本发明专利技术提供可获得即使暴露于光照射下电压保持率的下降也得到抑制的液晶取向膜的液晶取向处理剂、及用于获得液晶处理剂中所含的聚合物的新型二胺。液晶取向处理剂包含选自由下述式[1]的二胺所得的聚酰亚胺前体、及该聚酰亚胺前体经酰亚胺化而得的聚酰亚胺的至少一种聚合物。(化1)(X是以下述式[2]表示的有机基团；Y1、Y2独立地表示苯环或环己烷环；p、q独立地表示0或1的整数；S1、S2独立地表示单键或二价连结基团；p=0时S1为单键，q=0时S2为单键；R1表示氢原子、氟原子、碳数1～22的烷基或氟烷基、或类固醇基。)(化2)(式中，C1、C2独立地表示单键或二价有机基团；A表示热脱离性有机基团；B1表示选自-CH2-、-O-、-NH-及-S-的二价有机基团；n是0或1；对X的连结方向没有限定。)
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及液晶取向处理剂、使用该液晶取向处理剂的液晶取向I旲及液晶显不兀件。
技术介绍
液晶取向膜是作为显示器件而被广泛使用的液晶显示元件的构成构件，起到使液晶沿一定的方向取向的作用。现在，工业上所使用的主要的液晶取向膜是由液晶取向处理剂形成的，该液晶取向处理剂由作为聚酰亚胺前体的聚酰胺酸(polyamic acid)或者聚酰亚胺的溶液构成。具体而言，通过在基板上涂布液晶取向处理剂进行加热和烧成后，实施取向处理而得到，可例举利用摩擦进行的表面处理及使液晶相对于基板面平行或倾斜地取向的取向处理。近年来，随着面板所使用的基板的大型化、高清晰化、低成本化等，存在基板的面积扩大、凹凸增大等的倾向。在这种基板上形成取向膜时，会发生下述问题:印刷时出现气孔等印刷不良，摩擦处理时难以实施均等的取向处理，发生液晶的取向不良等。此外，液晶取向处理中，现在主要实施利用摩擦进行的表面处理，但会存在发生液晶取向膜的缺损，产生由此引起的显示缺陷、产生尘埃等的问题。另一方面，作为替代利用摩擦法进行的的取向处理的方法，提出利用光反应进行的液晶取向处理。具体而言，已知下述方法:在基板表面上形成具有聚乙烯醇肉桂酸酯等可发生光反应的特定部位的聚合物 的膜，通过照射偏光或非偏光的放射线而赋予液晶取向能的方法(光取向法)。根据该方法，可实现不产生静电、尘埃，并可实现均匀的液晶取向，还能够实现取向分割引起的视野角改善等(参考专利文献1、2)。￠: TN(Twisted Nematic:扭转向列)、STN(Super Twisted Nematic:超级扭转向列)等液晶晶胞的情况下，液晶取向I吴必须具有使液晶分子相对于基板面以规定的角度(预倾角)倾斜取向的功能(参照专利文献15)。为了显现出预倾角，已知使用包含烷基侧链、类固醇骨架的侧链、具有环结构的侧链等的聚酰胺酸、聚酰亚胺等而得的液晶取向膜(专利文献3、4、5)。使用光的液晶取向处理中，通常通过照射向基板面的入射方向朝基板法线倾斜的放射线而赋予预倾角(参照专利文献I)。现有技术文献专利文献专利文献1:日本专利特开平6-287453号公报专利文献2:日本专利特开平9-297313号公报专利文献3:日本专利特开平05-043687号公报专利文献4:日本专利特开平04-281427号公报专利文献5:日本专利特开平02-223916号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的技术问题以往，大部分的液晶取向膜如上所述利用由作为聚酰亚胺前体的聚酰胺酸或聚酰亚胺的溶液构成的液晶取向处理剂来形成，使用包含可溶性聚酰亚胺的溶液的液晶取向膜的制备方法具有即使在较低的温度下烧成，也可获得作为液晶取向膜的良好特性的优点。但是，使用包含大量具有侧链的二胺的聚酰亚胺时，会有对基板的涂布.成膜性变差等问题。为了解决这种问题，也可以实施下述方法:通过使用少量的在侧链具有可获得较大的预倾角的环结构的二胺(例如，参照专利文献5)，减少侧链的量，改善在基板上的涂布性的方法。侧链具有环结构的二胺多数情况下在N-甲基吡咯烷酮(以下也称为NMP)这种极性溶剂中的溶解性差，有可能会发生所得的聚合物的品质不均等的问题。此外，光取向所使用的材料中，也大多使用具有含肉桂酸酯基等的侧链的聚合物等，此外，垂直取向用途中，还需要导入具有其他侧链的二胺。