一种基于各向异性和各向同性混合薄膜反射式位相延迟片，由基底、各向同性的高低折射率膜层周期性交替组成的高反射膜层以及各向异性的位相延迟层一体构成，各向同性的高反射膜可以实现入射光高反射，各向异性薄膜层为反射位相延迟层，本发明专利技术在正入射条件下，可以实现两种入射偏振光波的偏振分离，获得特定的反射位相差。反射位相差通过调节各向异性薄膜层的倾斜沉积角度和厚度来实现，具有很高的设计灵活性。本发明专利技术中各向异性薄膜层的引入为反射式位相延迟片的设计提供了新方法。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及位相片，特别是一种各向异性和各向同性混合薄膜反射式位相延迟片。
技术介绍
在激光在光学元件表面传输中，根据由入射激光与光学元件界面法线构成的入射面，可以将入射光波可以分为水平偏振光及垂直偏振光，即TE和TM两种偏振态光波，在许多应用中需要使用位相延迟片对入射光波的偏振态进行调制，实现各类偏振态之间的相互转化或偏振面的旋转。位相延迟片可以实现对于入射两种偏振态光波固定的位相差，如常用的四分之一波片，可以在特定波长获得入射两种偏振态光波90 °的位相差，将线偏振光转化为圆偏振光，或将圆偏振光转化为线偏振光，二分之一波片可以在特定波长获得入射两种偏振态光波180°的位相差,改变入射线偏振光的偏振方向。传统的位相延迟片或者使用各类各向异性块体材料，如非环状烯烃单体-环状烯烃单体-芳香族乙烯基单体构成的高分子聚合物(参见CN138 5 718A )、液晶(参见 CN1078049A, CN102707362A)、双折射晶体材料(参见 CN102383808A, CN102508328A,CN102508364A)等，但以上设计基于体材料的本征各向异性，且只能作为透射类元件。对于各向同性薄膜，在倾斜入射下存在偏振分离效应，可以利用斜入射下薄膜的偏振分离特性设计位相延迟器件，如CN201166717Y，借助于两个斜入射的薄膜型位相延迟薄膜，两个光学调整架以及一个精密调整平台可以实现可调的位相延迟功能，虽然此类设计是反射型位相延迟器件，但实现位相延迟功能的需要多个部件组合在一起才能实现相应的位相延迟功能，系统设计较为复杂，另外，位相相延薄膜为斜入射下使用，结构不紧凑。因此，专利技术一种简易可行，易于实现的正入射反射式位相延迟片具有强烈的应用需求，而且提供一种新的反射式位相延迟片的设计方法也是很有必要的。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种各向异性和各向同性混合薄膜反射式位相延迟片，该位相延迟片在光波正入射条件下TE和TM两种偏振态光波偏振分尚，且两种偏振态光波在工作波长范围内均具有很高的反射率及特定的反射位相差。各向异性和各向同性混合薄膜反射式位相延迟片的反射位相差由各向异性膜层材料选择、膜层倾斜沉积过程中沉积角度控制和薄膜厚度来实现，因而具有很高的设计灵活性。为了实现这一目的，本专利技术的技术解决方案如下:一种各向异性和各向同性混合薄膜反射式位相延迟片，其特点在于是由基底上依次镀制的高反射膜和各向异性薄膜层一体构成，所述的高反射膜的结构为(HL) ，其中H为高折射率层，L为低折射率膜层，X为高折射率层和低折射率膜层重复的次数，所述的高反射膜的最外层为高折射率层，每一膜层的光学厚度为四分之一使用波长λ，所述的各向异性薄膜层使用倾斜沉积技术制备，膜层的结构参数与膜层材料、倾斜沉积中沉积角度及该膜层的光学厚度决定该双折射薄膜反射式位相延迟片的反射位相延迟量。所述的各向异性薄膜层采用倾斜沉积技术制备，在倾斜沉积条件下，电子束蒸发技术制备的薄膜呈现明显的柱状结构，薄膜的结构参数与基片法线相对于蒸发源的倾斜角度密切相关。倾斜沉积条件下各向异性的微结构导致各向异性的光学介电常数。各向异性薄膜材料为氧化物材料，利用电子束蒸发方式将膜料加热后沉积在所述的高反射膜上，所述的基片的法线相对于蒸发源的倾斜角度通过步进电机控制，在镀制各向异性薄膜时，氧气纯度大于99.999%，充入量为20sccm-25sccm，沉积速率为0.4nm/s 0.6nm/s。