用于鞋类的U型支承系统技术方案

本发明专利技术涉及用于鞋类的U型支承系统。提供了一种足部，它具有内侧、外侧、载距突、跟骨外侧、足部的第五跖列和足前部。还提供了一种用于足部的支承系统，该支承系统包括：底部；第一突出部分，构造为支撑在内侧上的载距突，并且在使用时提供在载距突上的力；第二突出部分，构造为支撑在足部外侧上的跟骨外侧；以及第三突出部分，构造为支撑在足部外侧上的足部的第五跖列；其中，所述第一突出部分、第二突出部分和第三突出部分在使用时从底部向上延伸，并且所述第一突出部分和第二突出部分限定了具有在内部的拱形侧壁的近似U型。

【技术实现步骤摘要】


技术介绍
足部移动有三个方向:(1)弧矢状，先上后下，类似于飞机上下颠簸；(2)横向扭转，类似于飞机摇摆；(3)冠状面或额状面上的左右移动，类似于飞机偏行。该运动中最主要的部件是距骨，距骨在胫骨-腓骨之下，在跟骨之上和之前。在物理性活动中，足部的运动不当或各部分相互定位不良会通过人的整个运动链传递并转换，影响到膝、髋和下背。例如，在跑动中，各部分相互定位不良加上地面的反作用会对膝、髋和下背造成压力，并诱发疼痛。运动中的最佳相互定位是:跟骨保持中位，距骨沿其与膝盖的中线活动，不过度内旋或外旋。通过屈膝可测定距骨与膝盖的相互定位关系。如果距骨与膝盖处于最佳的相互定位关系，当膝盖微屈时，从膝盖中心垂下的垂线将正好落于足部的第二跖骨列上。然而，在大多数人屈膝时，其膝盖会向内侧或外侧偏离第二跖骨列。如果距骨不利地偏旋，足部的其他部分就会进行相应的补偿。如果距骨内旋(内侧)，则足后部通过跟骨外移(外翻)、足中部下压和足前部内收来补偿。简而言之，距骨过度内旋造成旋前，会在解剖学上造成比简单的旋前严重得多的后果。距骨外旋也需要足部的其余部分来补偿，但以相反的方向:足后部内移(内翻)，足中部上弓(抬高)，足前部内收，简单说就是足部旋后。这些补偿性活动会造成身体的整个运动链紧张，通常，运动链的其他部分会对这些不当的相互定位进行补偿。例如，膝盖会被内推或外推，髋的多个不同部位会上抬，以便消减这种紧张。长此以往，这种紧张就会致病，例如(但不限于)跖筋膜炎，跟腱炎(阿基里斯腱炎)，胫骨后肌腱炎，膝关节疼痛并伴有韧带和循轨(tracking)问题，姆囊炎和髋关节疼痛。在运动中对足的三平面运动进行定位和稳定可减少足部和运动链其他部分的不利的补偿活动，由此减少(或甚至消除)相应的病症。已知有许多稳定足部的技术方案。目前有许多可缠绕足部的矫形器和矫形带，但这些矫形器具一般体积较大，令人无法正常穿鞋。可将凝胶垫和鞋内插片用于鞋内底上，但它们也会影响鞋的适脚性和性能。而且，这些方法都增加了足部的负担和体积。这些方法都不能实现足部在前文所述三个平面上稳定。有些制鞋者已经为减少上述损伤和疾患的发生进行了机制研发或改良了设计。例如，跑步鞋和篮球鞋可在鞋底内加入改良弹性槽以加强层合中底设计，或加入充气袋或凝胶以提高缓冲能力。然而，这些已知的方案都不能在上述三个平面上稳定足部的运动。本专利技术的专利技术人意欲通过专利技术个人定制矫正器实现三平面修正来解决上述问题。所述定制矫正器插入普通鞋内使用。不幸的是，这一矫治器方法虽然有助于解决问题但并非最佳解决方案，因为定制的矫正器总是难以与普通鞋类适配。例如，所述矫正器大大地增加了鞋的高度和体积，会造成穿着不稳并降低运动成绩和活动能力。所述矫正器还可能缩小鞋内足间室的体积，造成不和脚、不舒适。鞋的缝制和设计中还会产生压力点。此外，传统鞋类的鞋帮和/或鞋底单元的构造可能会低效矫正器意欲达到的矫正效果。然而，由于所述矫正器的个人定制性质，目前在定制鞋之外还需要一种现货鞋，这些鞋具有整合在内的三平面修正系统。所以，目前切实需要能够对足部的三平面运动进行矫正或稳定的鞋类系统。
技术实现思路