通常，由于侧链大多是疏水性的，与对基板的浸润性高的极性溶剂等的亲合性下降，因此具有大量侧链部位的聚合物具有对基板的涂布.成膜性差的问题。 此外，随着近年来液晶显示元件的高性能化，在大画面且高清晰的液晶电视或车载用途例如导航系统及指示屏等用途中使用液晶显示元件。该用途中，有时为获得高亮度而使用发热量大的背光源，并要求对背光源具有高稳定性。特别是，如果作为电气特性之一的电压保持率因背光源的光照射而下降，则会容易发生作为液晶显示元件的显示不良之一的烧结不良(线烧结)，从而无法获得可靠性高的液晶显示元件。所以，液晶取向膜中，除要求初期特性良好外，还要求例如即使在长时间下暴露于光照射后，电压保持率也不易下降的特性。本专利技术鉴于上述状况，其目的在于提供一种液晶取向处理剂所含的聚合物的处理性良好、且涂布性优异、可获得高可靠性的液晶取向处理剂。此外，本专利技术的目的还在于，提供一种对获得聚合物时所使用的溶剂的溶解性良好、且能获得印刷性优异的液晶取向剂的具有侧链的二胺，以及提供一种即使暴露于光的照射下电压保持率的下降也得到抑制的液晶取向膜。解决技术问题所采用的技术方案本专利技术人为达到上述目的进行了认真研究，结果完成了本专利技术。即，本专利技术具有以下要点。(I) 一种液晶取向处理剂,包含选自由含有下述式表不的二胺的二胺成分与四羧酸二酐的反应所得的聚酰亚胺前体、及该聚酰亚胺前体经酰亚胺化而得的聚酰亚胺的至少一种聚合物，权利要求1.一种液晶取向处理剂，包含选自由含有下述式表示的二胺的二胺成分与四羧酸二酐的反应所得的聚酰亚胺前体、及该聚酰亚胺前体经酰亚胺化而得的聚酰亚胺的至少一种聚合物，2.如权利要求1所述的液晶取向处理剂，其特征在于，所述二胺成分中的式表示的二胺的含量为5 95摩尔％。3.如权利要求1或2所述的液晶取向处理剂，其特征在于，所述式中的A是以式表不的叔丁氧基擬基， _4.如权利要求1 3中任一项所述的液晶取向处理剂，其特征在于，所述式中的Q、C2是以下述式表示的二价有机基团， —S3-R2-S4-F^- 式中，S3> S4独立地为二价连结基团；R2、R3独立地为单键或碳数I 20的二价烃基。5.如权利要求1 4中任一项所述的液晶取向处理剂,其特征在于,所述式的以下述式表示，且Q、C2中的任一方具有式的结构， 6.如权利要求1 4中任一项所述的液晶取向处理剂，其特征在于，所述式中，n=0o7.如权利要求1 5中任一项所述的液晶取向处理剂，其特征在于，所述式中的C1是单键。8.如权利要求1 7中任一项所述的液晶取向处理剂，其特征在于，所述式中的B1是 _0_ 或 NH_o9.如权利要求5所 述的液晶取向处理剂，其特征在于，所述式中的民是-O-或NH-。10.如权利要求1 9中任一项所述的液晶取向处理剂，其特征在于，所述式所表示的二胺是下述式 中的任一种化合物， 11.一种液晶取向膜，其特征在于，通过使用权利要求1 10中任一项所述的液晶取向处理剂而得。12.—种液晶取向膜,其为使用权利要求1 10中任一项所述的液晶取向处理剂而得的液晶取向膜，通过光照射来进行取向处理。13.一种液晶显示元件，其具备权利要求11或12所述的液晶取向膜。14.一种具有以下述式表示的结构的二胺， 15.如权利要求14所述的二胺，其特征在于，式中的A是以式表示的叔丁氧基擬基，16.如权利要求14或15所述的二胺，其特征在于，式中的CpC2是以下述式表不的有价有机基团，17.如权利要求14 16中任一项所述的二胺，其特征在于，所述式的以下述式表示，且Q、C2中的任一方具有式的结构，18.—种二胺,其由下述式 中的任一个表示，19.一种聚酰胺、聚酰胺酸或该聚酰胺酸经酰亚胺化而获得的聚酰亚胺，其特征在于，由权利要求14 18中的任一项所述的二胺为原料而获得。全文摘要本专利技术提供可获得即使暴露于光照射下电压保持率的下降也得到抑制的液本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：野田尚宏，森内正人，筒井皇晶，
申请(专利权)人：日产化学工业株式会社，
类型：
国别省市：
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