所述的基底为玻璃。本专利技术的依据如下:在倾斜沉积条件下，电子束蒸发技术制备的薄膜呈现明显的柱状结构，薄膜的结构参数与基片法线相对于蒸发源的倾斜角度密切相关，薄膜各向异性的微结构导致各向异性的光学介电常数。附图说明图1是本专利技术各向异性和各向同性混合薄膜反射式位相延迟片的截面结构示意图，其中3为各向异性的位相延迟层，与各向同性膜层只有一个折射率不同，该层薄膜有三个主轴折射率。当各向异性薄膜的两个折射率主轴方向位于薄膜的入射面内时，即薄膜的主截面与主平面重合，入射光波在各向异性薄膜内传输时两种偏振态光波不发生耦合，在薄膜内部独立传输:入射的s分量光波的传输行为与各向同性介质中寻常光波(O光)的传输相同，只由薄膜的主轴折射率n3及薄膜厚度d决定，出射光波完全为s偏振态，正入射时s偏振入射光波折射率为: ns = n3，其特征矩阵可以表示为权利要求1.一种各向异性和各向同性混合薄膜反射式位相延迟片，其特征在于是由基底上依次镀制的各向同性的高反射膜(4)和各向异性薄膜层(3) —体构成，所述的高反射膜(4)的结构为(HL) XH，其中H为高折射率层(I )，L为低折射率膜层(2)，X为高折射率层(I)和低折射率膜层(2)重复的次数，所述的高反射膜(4)的最外层为高折射率层(1)，每一膜层的光学厚度为四分之一使用波长λ，所述的各向异性薄膜层(3)的光学厚度及该膜层制备时的倾斜沉积角度决定反射式位相延迟片的反射位相延迟量。2.根据权利要求1所述的各向异性和各向同性混合薄膜反射式位相延迟片，其特征在于所述的高反射膜(4)使用传统的物理气相沉积技术制备，所述的各向异性薄膜层(3)采用倾斜沉积技术制备，利用电子束蒸发方式将薄膜材料沉积在光学基片上，利用步进电机控制基片法线相对于蒸发源的倾斜角度，从而获得各向异性薄膜层(3)，使用电子束蒸发方式镀制各向异性的氧化物材料时，氧气纯度大于99.999%，充入量为20-25SCCm，材料沉积速率为0.4 0.6nm/S。3.根据权利要求1所述的各向异性和各向同性混合薄膜反射式位相延迟片，其特征在于所述的基底为玻璃。全文摘要一种基于各向异性和各向同性混合薄膜反射式位相延迟片，由基底、各向同性的高低折射率膜层周期性交替组成的高反射膜层以及各向异性的位相延迟层一体构成，各向同性的高反射膜可以实现入射光高反射，各向异性薄膜层为反射位相延迟层，本专利技术在正入射条件下，可以实现两种入射偏振光波的偏振分离，获得特定的反射位相差。反射位相差通过调节各向异性薄膜层的倾斜沉积角度和厚度来实现，具有很高的设计灵活性。本专利技术中各向异性薄膜层的引入为反射式位相延迟片的设计提供了新方法。文档编号G02B5/30GK103197367SQ20131012598公开日2013年7月10日 申请日期2013年4月12日 优先权日2013年4月12日专利技术者齐红基, 侯永强, 朱美萍, 易葵 申请人:中国科学院上海光学精密机械研究所本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种各向异性和各向同性混合薄膜反射式位相延迟片，其特征在于是由基底上依次镀制的各向同性的高反射膜（4）和各向异性薄膜层（3）一体构成，所述的高反射膜（4）的结构为(HL)xH，其中H为高折射率层（1），L为低折射率膜层（2），x为高折射率层（1）和低折射率膜层（2）重复的次数，所述的高反射膜（4）的最外层为高折射率层（1），每一膜层的光学厚度为四分之一使用波长λ，所述的各向异性薄膜层（3）的光学厚度及该膜层制备时的倾斜沉积角度决定反射式位相延迟片的反射位相延迟量。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：齐红基，侯永强，朱美萍，易葵，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：
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