本发明专利技术公开了一种不连续镜面白膜层的镀膜方法，该镀膜方法先在预镀产品上喷涂UV底漆膜层，然后分别以环保镀膜原材料TiO2、SiO2采用光学真空镀膜技术，在喷有UV底漆膜层的产品上先后镀SiO2膜层、TiO2膜层、SiO2膜层、TiO2膜层、SiO2膜层，最后喷涂UV面漆完成镀膜。本发明专利技术根据薄膜干涉原理，以环保镀膜原材料TiO2、SiO2采用光学真空镀膜技术，根据手机塑料的具体特性，设计并优化光学真空镀膜技术的各项参数，使得制备出的产品具有膜层附着力好、金属质感强、耐候性能好、抗机械强度好、膜层暴露在空气中长时间不易被氧化等优点。本发明专利技术方法操作简单、无污染，且制备工艺稳定，适合批量化生产。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及真空镀膜
，具体涉及。
技术介绍
近年来随着手机行业的飞速发展，功能已经不是消费者唯一追求的目标，手机外表也吸引着大众的目光，因此，拥有金属光泽和色彩的手机外壳成为手机装饰不可取代的一部分。由于金属或者金属膜层的外壳会屏蔽手机发射的信号，所以手机生产商希望能够得到一种既拥有金属效果又不会影响手机信号的手机外壳，目前国内用铟锡合金原料通过真空镀膜方法来制备手机外壳的不连续膜层，该方法制备出的膜层附着力不好、抗机械强度弱、耐候性能差、金属质感弱。
技术实现思路
本专利技术提出，这种方法镀膜的产品膜层附着力好、金属质感强、耐候性能好、抗机械强度好。为了解决上述技术问题，本专利技术是通过以下技术方案实现的。，其具体步骤如下: (I)、喷涂UV底漆 在温度为1(T35°C、湿度为3(Γ80%的环境下，先将待镀膜的产品放进涂装机中进行前处理擦拭及自动化静电除尘；调整喷枪气压为2.(Γ3.5kg/cm2，将UV底漆喷涂到产品镀膜的面上；然后将完成喷涂的产品放入烤箱中烘烤，烘烤温度为4(T50°C，烘烤时间为5^8min ;最后将完成烘烤的产品过UV炉进行固化； (2 )、光学真空镀膜镀制不连续镜面白不导电膜层 调整光学真空镀膜机的参数为镀膜真空度3.0X 10_3Pa、基板加热温度为常温、镀膜基板旋转频率50Hz、电子枪的气压-8KV、TiO2的蒸发速率4埃/秒、SiO2的蒸发速率8埃/秒，分别以镀膜原材料SiO2、TiO2采用光学真空镀膜技术对经过步骤(I)处理后的产品进行镀膜，先后依次镀SiO2膜层、TiO2膜层、SiO2膜层、TiO2膜层、SiO2膜层； (3)、喷涂UV面漆 在温度为5 35°C、湿度为3(Γ80%的环境下，将经过步骤2处理后的产品放进涂装机中进行除尘；调节喷枪气压1.5^3.5kg/cm2，将UV面漆喷涂到产品镀膜的面上；然后将完成喷涂的产品放入烤箱中烘烤，烘烤温度为7(T80°C，烘烤时间为5 8min ;再将烘烤完成的产品过UV炉进行固化，完成不连续镜面白膜层的镀膜。该方法采用环保镀膜材料Ti02、SiO2做为镀膜原材料，通过光学真空镀膜技术，根据手机塑料的具体特性，设计并优化光学真空镀膜技术的各项参数，使得制备得到的产品具有膜层附着力好、金属质感强、耐候性能好、抗机械强度好、膜层暴露在空气中长时间不易被氧化等优点。步骤(I)中所述的涂装机为一号涂装机，一号涂装机的线速为If 22Hz ； UV底漆是采用粘度为7.8^8.2s的底漆，UV底漆的膜厚为2广25 μ m。步骤(I)中所述的UV炉包括4盏UV灯，其中3盏开启功率密度大于160W/cm的强光，I盏开启功率密度为120W/cm的中光，UV能量为80(Tl000mj/cm2。步骤(3)中所述的除尘步骤是先用静电除尘枪进行手动除尘，再用离子静电除尘枪进行自动除尘。