【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种用于连续式扩散炉的多层气帘隔离装置。
技术介绍
扩散炉是集成电路生产线前工序的重要工艺设备之一。它的主要用途是对半导体进行掺杂，即在高温条件下将掺杂材料扩散入硅片，从而改变和控制半导体内杂质的类型、浓度和分布，以便建立起不同的电特性区域。扩散炉的炉口如处于敞开状态，会使得腔内具有毒性的气体容易泄漏到外界环境中，也将导致炉内热量向外扩散，增加扩散炉的热量损失，从而导致额外增加扩散炉的加热功率,并且扩散热量会对室内环境产生热辐射。由于连续式扩散炉在工作过程中，送舟桨要不断地进出炉管，机械炉门就需频繁地开合，这样就会对炉管内温度场和流场造成严重干扰，影响均匀性。而且送舟桨停留在炉管中的时间远长于其完全在炉管外的时间，这样就导致一般的机械炉门处于闭合的时间很短，几乎起不到密封隔离作用，使大量反应气体和热量流失。
技术实现思路
为了解决上述现有技术存在的问题，本专利技术的目的是提供一种用于连续式扩散炉的多层气帘隔离装置。采用多层空气帘进行密封，隔离炉管内外界环境，使送舟桨即便停留在炉管中也能起到很好的密封效果，由于不存在机械炉门的不断开合，也不会对炉内气体和温度产生干扰。为了达到上述 目的，本专利技术采用以下技术方案: 一种用于连续式扩散炉的多层气帘隔离装置，包括气帘管，风箱，气帘形成导向壁和出风口 ；所述气帘管固定在所述风箱的顶部，气帘管上固定有进风口，所述气帘形成导向壁成漏斗形，所述出风口连接于气帘形成导向壁的下部。所述的气帘管下部开有0.2mm长的条缝形出风口。所述气帘管的个数至少为2个。所述气帘管上进风口的个数至少为2个。与现有技术相比，本...
【技术保护点】
一种用于连续式扩散炉的多层气帘隔离装置，其特征在于，包括气帘管（1），风箱（2），气帘形成导向壁（3）和出风口（4）；所述气帘管（1）固定在所述风箱（2）的顶部，气帘管（1）上固定有进风口（6），所述气帘形成导向壁（3）成漏斗形，所述出风口（4）连接于气帘形成导向壁（3）的下部。
【技术特征摘要】
1.一种用于连续式扩散炉的多层气帘隔离装置，其特征在于，包括气帘管(1)，风箱(2)，气帘形成导向壁(3)和出风口(4);所述气帘管(I)固定在所述风箱(2)的顶部，气帘管(I)上固定有进风口(6)，所述气帘形成导向壁(3)成漏斗形，所述出风口(4)连接于气帘形成导向壁(3)的下部。2.根据权利要求1所述的用于连续式扩散...
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