一种用于光通信的光纤滤波结构制造技术

本实用新型专利技术提供一种用于光通信的光纤滤波结构，包括通信光纤，通信光纤的发射端端面上镀有滤光膜层，滤光膜层包括交替沉积在光纤发射端面的Ge膜层和ZnS膜层，Ge膜层为两层，ZnS膜层为三层，滤光膜层的最上层为ZnS膜层，透光膜层上还设有增透膜层，增透膜层包括一SiO2膜层和一MgF2膜层，SiO2膜层沉积在所述透光膜层上，MgF2膜层沉积在所述SiO2膜层上。该光通信光纤滤波结构省去的玻璃基片，直接将滤光膜层溅镀在通信光纤发射端的端面上，这样不但可以有效减小光通信器件的体积，而且可以提高光通信器件的透光率，据检测该滤光片对波长在500-1200nm的之间的光透光度可达96%以上。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及光通信领域，特别涉及一种用于光通信的光纤滤波结构。
技术介绍
光通信是指以光作为信息载体而实现的通信方式，按传输介质的不同可分为大气激光通信和光纤通信两种。光通信具有通信容量大、传输距离长、抗电磁干扰、传输质量佳、信号串扰小、保密性好等优点，是未来传输网络发展的最终目标，具有非常广阔的市场前景。光通信是通过光耦合器或者光复用器是把不同波长的光复用到一根光纤中的，不同的波长传载着不同的信息，在接收端通过光滤波器是用来进行波长选择，从众多的波长中挑选出所需的波长，而除此波长以外的光将会被拒绝通过。在光通信产品中光滤波器的主要部件为滤光片，滤光片在光通信产品中起着致关重要的作用。随着空间技术和光学器件的迅速发展，红外光学系统的应用越来越受到重视，光信号信号必须经过滤光片、防护窗口等进行时间和空间的滤波，这就要求光在通过滤光片时其辐射量须尽可能的以最大值传输，这样就需要根据不同的要求在滤光片上镀制满足要求的薄膜。在现有技术中，为了增加透光率，通常需要在滤光片上镀制不同厚度的膜层。随着通信设备不断向小型化、微型化的方向发展，如何减小器件的体积成为很多设备生产厂家亟需要解决的一个技术问题。有些生产厂家将镀膜直接镀在薄膜上，在使用时直接将薄膜从镀膜上揭开，将镀膜层作为滤光片使用，采用这种方式虽然可以在一定程度上减小器件的体积，但这种镀膜层强度不够，非常容易损坏，因此并不实用。
技术实现思路
鉴于以上所述现有技术的缺点，本技术的目的在于提供一种无需使用滤光器就可进行滤波的光纤结构。为实现上述目的及其他相关目的，本技术提供一种用于光通信的光纤滤波结构，包括通信光纤，所述通信光纤固定在安装座上，所述通信光纤的发射端端面上镀有滤光膜层，所述滤光膜层包括交替沉积在光纤发射端面的Ge膜层和ZnS膜层，所述Ge膜层为两层，ZnS膜层为三层，所述滤光膜层的最上层为ZnS膜层，所述透光膜层上还设有增透膜层，所述增透膜层包括一SiO2膜层和一MgF2膜层，所述SiO2膜层沉积在所述透光膜层上，所述MgF2膜层沉积在所述SiO2膜层上。优选地，所述滤光膜层与所述通信光纤的发射端端面之间还设有一层含二氧化硅纳米材料的氮化硅层。优选地，所述氮化硅层的厚度为35-72nm。优选地，所述滤光膜层由内向外，第一层ZnS膜层厚度为102-105nm，第一层Ge膜层厚度为345-350nm，第二层ZnS膜层厚度为153-157.5nm，第二层Ge膜层厚度为690-700nm，第三层ZnS膜层厚度为204-210nm。优选地，所述SiO2膜层厚度为125-126nm，MgF2膜层厚度为49-51nm。优选地，所述增透膜层上还设有一层金刚石晶体膜层，所述金刚石晶体膜层厚度为78-79nm。本技术公开的用于光通信的光纤滤波结构具有以下有益效果：该光通信光纤滤波结构省去的玻璃基片，直接将滤光膜层溅镀在通信光纤发射端的端面上，这样不但可以有效减小光通信器件的体积，而且可以提高光通信器件的透光率，据检测该滤光片对波长在500-1200nm的之间的光透光度可达96%以上；同时在增透膜层上还设有金刚石晶体膜层，这样会使光纤具有极高的硬度和良好的机械强度，耐酸碱性非常的好，不易潮解，可以在各种恶略环境下使用，该光纤滤波结构镀膜层数较少，工艺简单，在提高透光率的同时，有效降低生产成本。附图说明图1为本技术实施例的结构示意图。图2为本技术实施例通信关系端面镀层的结构示意图。图3为本技术实施例透光率的特性图。元件标号说明1、光纤11、发射端端面110、氮化硅层111、第一层ZnS膜层112、第一层Ge膜层113、第二层ZnS膜层114、第二层Ge膜层115、第三层ZnS膜层116、SiO2膜层117、MgF2膜层118、金刚石晶体膜层2、安装座。