【技术实现步骤摘要】
卧式光学调整架
本技术涉及一种光学调整架,尤其涉及一种卧式光学调整架。
技术介绍
光学调整架产品是光机产品中重要的一个组成部分,光学调整架通常包括:固定板、活动板、驱动机构(螺纹副)、复位机构(弹簧)等,主要解决光学元件(或光电器件)的夹持和调整。光学调整架的稳定性,在实际使用过程中非常重要,通常影响光学调整架稳定性的因素包括外界环境变化和调整架本身的漂移,在外界接环境可控或者变化不大的情况下,调整架的漂移变成影响稳定性主要的因素,漂移主要由调整架的结构、高度等因素引起。传统的光学调整架是立式的,光学调整架和基座的接触面小,且其Z轴则使用较高的高度,一般高度都在60_左右,使得光学元件容易受到外界影响而受迫震动,从而影响光学元件的稳定性,从而进一步影响到整个光学系统的稳定性。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种卧式光学调整架,可避免光学元件受到外界影响而做受迫震动,保证光学元件的稳定性,从而使整个光学系统稳定性得到更好的保证。为实现上述目的,本技术提供一种卧式光学调整架,包括固定板、活动板、驱动机构和复位机构,所述固定板安装在一基座上方,所述活动板安装在所述固定 ...
【技术保护点】
一种卧式光学调整架,包括固定板、活动板、驱动机构和复位机构,所述固定板安装在一基座上方,所述活动板安装在所述固定板上方,且所述活动板与所述固定板之间形成夹持光学元件的夹槽,所述驱动机构安装在所述活动板上,用于调节光学元件在二维平面上的移动,所述复位机构位于所述夹槽内且两端分别连接在所述固定板和所述活动板上,其特征在于:所述固定板与所述基座接触的面积为55mm×75mm~65mm×85mm,所述固定板的底面到所述活动板的顶面的距离为卧式光学调整架Z向高度,该Z向高度为23.5mm~25.5mm。
【技术特征摘要】
1.一种卧式光学调整架,包括固定板、活动板、驱动机构和复位机构,所述固定板安装在一基座上方,所述活动板安装在所述固定板上方,且所述活动板与所述固定板之间形成夹持光学元件的夹槽,所述驱动机构安装在所述活动板上,用于调节光学元件在二维平面上的移动,所述复位机构位于所述夹槽内且两端分别连接在所述固定板和所述活动板上,其特征在于:所述固定板与所述基座接触的面积为55mmX 75mm 65mmX 85mm,所述固定板的底面到所述活动板的顶面的距离为卧式光学调整架Z向高度,该Z向高度为23.5mm 25.Smnin2.如权利要求1所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈聪,何铁锋,李文,
申请(专利权)人:广州安特激光技术有限公司,
类型:实用新型
国别省市:
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