大气压等离子处理系统技术方案

本实用新型专利技术提供一种高实用性的大气压等离子处理系统。在大气压下进行等离子处理的系统中，具备：（a）排成一列地配置的多个腔室（34）；（b）将相邻的两个腔室连通的一个以上连通路（42、44）；（c）经由连通路并通过腔室内而搬运基板（54）的搬运装置（50）；（d）能够在各腔室内在大气压下产生等离子体的多个等离子头（38）；（e）喷出气体以将各连通路遮断并通过该喷出的气流而将相邻的腔室间隔开的一个以上分隔装置（62、64）；对于通过搬运装置搬运的被处理物，在多个腔室内依次实施等离子处理。通过这种结构，能够缩短多个等离子处理所需的时间，并且能够通过喷出的气流抑制在各腔室内使用的反应气体的混合。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及在大气压下对被处理物实施等离子处理的大气压等离子处理系统。
技术介绍
一直以来，利用减压下产生的等离子体，对基板等被处理物进行表面处理。具体而言，在减压的腔室内，使气体发生等离子化，利用该等离子化的气体，进行被处理物的表面改性、表面清洗、形成薄膜等处理。在减压下的等离子处理中，为了对腔室内进行减压，而需要真空泵等，而且，为了维持减压状态，而需要对腔室进行密闭。因此，在减压下用于进行等离子处理的系统具有大型化且成本升高的倾向。而且，需要腔室的密闭工序、减压工序等，因此减压下的等离子处理所需的时间变得比较长。鉴于这种情况，近年来，在大气压下对被处理物实施等离子处理的大气压等离子处理系统的开发不断发展。在下述专利文献中示出了大气压等离子处理系统的一例。在先技术文献专利文献专利文献1:日本特开2006-140051号公报专利文献2:日本特开2006-331736号公报在基于等离子化的气体的处理中存在表面改性、表面清洗、形成薄膜等各个种类的处理，有时连续进行各种等离子处理。具体而言，例如，进行作为反应气体使氧等离子化而将基板表面的有机物除去的等离子处理，在除去有机物后的基板表面，进行通过用于形成薄膜的反应气体的等离子化而形成薄膜的等离子处理。并且，有时为了在所形成的薄膜上形成与该薄膜不同的薄膜，进行利用其他用于形成薄膜的反应气体的等离子处理。在减压下进行这多个等离子处理时，对各处理需要反复进行密闭工序及减压工序，总处理时间可能相当长。另一方面，在通过大气压等离子处理系统来进行多个等离子处理时，无需进行各处理的密闭工序及减压工序，因此能够相当缩短处理时间。在基于大气压等离子处理系统的多个等离子处理中，为了处理时间的进一步缩短，考虑将进行各处理的多个腔室配置成一列，并将相邻的两个腔室连通。但是，在将相邻的两个腔室连通时，需要避免各腔室内使用的反应气体彼此混合。在上述专利文献中记载了用于如下目的的技术，即:通过气帘将被处理物的向系统内的搬入口及被处理物的从系统内的搬出口分隔成系统的内部和外部，由此抑制反应气体从腔室内的流出、外部空气向腔室内的流入等。然而，在上述专利文献中，未考虑使两个腔室连通的情况，且并未考虑到防止两个腔室间的反应气体的混合。如此，可认为，在大气压等离子处理系统中还大量存在改良的余地，通过实施各种改良，而能提高大气压等离子处理系统的实用性。
技术实现思路
