用于流体控制装置监测的设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种用于流体控制装置监测的设备。示例性的设备包括主体，轴延伸穿过所述主体。所述轴被耦接到致动器。所述轴的角位置基于所述致动器的位置。所述设备包括耦接到所述轴的标靶和包括使用者可配置的开关和接近开关的电路。所述使用者可配置的开关可被配置到第一状态或第二状态。当使用者可配置的开关处于第一状态并且所述标靶远离所述接近开关时，所述电路将输出第一信号。当所述使用者可配置的开关处于第二状态并且所述标靶远离所述接近开关时，所述电路将输出不同于所述第一信号的第二信号。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本申请大体上涉及一种流体控制装置，更具体地，涉及一种用于流体控制装置监测的设备。
技术介绍
传感器被用来确定实际的阀门位置。基于传感器读数，传感器输出一个值，该值可用来控制阀门的位置。
技术实现思路
根据本公开的教导的一个示例性设备包括主体，轴延伸穿过所述主体。所述轴被耦接到致动器。所述轴的角位置基于所述致动器的位置。所述设备包括耦接到所述轴的标靶以及包括使用者可配置的开关和接近开关的电路。所述使用者可配置的开关可被配置到第一状态或第二状态。当所述使用者可配置的开关处于第一状态并且所述标靶远离所述接近开关时，所述电路将输出第一信号。当所述使用者可配置的开关处于第二状态并且所述标靶远离所述接近开关时，所述电路将输出不同于所述第一信号的第二信号。根据本公开的教导的另一示例性设备包括电阻器和第一开关、第二开关。所述电阻器与所述第一开关、所述第二开关并联。所述第一开关与所述第二开关串联。所述第一开关响应于标靶，并且所述第二开关响应于使用者输入。当所述标靶接近所述第一开关或当所述标靶远离所述第一开关时，所述设备的输出基于所述使用者输入而改变。附图说明图1是用来监 测流体控制装置的示例性设备的示意图；图2是能够用来实施图1中的示例性设备的示例性电路的示意图。具体实施方式上面的附图中示出了一些实施例，并将在下面进行详细描述。在描述这些实施例时，相似或相同的附图标记用来表示相似或相同的元件。为了清楚和/或简明，这些附图不需要按比例绘制，附图的某些特征和某些视图可以按比例放大显示或概略显示。此外，在整个说明书中已经描述了数个实施例。任一实施例的任何特征可与其它实施例的其它特征包括在一起，或被其代替或与其它实施例的其它特征结合。这里描述的实施例涉及用于流体控制装置监测的可配置的Namur接口电路和/或阀门顶部监测系统。如果标靶存在，电流输出根据示例性电路的配置而增加或减小。因此，当标靶存在或不存在时，单个设备可用在具有不同电气要求的应用中，同时输出标准的Namur开关电流强度。在一些实施例中，该接口电路提供具有Exna认证的Namur输出，从而不需要额外的固有安全屏障。在一些实施例中，Namur电路包括场效应晶体管(FET)、第一和第二电阻器、使用者可配置的开关和接近传感器(例如，机械式接近开关)。为了基于相同的接近传感器读数来提供不同的结果(例如，高或低电流输出)，使用者可配置的开关响应于使用者的设置。例如，如果该使用者可配置的开关处于第一状态和/或设置并且接近传感器处于正常关闭的位置，输出电流可以是第一值或较高的值(例如，3毫安和/或大于3毫安)。但是，如果当接近开关处于正常关闭的位置时，使用者可配置的开关处于第二状态和/或设置，输出电流可以是第二值和/或较低的值(例如，I毫安和/或小于3毫安)。图1示出了示例性设备100，一个或多个设备100用来监测流体控制装置的位置。设备100包括壳体102，位置监测器(例如，阀门位置监测器)104安装在壳体102内。位置监测器104包括延伸穿过壳体102的轴105和安装在壳体102内的电路(例如，恒定电流电路)106。开关108和开关和/或传感器110被耦接到电路106。在其它实施例中，电路106不再处于开关108和/或开关110的外部，电路106可与开关108和/或开关110集成一体。开关108可以是使用者可配置的开关(例如双列直插式开关(dip switch))，其响应于使用者输入，并且开关110可以是接近传感器或开关，其响应于一个或多个标靶112、114。标靶112、114可以是金属、磁铁、铁磁体材料等。在一些实施例中，开关108、开关110和/或壳体102可被不透气地密封，以允许设备100用于危险和/或水下位置。