光电编码器的刻度盘及其制造方法技术

光电编码器的刻度盘及其制造方法。该光电编码器的刻度盘包括导电的且具有光反射面的基部构件和在基部构件上以预定间距排列的光吸收性黑色光栅。

【技术实现步骤摘要】
光电编码器的刻度盘及其制造方法
本专利技术涉及在线性编码器、旋转编码器等中使用的光电编码器的刻度盘（scale），以及这样的刻度盘的制造方法。
技术介绍
例如，光电编码器具有沿测量轴延伸的主刻度盘（mainscale）和以能够相对于主刻度盘移动的方式布置的指示刻度盘（indexscale）。光电编码器以如下的方式构造：使得光接收器经由指示刻度盘接收从光源发射出并经由指示刻度盘入射到主刻度盘上之后由主刻度盘反射的光。主刻度盘和指示刻度盘每一个均以预定间距（pitch）形成有光栅（grating）（刻度）。已知用于形成主刻度盘和指示刻度盘每一个上的光栅的多种方法（专利文献1至8）。然而，在这些现有技术中，因为用于光栅形成的膜形成装置需要真空室所以制造成本非常高（专利文献1、2、5和6）、难以形成高精度的光栅（专利文献3、4、6和8）或者检测精度由于反射光量减少而降低（专利文献7）。[专利文献][专利文献1]日本特开2006-162498号公报[专利文献2]日本特开2009-264923号公报[专利文献3]日本特开2006-337321号公报[专利文献4]日本特开2010-025908号公本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光电编码器的刻度盘，所述刻度盘包括：基部构件；和光栅，所述光栅通过镀敷形成于所述基部构件的表面并且在所述基部构件上以预定间距排列。

【技术特征摘要】
2011.11.22 JP 2011-2548681.一种光电编码器的刻度盘，所述刻度盘包括：基部构件，所述基部构件具有表面且所述表面的整个区域粗糙化；和金属光栅，所述金属光栅通过镀敷形成于所述基部构件的粗糙化了的表面并且在所述基部构件上以预定间距排列，其中所述金属光栅由已黑化的金属膜制成；和所述基部构件的表面的整个区域被粗糙化增加了所述金属光栅相对于所述基部构件的附着性。2.根据权利要求1所述的光电编码器的刻度盘，其特征在于，所述基部构件是导电性的且具有光反射面的基部构件。3.根据权利要求1所述的光电编码器的刻度盘，其特征在于，所述基部构件是光吸收性或透过性基部构件。4.一种光电编码器的刻度盘的制造方法，所述方法包括如下步骤：使基部构件的表面的整个区域粗糙化以增加金属光栅相对于所述基部构件的附着性；并且通过镀敷在所述基部构件的已经经受了所述粗糙化的表面形成金属光栅，使得所述金属光栅以预定间距排列；其中，所述金...

【专利技术属性】
技术研发人员：青木敏彦，前田不二雄，富樫理彦，
申请(专利权)人：株式会社三丰，
类型：发明
国别省市：