步骤(3)中所述的涂装机为二号涂装机，涂装机的线速为16 20Hz ;UV面漆是采用粘度为7.8 8.2s的面漆，UV面层的膜厚为2广25 μ m。步骤(3)中所述的UV炉包括4盏UV灯，4盏UV灯开启功率密度大于160W/cm的强光，UV 能量为 90(Tll00mj/cm2。所述的不连续镜面白膜层依次包括UV底漆膜层、Si02膜层、Ti02膜层、Si02膜层、Ti02膜层、Si02膜层、UV面漆膜层7个膜层。与现有技术相比，本专利技术的有益效果如下: 本专利技术根据薄膜干涉原理，以环保镀膜原材料Ti02、SiO2采用光学真空镀膜技术，根据手机塑料的具体特性，设计并优化光学真空镀膜技术的各项参数，使得制备出的产品具有膜层附着力好、金属质感强、耐候性能好、抗机械强度好、膜层暴露在空气中长时间不易被氧化等优点。本专利技术方法操作简单、设备要求低、无污染，且制备工艺稳定，适合批量化生产。具体实施方式 ，其具体步骤如下: (I)、喷涂UV底漆 在温度为1(T35°C、湿度为3(Γ80%的环境下，先将待镀膜的产品放进涂装机中进行前处理擦拭及自动化静电除尘；调整喷枪气压为2.(Γ3.5kg/cm2，将UV底漆喷涂到产品镀膜的面上；然后将完成喷涂的产品放入烤箱中烘烤，烘烤温度为4(T50°C，烘烤时间为5^8min ;最后将完成烘烤的产品过UV炉进行固化； (2 )、光学真空镀膜镀制不连续镜面白不导电膜层 调整光学真空镀膜机的参数为镀膜真空度3.0X 10_3Pa、基板加热温度为常温、镀膜基板旋转频率50Hz、电子枪的气压-8KV、TiO2的蒸发速率4埃/秒、SiO2的蒸发速率8埃/秒，分别以镀膜原材料SiO2、TiO2采用光学真空镀膜技术对经过步骤(I)处理后的产品进行镀膜，先后依次镀SiO2膜层、TiO2膜层、SiO2膜层、TiO2膜层、SiO2膜层； (3)、喷涂UV面漆 在温度为5 35°C、湿度为3(Γ80%的环境下，将经过步骤2处理后的产品放进涂装机中进行除尘；调节喷枪气压1.5^3.5kg/cm2，将UV面漆喷涂到产品镀膜的面上；然后将完成喷涂的产品放入烤箱中烘烤，烘烤温度为7(T80°C，烘烤时间为5 8min ;再将烘烤完成的产品过UV炉进行固化，完成不连续镜面白膜层的镀膜。该方法采用环保镀膜材料Ti02、SiO2做为镀膜原材料，通过光学真空镀膜技术，根据手机塑料的具体特性，设计并优化光学真空镀膜技术的各项参数，使得制备得到的产品具有膜层附着力好、金属质感强、耐候性能好、抗机械强度好、膜层暴露在空气中长时间不易被氧化等优点。步骤(1)中所述的涂装机为一号涂装机，一号涂装机的线速为If 22Hz ； UV底漆是采用粘度为7.8 8.2s的底漆，UV底漆的膜厚为21-25 μ m。步骤(1)中所述的UV炉包括4盏UV灯，其中3盏开启功率密度大于160W/cm的强光，I盏开启功率密度为120W/cm的中光，UV能量为800-l000mj/cm2。步骤(3)中所述的除尘步骤是先用静电除尘枪进行手动除尘，再用离子静电除尘枪进行自动除尘。步骤(3)中所述的涂装机为二号涂装机，涂装机的线速为16 20Hz ;UV面漆是采用粘度为7.8 8.2s的面漆，UV面层的膜厚为21-25 μ m。步骤(3)中所述的UV炉包括4盏UV灯，4盏UV灯开启功率密度大于160W/cm的强光，UV 能量为 900-ll00mj/cm2。所述的不连续镜面白膜层依次包括UV底漆膜层、Si02膜层、Ti02膜层、Si02膜层、Ti02膜层、Si02膜层、UV面漆膜层7个膜层。为了本领域技术人员的理解，以下通过具体实施例对本专利技术做进一步详述。实施例1 本实施例是采用联合真空2050型镀膜机对手机壳体进行镀膜，具体步骤如下: (1)、喷涂UV底漆 在温度为10°C、湿度为30%的环境下，将待镀膜的产品放到一号涂装机的自动线上，调节一号涂装机的线速为18Hz，进行前处理擦拭及自动化静电除尘。