一种双R地轨制造技术

技术编号:9018534 阅读:144 留言:0更新日期:2013-08-09 02:07
本实用新型专利技术公开了一种双R地轨,包括底面和两个与所述底面垂直连接的竖直面,所述两个竖直面上均连接有一向下延伸的弧形面,所述竖直面与弧形面上端部的切面相重合,所述底面与弧形面下端部的切面相重合。本实用新型专利技术解决了现有技术中地轨两侧易积灰的问题,通过在地轨上设置弧形面,使地轨与底面之间的存在一个弧形坡度,且弧形面的两个切面分别于地轨的竖直面和底面相重合,避免在连接处积灰尘,且便于清洁。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及了一种双R地轨,属于洁净室

技术介绍
在医药、电子等领域,要求洁净室能实现无尘化。而地轨是洁净室中常用的一种装修器材,现有的地轨都是普通的直角形状,容易在地轨两侧与地面之间的连接处积灰尘,而且不易打扫,无法满足洁净室的洁净等级要求,影响生产。
技术实现思路
本技术提供了一种双R地轨,通过在地轨上设置弧形面,使地轨与底面之间存在一个弧形坡度,避免在连接处积灰尘,且便于清洁。为了解决上述技术问题,本技术所采用的技术方案是:一种双R地轨,包括底面和两个与所述底面垂直连接的竖直面,所述两个竖直面上均连接有一向下延伸的弧形面。前述的一种双R地轨,其特征在于:所述竖直面与弧形面上端部的切面相重合,所述底面与弧形面下端部的切面相重合。前述的一种双R地轨,其特征在于:所述弧形面的高度为所述竖直面高度的1/4-1/3。本技术的有益效果是:通过在地轨上设置弧形面,使地轨与地面之间存在一个弧形坡度,且弧形面的两个切面分别于地轨的竖直面和底面相重合,避免在连接处积灰尘,且便于清洁。附图说明图1是本技术一种双R地轨的结构示意图。具体实施方式下面将结合说明书附图,对本技术作进一步的说明。如图1所示,一种双R地轨,包括底面2和两个与所述底面2垂直连接的竖直面1,所述两个竖直面I上均连接有一向下延伸的弧形面3,通过弧形面3起到导向的作用,使地轨两侧的灰尘不易堆积,且便于清洁。所述竖直面I与弧形面3上端部的切面相重合,所述底面2与弧形面3下端部的切面相重合,所述弧形面3的高度为所述竖直面I高度的1/4-1/3,保证了弧形面3与竖直面1、地面之间的平滑连接,能有效避免积灰。综上所述,本技术提供的一种双R地轨,通过在地轨上设置弧形面,使地轨与底面之间存在一个弧形坡度,避免在连接处积灰尘,且便于清洁。以上显示和描述了本专利技术的基本原理、主要特征及优点。本行业的技术人员应该了解,本专利技术不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本专利技术的原理,在不脱离本专利技术精神和范围的前提下,本专利技术还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要 求保护的本专利技术范围内。本专利技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界。权利要求1.一种双R地轨,包括底面(2)和两个与所述底面(2)垂直连接的竖直面(I),其特征在于:所述两个竖直面(I)上均连接有一向下延伸的弧形面(3)。2.根据权利要求1所述的一种双R地轨,其特征在于:所述竖直面(I)与弧形面(3)上端部的切面相重合,所述底面(2)与弧形面(3)下端部的切面相重合。3.根据权利要求1或2所述的一种双R地轨,其特征在于:所述弧形面(3)的高度为所述竖直面(I)高度的1 /4-1/3。专利摘要本技术公开了一种双R地轨,包括底面和两个与所述底面垂直连接的竖直面,所述两个竖直面上均连接有一向下延伸的弧形面,所述竖直面与弧形面上端部的切面相重合,所述底面与弧形面下端部的切面相重合。本技术解决了现有技术中地轨两侧易积灰的问题,通过在地轨上设置弧形面,使地轨与底面之间的存在一个弧形坡度,且弧形面的两个切面分别于地轨的竖直面和底面相重合,避免在连接处积灰尘,且便于清洁。文档编号E01B5/00GK203113160SQ20132002979公开日2013年8月7日 申请日期2013年1月21日 优先权日2013年1月21日专利技术者黄清龙 申请人:龙隆无尘设备(昆山)有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种双R地轨,包括底面(2)和两个与所述底面(2)垂直连接的竖直面(1),其特征在于:所述两个竖直面(1)上均连接有一向下延伸的弧形面(3)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:黄清龙
申请(专利权)人:龙隆无尘设备昆山有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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