使用石墨烯对比度增强层的光刻制造技术

一般地描述了包括通过光刻形成的图案的方法、系统和结构的技术。在一些示例方法中，将光致抗蚀剂层涂覆到衬底上，并且可以将石墨烯层涂覆到光致抗蚀剂层上。可以通过掩模向石墨烯层施加光，其中掩模包括图案。光可以在石墨烯层上形成图案，使得该图案形成在光致抗蚀剂层上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：托马斯·A·叶戈，赛思·阿德里安·米勒，
申请(专利权)人：英派尔科技开发有限公司，
类型：
国别省市：