在一些实施例中，设备100的壳体102和/或其它组件可以使用耐高温的材料(例如，塑料)来制造和/或模塑，以允许设备100用在高温环境中。在一些实施例中，壳体102可包括一个或多个内部和/或外部发光二极管(例如，LED)，用来指示开关108和/或开关110的状态。在运行中，电路106接收在大约8到30伏直流电压之间的输入电压，耦接到致动器的轴105基于致动器的位置 来改变其旋转位置和/或角位置。标靶112、114相对于开关110的位置基于轴105的位置而变化。标靶112、114可移动地耦接在耦接到轴105的从动件和/或分段板120的各个槽(例如，有锯齿形边缘的槽)116、118内。电路106的电流输出基于标靶114相对于开关110的位置而变化。在一些实施例中，如果开关110检测到标靶114且开关108处于第一状态，电路106不会短路，且电流输出比较低。在一些实施例中，如果开关110检测到标靶114且开关108处于第二状态，电路106短路，且电流输出比较高。因此，示例性设备100能够用在不同的应用中，这些应用的电气配置在标靶114存在时期望电流强度较高或较低。图2示出了根据本公开的教导的示例性电路200。电路200包括端子202、204、例如双向二极管的瞬态电压保护器206、第一电阻器208、FET210和电流控制电路212。在一些实施例中，电流控制电路212包括第二电阻器214和第一、第二开关216、218。在该实施例中，第一电阻器208与第二电阻器214和/或第一、第二开关216、218串联耦接，并且第一和第二开关216、218串联耦接。在一些实施例中，第一开关216是使用者可配置的双列直插式开关和/或单极双郑开关，并响应于使用者输入，而第二开关218是响应于标靶(例如，标靶114)的接近传感器或开关。在运行中，根据所期望的输出，第二开关218可以处于第一状态和/或被耦接到正常闭合的部分(NC2) 220或处于第二状态和/或耦接到正常断开的部分(N02)222。当第一、第二开关216、218被耦接到正常闭合的部分220 (例如，处于第一状态)时，如图2中所示，第二电阻器214短路，FET210的栅极和源极的有效电压增加。FET210的电压的增加引起流过FET210的电流(例如，第一电流值和/或输出)的增加。当第一开关216被耦接到正常闭合的部分220 (例如，处于第一状态)且第二开关218被耦接到正常断开的部分222 (例如，标靶存在，处于第二状态)时，第二电阻器214不会短路，FET210的栅极和源极的有效电压减小。FET210的电压的减小引起流过FET210的电流(例如，第二电流值和/或输出)的减小。当第一开关216被耦接到正常断开的部分222并且第二开关218被耦接到正常闭合的部分220时，第二电阻器214不会短路，且输出电流减少。当第一开关216和第二开关218被耦接到正常断开的部分222时，第二电阻器214短路，输出电流增加。如这里所述，示例性的设备包括主体，轴延伸穿过所述主体。所述轴被耦接到致动器。所述轴的角位置基于所述致动器的位置。所述设备包括耦接到所述轴的标靶和包括使用者可配置的开关和接近开关的电路。所述使用者可配置的开关可被配置到第一状态或第二状态。当使用者可配置的开关处于第一状态并且所述标靶远离所述接近开关时，所述电路将输出第一信号。当所述使用者可配置的开关处于第二状态并且所述标靶远离所述接近开关时，所述电路将输出不同于所述第本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于流体控制装置监测的设备，其特征在于，包括：?主体，轴延伸穿过所述主体，所述轴被耦接到致动器，所述轴的角位置基于所述致动器的位置；?标靶，其耦接到所述轴；以及?电路，其包括使用者可配置的开关和接近开关，所述使用者可配置的开关能够被配置到第一状态或第二状态，其中当所述使用者可配置的开关处于所述第一状态并且所述标靶远离所述接近开关时，所述电路将输出第一信号，其中当所述使用者可配置的开关处于所述第二状态并且所述标靶远离所述接近开关时，所述电路将输出不同于所述第一信号的第二信号。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：B·里斯比，M·西蒙斯，J·弗罗伊德，B·拉方添，B·佩宁，
申请(专利权)人：通用设备和制造公司，
类型：实用新型
国别省市：