【技术实现步骤摘要】
本专利技术是关于一种,尤指一种使用蚕丝蛋白作为栅极介电层的N型有机薄膜晶体管、双载子场效应晶体管、及其制备方法。
技术介绍
晶体管(transistor)是近代电子电路的核心元件,他的主要功能是做电流的开关,就如同控制水管中水流量的阀(valve)。和一般机械开关不同处在于晶体管是利用电讯号来控制,而且开关速度可以非常快。晶体管种类很多,依工作原理可大致分为双载子晶体管(bipolar junction transistor,BJT)和场效晶体管(field effect transistor,FET) 场效晶体管又包含了 N型有机薄膜晶体管、及P型有机薄膜晶体管等。以目前技术阶段而言,一般N型有机薄膜晶体管的电子迁移率比P型有机薄膜晶体管的电洞迁移率要小很多(例如,大部份N型有机薄膜晶体管的电子迁移率仅在lcm2/Vs以下)。然而,由于CMOS元件需同时含有P型以及N型两种有机薄膜晶体管,因此N型有机薄膜晶体管的研发,变得很重要。一般而言,有机薄膜晶体管(不论是N型或P型有机薄膜晶体管)可依照结构分为上接触式有机薄膜晶体管及下接触式有机薄膜晶体管。如图1A所示,上接触式有机薄膜晶体管包括:一基板10 ;—栅极11,是配置基板10上;一栅极介电层12,是配置于基板11上且覆盖栅极11 ;一有机半导体层13,是完全覆盖栅极介电层12 ;以及一源极14与一漏极15,是配置于有机半导体层13上。此外,如图1B所示,下接触式有机薄膜晶体管包括:一基板10 ;—栅极11,是配置基板10上;一栅极介电层12,是配置于基板10上且覆盖栅极11 ;一源极14与一漏极1 ...
【技术保护点】
一种N型有机薄膜晶体管,其特征在于,包括:一基板;一栅极,是设置于该基板上;一栅极介电层,是覆盖该栅极,且该栅极介电层的材质是蚕丝蛋白;一缓冲层,是设置于该栅极介电层上,且该缓冲层的材质是五苯环;一N型有机半导体层,是设置于该缓冲层上;以及一源极与一漏极,其中,该N型有机半导体层、该缓冲层、该源极、以及该漏极是配置于该栅极介电层上方。
【技术特征摘要】
2011.12.13 TW 1001460571.一种N型有机薄膜晶体管,其特征在于,包括: 一基板; 一栅极,是设置于该基板上; 一栅极介电层,是覆盖该栅极,且该栅极介电层的材质是蚕丝蛋白; 一缓冲层,是设置于该栅极介电层上,且该缓冲层的材质是五苯环; 一 N型有机半导体层,是设置于该缓冲层上;以及 一源极与一漏极, 其中,该N型有机半导体层、该缓冲层、该源极、以及该漏极是配置于该栅极介电层上方。2.如权利要求1所述的N型有机薄膜晶体管,其特征在于,该蚕丝蛋白为丝心蛋白(fibroin)。3.如权利要求1所述的N型有机薄膜晶体管,其特征在于,该栅极介电层具有一单层结构或一多层结构。4.如权利要求1所述的N型有机薄膜晶体管,其特征在于,该N型有机半导体层的材质是碳 60 或 PTCD1-C8(N,N'-联苯 _3,4,9,10-芘二甲西先亚胺(N,N' -D10CTYL-3,4,9,10-PERYLENEDICARB0XIMIDE))ο5.如权利要求1所述的 N型有机薄膜晶体管,其特征在于,该缓冲层的厚度是lnm-20nm,该N型有机半导体层的厚度是10nm_150nm。6.如权利要求4所述的N型有机薄膜晶体管,其特征在于,当使用碳60作为N型有机半导体层时,该有机薄膜晶体管的电子迁移率是7cm2/VS-15cm2/VS。7.如权利要求1所述的N型有机薄膜晶体管,其特征在于,该栅极介电层的厚度是100nm-800nmo8.