本专利技术通过以下技术方案解决了上述需求:提供一种协助通过稳定足部的三平面运动来修正和引导运动链(足、腿、膝、髋和下背)的鞋类系统。所述系统被构造为以本专利技术所谓三平面调节或稳定方式同时作用于足部的三个结构区域:(I)载距突(缩写“ST”)；(2)跟骨外侧和(3)足部的第五跖列(小指侧)。例如，不当的距骨内旋可通过以下方式得以矫正:(1)垂直提升ST ; (2)跟骨内翻；和(3)第五跖列施压令足前部内收。图12A和12B用箭头指明了对三个区域同时提供支承压力的区域。所述三平面调节或稳定可由一体化的鞋结构或多部件鞋结构来获得，所述鞋结构的构造可有效地实现上述三个构造区域(跟骨外侧、ST和第五跖列)的三平面合理相互定位。以下将结合附图对上述以及其他实施方式进行详细说明。以上所述并非本专利技术实施方式和技术特征的穷举。根据以下结合附图的详细描述，本领域技术人员可明白还有其他实施方式和技术特征。附图说明按照本专利技术主题:图1A-1C显示本专利技术的一种鞋楦实施方式的视图，与现有鞋楦相比，楦椎体(lastcone)侧移约7度，楦底面更平。图2A-2D显示用于本专利技术的一种可能的实施方式的鞋垫(sock liner)的视图；鱼翅状突出部分上的圆点表示接装部分、装置或机制，例如维可牢(Vekro )搭扣。图3A-3F显示用于本专利技术的一种可能的实施方式的三平面鞋托(plate)的不同视图；圆点表示接装部分、装置或机制，例如维可牢(Vdcro )搭扣，与鞋垫上的类似圆点相对应。图4A-4C显示鞋垫与三平面鞋托装配的视图。图5A-5B显示用于本专利技术的一种可能的实施方式的鞋帮的视图。图中显示了能让三平面鞋托与鞋垫互相装配的开孔。图6A-6C显示在装三平面鞋托之前和之后鞋垫在鞋帮内的位置。有一调节带与三平面鞋托相连。图7A-7D显示鞋垫、三平面鞋托和鞋帮配合情况的不同视图。图中还显示了一只装了鞋底的完整的鞋。图8A-8B显示鞋底和三平面系统的各个部件。图9.1是图10.1至图11.58所示截面轮廓线的总索引。图9.2是图10.1至图11.58所示截面轮廓线的后跟视图。图9.3是图10.1至图11.58所示截面轮廓线的侧视图。图10.1-11.58是可用于制造本专利技术所述鞋或鞋帮的鞋楦的截面轮廓线。这些轮廓线对应于图9.1-9.3中所示的平行线，其中，图10.1对应于鞋楦跟，图10.58对应于鞋楦头。图9.1-9.3中标注尺寸的单位为毫米(mm)。图11.1-11.58是可用于制造本专利技术所述鞋或鞋帮的鞋楦的截面轮廓线。和图10.1-11.58 一样，这些轮廓线对应于图9.1-9.3中所示的平行线。图12A-12B显示足部解剖构造，无三平面调节或稳定。图13A-13B显不同时受:到两平面区域矫正(图13A)和同时受:到二平面区域矫正(图13B)的足。具体实施例方式本专利技术涉及一种鞋类系统，它通过调节或稳定足部的三平面运动来帮助运动链(足、膝、髋和下背)的定位和定向。该系统能够同时作用于足部构造的三个区域，在此被称为“三平面调节或稳定”:(I)载距突(缩写“ST”)；(2)跟骨外侧和(3)第五跖列(小指侧)。例如，可按下述矫正不良距骨内旋:⑴垂直提升ST ；⑵跟骨内翻；和(3)第五跖列施压令足前部内收。可利用一体化或由多个部件构成的鞋结构来实现所述的三平面调节或稳定，所述鞋结构被构造为能够如前所述进行三个相关构造区域，即跟骨外侧、载距突和第五跖列之间的三平面定位。所述调节或稳定是相对于穿鞋者脚掌自然着地旋前赤足站立时(大多数人的自然站姿)的足部构造而言的。图12A和12B显示这样一个旋前足无矫正时的情形。图13A和13B显示受到三平面矫正后的情形。本专利技术中，“调节”一词指相对于其天然位置或运动状态改变足部的相互定位。“稳定”指帮助保持足部已经受到的所需三平面修正状态(这样的足不视为常态足，而是自然的处于大致如(例如)图11.1-11.58所示的构相，后文将对此予以详细描述)。“支承”指稳定和/或调节。后文中将整合入鞋内提供所需三平面定位的一体化结构或复合结构称为“三平面系统”。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于足部的支承系统，所述足部具有内侧、外侧、载距突、跟骨外侧、足部的第五跖列和足前部，该支承系统包括：第一支承，它包括：底部；第一突出部分，构造为支撑在内侧上的载距突，并且在使用时提供在载距突上的力；第二突出部分，构造为支撑在足部外侧上的跟骨外侧；以及第三突出部分，构造为支撑在足部外侧上的足部的第五跖列；其中，所述第一突出部分、第二突出部分和第三突出部分在使用时从底部向上延伸，并且所述第一突出部分和第二突出部分限定了具有在内部的拱形侧壁的近似U型。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：谢丽尔·舍伍德·考斯塔，
申请(专利权)人：阿莱恩鞋业有限公司，
类型：发明
国别省市：