权利要求1到11之一所述的方法，其特征在于，a.生成总图像；和/或b.读出附连于载玻片或盖玻片的条形码。16.根据权利要求1到2之一所述的方法，其特征在于，a.在不同条件下按时间顺序依次检查相同的覆盖结果。17.根据权利要求1到2之一所述的方法，其特征在于，a.检查试样的着色质量和/或色彩强度。18.根据权利要求1到2之一所述的方法，其特征在于，a.检查苏木精-曙红着色剂的着色质量和/或色彩强度。19.根据权利要求1到2之一所述的方法，其特征在于，将关于覆盖质量的数据和/或试样特征码传送到更高水平的数据处理系统。20.根据权利要求1到2之一所述的方法，其特征在于，将关于覆盖质量的数据和/或附连于载玻片或盖玻片的条形码传送到更高水平的数据处理系统。21.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，由所测量的平均亮度或亮度分布计算用于生成图像的曝光时间。22.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在明场照明下和暗场照明下生成图像，且对于一幅图像中探测到的细节检查在另一图像中是否存在对应细节。23.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，图像获取角和/或照明角度是可无级调节的。24.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，由所测量的平均亮度和/或亮度分布，以实现用于背景的预定或可预定的亮度的方式计算用于生成图像的曝光时间。25.根据权利要求1到11之一所述的方法，其特征在于，a.借助用于检查覆盖质量的成像装置生成总图像；和/或b.借助用于检查覆盖质量的成像装置读出试样特征码。26.根据权利要求25所述的方法，其特征在于，借助用于检查覆盖质量的成像装置.在明场照明的情况下读出试样特征码。27.根据权利要求1到11之一所述的方法，其特征在于，a.借助用于检查覆盖质量的成像装置生成总图像；和/或b.借助用于检查覆盖质量的成像装置读出附连于载玻片或盖玻片的条形码。28.根据权利要求27所述的方法，其特征在于，借助用于检查覆盖质量的成像装置.在明场照明的情况下读出附连于载玻片或盖玻片的条形码。29.根据权利要求1到2之一所述的方法，其特征在于，在不同条件下和/或在不同的实验工位处按时间顺序依次检查相同的覆盖结果。30.根据权利要求1到2之一所述的方法，其特征在于，关于试样的着色质量和/或色彩强度，附加地检查借助用于检查覆盖质量的成像装置生成的图像。31.根据权利要求1到2之一所述的方法，其特征在于，关于苏木精-曙红着色剂的着色质量和/或色彩强度，附加地检查借助用于检查覆盖质量的成像装置生成的图像。32.根据权利要求19所述的方法，其特征在于，与更高水平的数据处理系统交换数据。33.根据权利要求20所述的方法，其特征在于，与更高水平的数据处理系统交换数据。34.一种用于执行根据权利要求1到33之一的方法的装置。35.一种用于检查其上盖有玻璃盖玻片的试样的覆盖质量的装置，其特征在于：自动地且至少部分地在暗场照明下操作的光学成像装置，以检查所述玻璃盖玻片在所述试样上的覆盖质量；成像装置，为了检查，盖玻片的至少一幅图像被生成；分析装置，通过所述分析装置来自动地分析所述图像，由此自动地识别有缺陷的被覆盖的试样；其中，检查在覆盖机中执行，并且使用所述覆盖机检查所述试样的着色质量，其中，基于所述分析装置的结果，有缺陷的被覆盖的试样被重新覆盖，以使得向后续的实验室过程提供无缺陷覆盖的试样。36.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：B·奈夫，C·维尔克，KH·维斯特霍夫，
申请(专利权)人：徕卡生物系统努斯洛克有限公司，
类型：发明
国别省市：