本发明专利技术提供一种构件放置装置，其包括机器框架和至少两个构件拾取单元，该至少两个构件拾取单元能够相对于机器框架支撑的至少一个子框架移动。每个构件拾取单元能够至少沿着移动方向移动。构件放置装置包括确定基本上沿着移动方向施加到子框架上的反力的大小的装置，以及至少一个驱动单元，所述至少一个驱动单元将基本上沿着移动方向的由所述装置确定的反力施加到子框架上，用于在构件拾取单元相对于子框架沿着移动方向移动的过程中，至少部分地抵消由至少一个构件拾取单元施加在子框架上的反作用力。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及包括机器框架以及至少两个构件拾取单元的构件放置装置，所述至少两个构件拾取单元可以相对于由机器框架支撑的至少一个子框架移动，每个构件拾取单元至少可以沿着移动方向移动。
技术介绍
这种构件放置装置是已知的，例如申请人的欧洲专利申请EP1937050A1。在所述已知的构件放置装置中，机器框架支撑多个子框架。每个子框架设有弓I导件，构件拾取单元在该引导件上可以沿着平行于引导件的移动方向移动。每个构件拾取单元还可以沿着横向于移动方向的方向相对于子框架移动。引导件彼此平行地延伸。搬运装置设置在构件拾取单元之下，该搬运装置横向于移动方向延伸，用于运输基底。每个子框架至少包括马达，该马达用于沿着移动方向移动构件拾取单元。通过构件拾取单元从构件拾取位置拾取构件，然后，构件拾取单元移动到基底上的期望位置之上，之后构件被放在基底的期望位置上。这种构件的放置必须以最高的可能速度和精度来完成。为了获得这种高速度，构件拾取单元以相对高的加速度从拾取位置移动。以相似的方式，构件拾取单元必须在基底上的期望位置附近快速减速，或者换句话说，必须以相对高的负加速度移动。这种高的加速度也在返回至拾取位置时发生。由于所述加速度，由构件拾取单元将相对大的反作用力施加在子框架上。所述反作用力造成机器框架和机器框架所支撑的其它子框架的振动和变形等，因此影响另一构件拾取单元可以移动到期望位置的精度。这种效应称为动态串扰，该术语意味着一个构件拾取单元的动态行为对另一个构件拾取单元的定位精度的影响。为了降低这种反作用力的影响，可以使构件拾取单元以不那么高的加速度移动。然而，这对于单位时间内能够移动的构件数量具有负面影响。另一个可能性是，使机器框架更重和更坚硬，使得反作用力能够更好地被吸收。然而，这将使得构件放置装置的制造和使用都成本较高。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种构件放置装置和用于控制这种构件放置装置的方法，其中，由一个构件放置装置施加的反作用力将实际上对另一构件拾取单元的定位精度没有影响。该目的通过根据本专利技术的构件放置单元实现，其中，构件放置装置包括确定基本上沿着移动方向施加到子框架上的反力的大小的装置，以及至少一个驱动单元，所述至少一个驱动单元将基本上沿着移动方向的由所述装置确定的反力施加到子框架上，用于在构件拾取单元相对于子框架沿着移动方向移动的过程中，至少部分地抵消由至少一个构件拾取单元施加在子框架上的反作用力。通过主动地及有目的地沿着移动方向施加反力(其方向与反作用力的方向相反，并且其优选与反作用力的大小相同)，施加到子框架上的反作用力被至少部分地(优选基本上完全地)抵消，使得能够至少基本上以及优选实际上完全地防止发生机器框架的振动和变形、以及其传递到靠近初始源(子框架)的其它子框架。结果，显著地降低或者至少实际上完全地防止动态串扰。要施加的反力的大小通过计算或通过测量来确定。根据本专利技术的构件放置装置的一个实施例的特征在于，所述子框架设有驱动单元的第一部件，而与所述驱动单元的第一部件配合的驱动单元的第二部件安装在辅助框架上，所述辅助框架与所述机器框架是独立的。术语“独立式的辅助框架”指的是对于驱动单元的任何支撑，其能够压制或消除来自机器框架和来自由机器框架支撑的子框架的力，使得即使存在振动，振动也更少。这种辅助框架可以由安装构件放置装置的建筑的壁来形成。这种辅助框架也可以是金属构造，例如，设置在机器框架附近。结果，在构件拾取单元沿着移动方向的移动期间，被辅助框架支撑的驱动单元的第二部件将不会经历由构件拾取单元施加到相关联的子框架上的反作用力的任何影响，并且由第二部件施加到第一部件上的力可以完全地被用于抵消反作用力。根据本专利技术的构件放置装置的另一实施例的特征在于，所述第一部件包括至少一个永久磁体，而所述第二部件包括至少一个可以电供能的线圈，或反之亦可。