基于异质结光栅的偏振滤波器及制备方法技术

基于异质结光栅的偏振滤波器及制备方法，属于偏振滤波器技术领域。在基底上的一维激光干涉图案由相邻的两种不同周期的金属激光干涉图案连接组成，两种激光干涉图案的条纹方向一致，两种不同周期的激光干涉图案的周期之比范围为0.6-1.5，入射光所在的激光干涉图案的周期范围为200nm-2000nm。将记录介质溶液旋涂在基底上，将两种不同周期的激光干涉图案分别与连续记录介质薄膜的两个相邻区域作用，显影、定影，将金属纳米颗粒溶胶旋涂在异质结纳米光栅结构上，加热即可。本发明专利技术方法无需使用昂贵的设备，成本低。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于偏振滤波器
，尤其涉及基于异质结光栅的偏振滤波器，利用激光干涉光刻方法制作大面积的异质结纳米光栅，把金属纳米颗粒溶胶旋涂在纳米光栅上，退火后即可得到金属结构的异质结光栅，该器件具有偏振滤波功能。
技术介绍
具有偏振滤波功能的金属纳米结构是国际上广泛关注的研究课题，在实际应用和基础研究中都具有重要意义。金属纳米光栅结构的传统制作方法有:电子束光刻、反应离子束刻蚀、纳米压印技术等，但这些方法工艺复杂、设备昂贵、效率低，不利于偏振滤波器件的实际应用开发。而干涉光刻具有工艺简单，能够低成本地制作大面积无缺陷的各种纳米结构。将干涉光刻引入异质结光栅结构的偏振滤波器件的制作具有重要的应用价值。
技术实现思路
本专利技术目的是提出一种基于异质结光栅的偏振滤波器，利用激光干涉光刻制作异质结光栅结构，再将金属纳米颗粒溶胶旋涂在异质结光栅结构上，退火后得到高效率的偏振滤波器。一种基于异质结光栅的偏振滤波器，其特征在于，在基底上的一维激光干涉图案由相邻的两种不同周期的金属激光干涉图案连接组成(见图3)，两种激光干涉图案的条纹方向一致，两种不同周期的激光干涉图案的周期之比(A2Z^A1)范本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于异质结光栅的偏振滤波器，其特征在于，在基底上的一维激光干涉图案由相邻的两种不同周期的金属激光干涉图案连接组成，两种激光干涉图案的条纹方向一致，两种不同周期的激光干涉图案的周期之比Λ2/Λ1范围为0.6?1.5，入射光所在的激光干涉图案的周期Λ1范围为200nm?2000nm。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：翟天瑞，林远海，张新平，刘红梅，王丽，
申请(专利权)人：北京工业大学，
类型：发明
国别省市：