【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种石墨烯材料的制备方法,特别是,属于纳米新材料领域。
技术介绍
石墨烯(Graphene)是由单层石墨片构成的二维碳纳米结构材料。2004年,英国Manchester大学的A.K.Geim小组用机械剥离方法在制备单原子层厚的石墨样品方向上取得了突破(Novoselov, K.S.et al., Science, 2004,306,666)。石墨稀的迁移率可超过 104cm2/V.S,热导率(3500_5300W/mK)。被认为是以自下而上的方法构筑未来纳米电子学电路最有希望的材料之一,预期在将来的高速纳米电子、能量转化器件、功能复合材料的填充组分、生物化学传感器等方面得到应用。新出现的石墨烯,具有良好的导电能力、大的比表面积 2600m2/g、宽的电化学窗口。薄层石墨烯,显示了比石墨更大的层间距 0.4nm,具有高于石墨(理论容量372mAh/g)几倍容量的储存锂离子的能力,石墨烯的这些进展和优异性能,使石墨烯能在储能器件如超级电容器中发挥重要作用。目前国内外制备石墨烯的方法·很多,包括直接机械剥离(Novoselov,K.S.et al.,Sc ...
【技术保护点】
一种多孔石墨烯的制备方法,其特征在于,包括:(1)取插层石墨与极性溶剂混合,并使插层石墨充分吸收极性溶剂;(2)将吸收极性溶剂的插层石墨进行微波辐射处理,使插层石墨充分解离形成石墨烯,并使石墨烯表面形成复数个孔洞,获得打孔的薄层石墨烯。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:刘立伟,郭玉芬,李伟伟,朱超,廖书田,龚佑品,龙明生,徐建宝,
申请(专利权)人:苏州格瑞丰纳米科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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