一种超净高纯氢氟酸的制备方法技术

本发明专利技术涉及一种超净高纯氢氟酸的制备方法，其以工业级干态氟化氢为原料，使其在温度25℃~35℃以及压力0.08~0.12MPa下从储罐中导出，依次通过分子筛吸附、0.01μm滤芯过滤、1~2g/L的氟化钡水溶液以及0.1~1g/L的氟化银水溶液后，用超纯水吸收，并添加双氧水，保持在20℃~30℃下，循环搅拌至少1个小时；最后，控制蒸馏温度112.5℃~113.5℃、回流比2~4，进行精馏，精馏馏分经0.1μm滤芯循环过滤，即得。本发明专利技术的提纯路线设计合理巧妙，所得超净高纯级氢氟酸达到SEMIC12要求，且本发明专利技术工艺路线简单，操作方便，可实现氢氟酸稳定可靠的批量性生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及，所得高纯氢氟酸可用于半导体及TFT等相关高科技产品制备领域。
技术介绍
超净高纯电子化学品是超大规模集成电路制造的关键集成性原材料，其纯度、洁净度对成品率、电性能、可靠性等有十分重要的影响。当前主流半导体技术已经达到0.09 0.2 μ m，尖端已经达到22纳米水平。对应的电子化学品也达到了 SEMIC12要求。高纯电子化学品生产技术由德国、日本和美国等少数几个发达国家掌握。我国目前仅能生产初级和中级的电子化学品。高纯电子化学品纯度越来越高，产品的附加值越大。超高纯电子化学品的研发及其技术不但具有较高的战略价值，并且也具有较高的经济价值和社会效益。2012年7月20日国务院印发了 ‘国务院关于印发“十二五”国家战略性新兴产业发展规划的通知’，高纯电子化学品就属于通知中的新一代信息技术产业中的电子核心基础产业。 高纯氢氟酸是半导体用电子化学品之一，主要应用于硅片的蚀刻，清洗等工艺。当前氢氟酸主要的检测项目有阴离子、阳离子、颗粒。氢氟酸的主要的分离提纯方法有水洗法、精馏法、螯合剂、树脂吸附、氧化剂除砷(高锰酸钾、双氧水、氟气等)等，主要关注点为去除氢氟酸中的砷。目前，关本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种超净高纯氢氟酸的制备方法，其特征在于：以重量含量计，所述超净高纯氢氟酸中，单项阴离子杂质含量≤50ppb，单项金属杂质含量≤0.1ppb，＞0.2μm颗粒浓度≤100个/ml，所述方法以工业级干态氟化氢为原料，包括依次且连续进行的下列步骤：（1）、使原料干态氟化氢在温度25℃~35℃以及压力0.08~0.12Mpa下从储罐中导出；（2）、使导出的氟化氢气体依次通过分子筛吸附、0.01μm滤芯过滤、1~2g/L的氟化钡水溶液以及0.1~1g/L的氟化银水溶液，之后，用电阻率超过18MΩ的超纯水吸收得设定浓度的氟化氢水溶液，并添加双氧水，获得过氧化氢含量为0.01?wt%~0.1wt%的混合溶...

【技术特征摘要】
1.一种超净高纯氢氟酸的制备方法，其特征在于:以重量含量计，所述超净高纯氢氟酸中，单项阴离子杂质含量< 50ppb,单项金属杂质含量< 0.1ppb, > 0.2 μ m颗粒浓度(100个/ml，所述方法以工业级干态氟化氢为原料，包括依次且连续进行的下列步骤: (1)、使原料干态氟化氢在温度25°C 35°C以及压力0.08、.12Mpa下从储罐中导出； (2)、使导出的氟化氢气体依次通过分子筛吸附、0.01μ m滤芯过滤、l 2g/L的氟化钡水溶液以及0.rig/L的氟化银水溶液，之后，用电阻率超过18ΜΩ的超纯水吸收得设定浓度的氟化氢水溶液，并添加双氧水，获得过氧化氢含量为0.01 Wt°/T0.lwt%的混合溶液,保持在20°C 30°C下，循环搅拌至少I个小时，其中:分子筛吸附用于至少部分去除氟化氢气体中含有的有机气体杂质； (3)、控制蒸馏温度112.50C 113.5°C、回流比2 4，对氟化氢水溶液进行精馏，精馏馏分经0.1 μ m滤芯循环过滤，即得所述超净高纯氢氟酸。2.根据权利要求1所述的超净高纯氢氟酸的制备方法，其特征在于:所述的氟化钡水溶液、氟化银水溶液由分析...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘兵，王涛，
申请(专利权)人：苏州晶瑞化学有限公司，
类型：发明
国别省市：