本技术鉴于这种情况而作出，其课题在于提供一种高实用性的大气压等离子处理系统。为了解决上述课题，本申请的第一方面记载的大气压等离子处理系统具备:多个腔室，排成一列地配置；一个以上腔室间连通路，各个腔室间连通路分别将上述多个腔室中的相邻的两个腔室连通；搬运装置，经由上述一个以上腔室间连通路并通过上述多个腔室内来搬运被处理物；多个大气压等离子发生装置，与上述多个腔室对应设置，并且，各个大气压等离子发生装置分别能够在上述多个腔室中的与上述各个大气压等离子发生装置本身对应的腔室内部在大气压下产生等离子体；及一个以上腔室间分隔装置，与上述一个以上腔室间连通路对应设置，并且，各个腔室间分隔装置分别喷出气体以遮断上述一个以上腔室间连通路中的与上述各个腔室间分隔装置本身对应的腔室间连通路，利用所喷出的气流将相邻的两个腔室之间隔开；在上述多个腔室内依次对由上述搬运装置搬运的被处理物实施等离子处理。另外，第二方面记载的大气压等离子处理系统以第一方面记载的大气压等离子处理系统为基础，其中，上述多个腔室内的气压被设定为相同。另外，第三方面记载的大气压等离子处理系统以第一或第二方面记载的大气压等离子处理系统为基础，其中，上述多个腔室内的气压被设定为正压。另外，第四方面记载的大气压等离子处理系统以第一至第三方面中任一方面记载的大气压等离子处理系统为基础，其中，上述多个腔室中的配置在两端的两个腔室分别具有用于供上述搬运装置搬出或搬入被处理物的搬出搬入口，且，上述搬出搬入口向大气开口，上述大气压等离子处理系统具备两个腔室大气间分隔装置，上述两个腔室大气间分隔装置与上述配置在两端的两个腔室对应设置，并且，各个腔室大气间分隔装置分别喷出气体以遮断上述搬出搬入口，利用所喷出的气流将与上述各个腔室大气间分隔装置本身对应的腔室和大气之间隔开。另外，第五方面记载的大气压等离子处理系统以第四方面记载的大气压等离子处理系统为基础，其中，上述两个腔室大气间分隔装置的各自的每单位时间的喷出量比上述一个以上腔室间分隔装置的各自的每单位时间的喷出量多。另外，第六方面记载的大气压等离子处理系统以第一至第五方面中任一方面记载的大气压等离子处理系统为基础，其中，上述一个以上腔室间连通路在被处理物的搬运方向上的长度比能够利用上述大气压等离子处理系统处理的最大被处理物在上述搬运方向上的长度长。另外，第七方面记载的大气压等离子处理系统以第一至第六方面中任一方面记载的大气压等离子处理系统为基础，其中，上述一个以腔室间分隔装置分别形成向与被处理物的搬运方向垂直且水平的方向喷出气体的结构。技术效果在第一方面记载的大气压等离子处理系统中，进行各处理的多个腔室配置成一列，通过连通路将相邻的两个腔室之间连通，并且被处理物通过多个腔室内而由搬运装置搬运。由此，对于由搬运装置搬运的被处理物，能够在多个腔室内依次实施等离子处理，从而能够缩短处理时间。此外，通过由分隔装置喷出的气流，能够将相邻的两个腔室之间隔开，由此，能够抑制在各腔室内使用的反应气体的混合。另外，在第二方面记载的大气压等离子处理系统中，能够消除相邻的两个腔室之间的气压差。由此，能够进一步抑制相邻的两个腔室间的反应气体的混合。另外，在第三方面记载的大气压等离子处理系统中，各腔室内的气压比大气压高。由此，能够防止大气向各腔室内的流入。另外，在第四方面记载的大气压等离子处理系统中，通过由分隔装置喷出的气流，能够将位于端部的腔室与大气之间隔开。由此，能够抑制反应气体从该腔室内向大气的流出及大气向该腔室内的流入。另外，在第五方面记载的大气压等离子处理系统中，使将位于端部的腔室与大气之间隔开的气流比将相邻的两个腔室之间隔开的气流强。在各腔室内，为了进行等离子处理而流有反应气体，且大多数的情况是腔室内的气压比大气压高。另一方面，反应气体的流量在各腔室大幅不同的情况少，相邻的两个腔室间的气压差不是太大。因此，位于端部的腔室与大气之间的气压差具有比相邻的两个腔室间的气压差大的倾向。因此，根据第五方面记载的大气压等离子处理系统，能够有效地抑制反应气体从位于端部的腔室内向大气的流出。