如权利要求1所述的N型有机薄膜晶体管,其特征在于,当该N型有机薄膜晶体管为一上接触式N型有机薄膜晶体管时,该N型有机半导体层是完全覆盖该缓冲层,该缓冲层是完全覆盖该栅极介电层,而该源极与该漏极是配置于该N型有机半导体层上。9.如权利要求1所述的N型有机薄膜晶体管,其特征在于,当该N型有机薄膜晶体管为一下接触式N型有机薄膜晶体管时,该源极与该漏极是配置于该缓冲层与该栅极介电层之间,使该缓冲层是覆盖该部分的栅极介电层、该源极、以及该漏极。10.如权利要求1所述的N型有机薄膜晶体管,其特征在于,该基板是选自由:一塑料基板、一玻璃基板、一石英基板、一娃基板、及一纸基板所组成的群组。11.一种N型有机薄膜晶体管的制备方法,其特征在于,包括步骤: (A)提供一基板; (B)形成一栅极于该基板上; (C)形成一栅极介电层使覆盖该栅极,且该栅极介电层的材质是蚕丝蛋白;以及 (D)形成一包含有一缓冲层以及一N型有机半导体层的双层结构、一源极、以及一漏极于该栅极介电层上; 其中,该缓冲层的材质是五苯环。12.如权利要求11所述的N型有机薄膜晶体管的制备方法,其特征在于,步骤(D)中,该N型有机半导体层的材质是碳60或PT⑶1-C8。13.如权利要求11所述的N型有机薄膜晶体管的制备方法,其特征在于,步骤(D)中,N型有机半导体层是以蒸镀方法形成,且蒸镀的基板温度是25°C -100°C。14.如权利要求11所述的N型有机薄膜晶体管的制备方法,其特征在于,该步骤(C)包括以下步骤: (Cl)提供一蚕丝蛋白溶液; (C2)涂布该蚕丝蛋白溶液于该形成有栅极的基板上,或将该形成有栅极的基板浸泡于该蚕丝蛋白溶液中;以及 (C3)干燥该涂布于基板的蚕丝蛋白溶液,以于该基板及该栅极上形成一栅极介电层。15.如权利要求11所述的N型有机薄膜晶体管的制备方法,其特征在于,该步骤(C)的蚕丝蛋白是丝心蛋白。16.如权利要求14所述的N型有机薄膜晶体管的制备方法,其特征在于,该步骤(Cl)的蚕丝蛋白溶液的pH值是介于2 6。17.如权利要求11所述 的N型有机薄膜晶体管的制备方法,其特征在于,该N型有机半导体层的材质是碳60或PTCD1-C8。18.如权利要求11所述的N型有机薄膜晶体管的制备方法,其特征在于,该缓冲层的厚度是lnm-20nm,该N型有机半导体层的厚度是10nm_150nm。19.如权利要求17所述的N型有机薄膜晶体管的制备方法,其特征在于,当使用碳60作为N型有机半导体层时,该的N型有机薄膜晶体管的电子迁移率是7Cm2/VS-15Cm2/VS。20.如权利要求11所述的N型有机薄膜晶体管的制备方法,其特征在于,该栅极介电层的厚度是100nm-800nm。21.如权利要求11所述的N型有机薄膜晶体管的制备方法,其特征在于,于该步骤(D)中,该N型有机半导体层是完全覆盖该缓冲层,该缓冲层是完全覆盖该栅极介电层,而该源极与该漏极是配置于该N型有机半导体层上,以形成一上接触式N型有机薄膜晶体管。22.如权利要求11所述的N型有机薄膜晶体管的制备方法,其特征在于,于该步骤(D)中,该源极与该漏极是配置于该缓冲层与该栅极介电层之间,使该缓冲层是覆盖该部分的栅极介电层、该源极、以及该漏极,以形成一下接触式N型有机薄膜晶体管。23.—种双载子场效应晶体管,其特征在于,包括: 一基板; 一栅极,是设置于该基板上; 一栅极介电层,是覆盖该栅极,且该栅极介电层的材质是蚕丝蛋白; 一 P型有机半导体层,是设置于该栅极介电层上,且该P型有机半导体层的材...
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