调整喷枪气压为2.0kg/cm2，然后将编号为AK198、油漆粘度为7.8s的UV底漆喷涂到产品镀膜的面上，UV底漆的膜厚为21 μ m。然后将完成喷涂的产品放入烤箱中烘烤，烘烤温度为40°C，烘烤时间为5min。再将完成烘烤的产品过UV炉进行固化，其中3盏开启功率密度大于160W/c本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种不连续镜面白膜层的镀膜方法，其具体步骤如下：?（1）、喷涂UV底漆在温度为10~35℃、湿度为30~80%的环境下，先将待镀膜的产品放进涂装机中进行前处理擦拭及自动化静电除尘；调整喷枪气压为2.0~3.5kg/cm2，将UV底漆喷涂到产品镀膜的面上；然后将完成喷涂的产品放入烤箱中烘烤，烘烤温度为40~50℃，烘烤时间为5~8min；最后将完成烘烤的产品过UV炉进行固化；（2）、光学真空镀膜镀制不连续镜面白不导电膜层调整光学真空镀膜机的参数为镀膜真空度3.0×10?3Pa、基板加热温度为常温、镀膜基板旋转频率50Hz、电子枪的气压?8KV、TiO2的蒸发速率4埃/秒、SiO2的蒸发速率8埃/秒，分别以镀膜原材料SiO2?、TiO2采用光学真空镀膜技术对经过步骤（1）处理后的产品进行镀膜，先后依次镀SiO2膜层、TiO2膜层、SiO2膜层、TiO2膜层、SiO2膜层；?（3）、喷涂UV面漆在温度为5~35℃、湿度为30~80%的环境下，将经过步骤2处理后的产品放进涂装机中进行除尘；调节喷枪气压1.5~3.5kg/cm2，将UV面漆喷涂到产品镀膜的面上；然后将完成喷涂的产品放入烤箱中烘烤，烘烤温度为70~80℃，烘烤时间为5~8min；再将烘烤完成的产品过UV炉进行固化，完成不连续镜面白膜层的镀膜。...
【技术特征摘要】
1.一种不连续镜面白膜层的镀膜方法，其具体步骤如下: (I)、喷涂UV底漆 在温度为1(T35°C、湿度为3(Γ80%的环境下，先将待镀膜的产品放进涂装机中进行前处理擦拭及自动化静电除尘；调整喷枪气压为2.(Γ3.5kg/cm2，将UV底漆喷涂到产品镀膜的面上；然后将完成喷涂的产品放入烤箱中烘烤，烘烤温度为4(T50°C，烘烤时间为5^8min ;最后将完成烘烤的产品过UV炉进行固化； (2 )、光学真空镀膜镀制不连续镜面白不导电膜层 调整光学真空镀膜机的参数为镀膜真空度3.0X 10_3Pa、基板加热温度为常温、镀膜基板旋转频率50Hz、电子枪的气压-8KV、TiO2的蒸发速率4埃/秒、SiO2的蒸发速率8埃/秒，分别以镀膜原材料SiO2、TiO2采用光学真空镀膜技术对经过步骤(I)处理后的产品进行镀膜，先后依次镀SiO2膜层、TiO2膜层、SiO2膜层、TiO2膜层、SiO2膜层； (3)、喷涂UV面漆 在温度为5 35°C、湿度为3(Γ80%的环境下，将经过步骤2处理后的产品放进涂装机中进行除尘；调节喷枪气压1.5^3.5kg/cm2，将UV面漆喷涂到产品镀膜的面上；然后将完成喷涂的产品放入烤箱中烘烤，烘烤温度为7(T80°C，烘烤时间为5 8min ;再将烘烤完成的产品过UV炉进行固化，完成不连续镜面白膜层的镀膜。2.根据权利要求1所述的不连续镜面白...
【专利技术属性】
技术研发人员：龚玉根，吴小明，
申请(专利权)人：东莞华清光学科技有限公司，东莞劲胜精密组件股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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