另外，在第六方面记载的大气压等离子处理系统中，被处理物在搬运方向上的长度比腔室间连通路短。即，在搬运被处理物时，被处理物不会横跨相邻的两个腔室。由此，能够抑制喷出到腔室间连通路的气体的向腔室内的流入。详细而言，例如，被处理物在搬运方向上的长度比腔室间连通路长的情况下，在搬运被处理物时，被处理物有时会横跨相邻的两个腔室。如此，当被处理物横跨两个腔室时，喷出到腔室间连通路的气体容易沿着被处理物流入到腔室内。即，通过使被处理物在搬运方向上的长度比腔室间连通路短，而能够抑制喷出到腔室间连通路的气体向腔室内的流入。另外，在第七方面记载的大气压等离子处理系统中，从被处理物的侧方喷出气体。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种大气压等离子处理系统，其特征在于，具备：?多个腔室，排成一列地配置；?一个以上腔室间连通路，各个腔室间连通路分别将所述多个腔室中的相邻的两个腔室连通；?搬运装置，经由所述一个以上腔室间连通路并通过所述多个腔室内来搬运被处理物；?多个大气压等离子发生装置，与所述多个腔室对应设置，并且，各个大气压等离子发生装置分别能够在所述多个腔室中的与所述各个大气压等离子发生装置本身对应的腔室内部在大气压下产生等离子体；及?一个以上腔室间分隔装置，与所述一个以上腔室间连通路对应设置，并且，各个腔室间分隔装置分别喷出气体以遮断所述一个以上腔室间连通路中的与所述各个腔室间分隔装置本身对应的腔室间连通路，利用所喷出的气流将相邻的两个腔室之间隔开；?在所述多个腔室内依次对由所述搬运装置搬运的被处理物实施等离子处理。

【技术特征摘要】
2011.07.12 JP 2011-1537511.一种大气压等离子处理系统，其特征在于，具备: 多个腔室，排成一列地配置； 一个以上腔室间连通路，各个腔室间连通路分别将所述多个腔室中的相邻的两个腔室连通； 搬运装置，经由所述一个以上腔室间连通路并通过所述多个腔室内来搬运被处理物；多个大气压等离子发生装置，与所述多个腔室对应设置，并且，各个大气压等离子发生装置分别能够在所述多个腔室中的与所述各个大气压等离子发生装置本身对应的腔室内部在大气压下产生等离子体；及 一个以上腔室间分隔装置，与所述一个以上腔室间连通路对应设置，并且，各个腔室间分隔装置分别喷出气体以遮断所述一个以上腔室间连通路中的与所述各个腔室间分隔装置本身对应的腔室间连通路，利用所喷出的气流将相邻的两个腔室之间隔开； 在所述多个腔室内依次对由所述搬运装置搬运的被处理物实施等离子处理。2.根据权利要求1所述的大气压等离子处理系统，其特征在于， 所述多个腔室内的气压被设定为相同。3.根据权利要求1所述的大气压等离子处理系统，其特征在于， 所述多个腔室内的气压被设定为正压。4.根据权利要求2所述的大气压等离子处理系统，其特征在于， 所述多个腔室内的气压被设定为正压。5.根据权利要求1 4中任一项所述的大气压等离子处理系统，其特征在于， 所述多个腔室中的配置在两端的两个腔室分别具有用于供所述搬运装置搬出或搬入被处理物的搬出搬入口，且，所述搬出搬入口向大气开口， 所述大气压等离子处理系统具备两个腔室大气间分隔装置， 所述两个腔室大气间分隔装置与所述配置在两端的两个腔室对应设置，并且，各个腔室大气间分隔装置分别喷出气体以遮断所述搬出搬入口，利用所喷出的气流将与所述各个腔室大气间分隔装置本身对应的腔室和大气之间隔开。6.根据权利要求5所述的大气压等离子处理系统，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：岩城范明，
申请(专利权)人：富士机械制造株式会社，
类型：实用新型
国别省市：