具体实施方式以下由特定的具体实施例说明本技术的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本技术的其他优点及功效。请参阅图1至图3。须知，本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本技术可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本技术所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本技术所揭示的
技术实现思路
得能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本技术可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更
技术实现思路
下，当亦视为本技术可实施的范畴。如图1、2所示，本技术提供一种用于光通信的光纤滤波结构，其包括通信光纤1，为了便于安装，通信光纤1固定在安装座2上，安装座2安装在通信部件的盒体上。与原有结构不同滤波器结构不同，在滤波器直接在通信光纤1发射端端面11上镀有滤光膜层，而不设置滤光片。为了增加附着力，在溅镀滤光膜层之前，可先在发射端端面11上先设置一层含二氧化硅纳米材料的氮化硅层110，氮化硅层110的厚度不易过大也不易过小，过大会影响透光率，过小则起不到增加附着力的效果，作为一种优选方式，二氧化硅纳米材料的氮化硅层110的厚度可设置在35-72nm之间。滤光膜层设置在氮化硅层110上，滤光膜层包括交替沉积在光纤发射端面的Ge膜层和ZnS膜层，其中Ge膜层为两层，ZnS膜层为三层，滤光膜层的最上层为ZnS膜层，透光膜层上还设有增透膜层，增透膜层包括一SiO2膜层和一MgF2膜层，SiO2膜层沉积在所述透光膜层上，MgF2膜层沉积在SiO2膜层上。作为一种具体实施方式，滤光膜层由内向外，第一层ZnS膜层111厚度为102-105nm，第一层Ge膜层112厚度为345-350nm，第二层ZnS膜层113厚度为153-157.5nm，第二层Ge膜层114厚度为690-700nm，第三层ZnS膜层115厚度为204-210nm，SiO2膜层116厚度为125-126nm，MgF2膜层117厚度为49-51nm。为了增加滤光膜层的强度，在增透膜层上还设有一层金刚石晶体膜层118，金刚石晶体膜层118厚度为78-79nm。刚石晶体膜层4的折射率与SiO2膜层的折射率相同，因此不会影响滤光片的透光率，同时可有效增加光纤端面的硬度和机械强度，因此耐酸碱性更好，不易潮解，可以在各种恶略环境下使用。该光通信光纤滤本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于光通信的光纤滤波结构，包括通信光纤，所述通信光纤固定在安装座上，其特征在于：所述通信光纤的发射端端面上镀有滤光膜层，所述滤光膜层包括交替沉积在光纤发射端面的Ge膜层和ZnS膜层，所述Ge膜层为两层，ZnS膜层为三层，所述滤光膜层的最上层为ZnS膜层，所述滤光膜层上还设有增透膜层，所述增透膜层包括一SiO2膜层和一MgF2膜层，所述SiO2膜层沉积在所述滤光膜层上，所述MgF2膜层沉积在所述SiO2膜层上。

【技术特征摘要】
1.一种用于光通信的光纤滤波结构，包括通信光纤，所述通信光纤固定在安装座上，其
特征在于：所述通信光纤的发射端端面上镀有滤光膜层，所述滤光膜层包括交替沉积在光
纤发射端面的Ge膜层和ZnS膜层，所述Ge膜层为两层，ZnS膜层为三层，所述滤光膜层的最上
层为ZnS膜层，所述滤光膜层上还设有增透膜层，所述增透膜层包括一SiO2膜层和一MgF2膜
层，所述SiO2膜层沉积在所述滤光膜层上，所述MgF2膜层沉积在所述SiO2膜层上。
2.根据权利要求1所述的用于光通信的光纤滤波结构，其特征在于：所述滤光膜层与所
述通信光纤的发射端端面之间还设有一层氮化硅层。
3.根据权利要求2所述的用于光通信的光纤滤波结构，其特征在于：所述氮化硅...

【专利技术属性】
技术研发人员：王喜昌，
申请(专利权)人：苏州鼎旺科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32