使用能够彼此配合的永久磁体和可以电供能的线圈，能够容易地产生大小和时间可变的反力。根据本专利技术的构件放置装置的又一实施例的特征在于，所述构件放置装置包括控制单元，该控制单元用于传输控制信号，用于控制所述构件拾取单元沿着移动方向移动，其中，所述驱动单元设有根据所述控制信号来确定由所述驱动单元施加的反力的大小的装置。这种控制信号通常包括关于随时间的期望运动图案的信息，例如，在将构件放置单元从构件拾取位置移动到基底上的期望位置所需的时间内的移动。移动图案包括三个阶段，例如，第一加速阶段，具有恒定高速度的第二阶段，以及具有负加速度的第三制动阶段。在第一和第三阶段期间，驱动单元产生的力依赖于发生的加速度(减速度)和移动质量。根据本专利技术的构件放置装置的又一实施例的特征在于，所述构件放置装置设有力传感器，用于确定由移动的构件拾取单元施加到子框架上的反作用力，其中，所述驱动单元设有根据施加到所述子框架上并且由所述力传感器测量的反作用力确定由所述驱动单元施加的反力大小的装置。以此方式，发生的反作用力被直接地测量，并且可以直接知道由驱动单元施加的反力。本专利技术的目的通过根据本专利技术的方法来实现，其中，一种用于驱动构件放置装置的方法，所述构件放置装置包括机器框架和至少两个构件拾取单元，所述至少两个构件拾取单元能够相对于由机器框架支撑的至少一个子框架移动，每个构件拾取单元能够至少沿着移动方向移动，所述至少一个构件拾取单元相对于子框架沿着移动方向移动，所述构件拾取单元将反作用力施加到所述子框架，由装置确定基本上沿着移动方向要施加到子框架上的反力，用于至少部分地抵消所述反作用力，由此，由所述装置确定的反力由至少一个驱动单元基本上沿着移动方向施加到子框架上。每次构件拾取单元相对于子框架移动，由此对子框架施加反作用力，则驱动单元将在子框架上施加反力。根据本专利技术的方法的另一实施例的特征在于，要施加的反力的大小至少基于控制信号来确定，该控制信号用于控制构件拾取单元沿着移动方向的移动。从所述控制信号，可以确定发生的加速度(减速度)，并且结合移动部件的已知重量，可以由此确定将发生的力、以及所需要的反力。根据本专利技术的方法的又一实施例的特征在于，由移动的构件拾取单元施加到子框架上的反作用力由力传感器测量，由此，至少根据施加到子框架上并且被力传感器测量的反作用力来确定要施加的反力的大小。使用力传感器，直接确定发生的反作用力以及所需要的反力。附图说明将参考附图更详细地解释本专利技术，其中: 图1是根据现有技术的构件放置装置的示意性侧视 图2是根据本专利技术的构件放置装置的示意性侧视 图3A和3B分别是图2中所示的构件放置装置的驱动单元的顶部平面视图和沿着箭头IIIB-1IIB所指示的方向的视 图4是根据本专利技术的构件放置装置的实施例的前透视 图5是图3中的构件放置装置的透视、部分剖面前视 图6是图3中所示的构件放置装置的透视、部分剖面后视 图7是图3中所示的构件放置装置的部分剖面侧视 图8是图3中所示的构件放置装置的部分剖面侧视图，其中，子框架相对于机器框架向上倾斜； 图9是根据本专利技术的构件放置装置的驱动单元的沿着图6中的箭头VII1-VIII所指示的方向的横截面图。在附图中相同的标号指示相同的部件。具体实施例方式图1示出了根据现有技术的构件放置装置I的示意性侧视图，其包括机器框架2、由机器框架2支撑的子框架3本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种构件放置装置，包括机器框架和至少两个构件拾取单元，所述至少两个构件拾取单元能够相对于由机器框架支撑的至少一个子框架移动，每个构件拾取单元能够至少沿着移动方向移动，其特征在于，所述构件放置装置包括确定基本上沿着移动方向施加到子框架上的反力的大小的装置，以及至少一个驱动单元，所述至少一个驱动单元将基本上沿着移动方向的由所述装置确定的反力施加到子框架上，用于在构件拾取单元相对于子框架沿着移动方向移动的过程中，至少部分地抵消由至少一个构件拾取单元施加在子框架上的反作用力。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：JHA范德里杰特，
申请(专利权)人：阿森姆布里昂有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL
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