导电结构体及其制备方法技术

本发明专利技术的示例性实施方式涉及一种导电结构体及其制备方法，所述导电结构体包括包含AlOxNy的黑化图形层。根据本发明专利技术的示例性实施方式的导电结构体可以防止通过导电图形层的反射而不影响导电图形层的导电性，并且通过提高吸光度可以提高导电图形层的隐藏性能。因此，通过使用根据本发明专利技术的示例性实施方式的导电结构体可以开发出具有提高的可视度的显示面板。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本申请要求于2011年3月4日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2011-0019598号的优先权和利益，其公开的全部内容在此以引用的方式并入本文。本申请涉及一种。
技术介绍
通常地，根据信号的检测方式，可以把触摸屏面板分为以下类型。S卩，电阻型，在施加直流电压的状态下，检测通过压力按压的位置，所述压力改变了电流或电压值；电容型，在施加交流电压的状态下，利用电容耦合；电磁型，在施加电磁场的状态下，作为电压的变化，检测选择的位置；等等。
技术实现思路
技术问题做出本专利技术是为了开发出一种用于提高本领域中多种模式的触摸屏面板的性能的技术。技术方案本专利技术的一个示例性实施方式提供了一种导电结构体，其包括:基板；导电图形层；和黑化图形层，其包含AlOxNy (O彡X彡1.5，O彡y彡I)。x和y分别表示在AlOxNy中O和N原子的数目 与一个Al原子的比例。本专利技术的另一个示例性实施方式提供了一种导电结构体，其包括:基板；导电图形层；和AlOxNy黑化图形层(x>0, y>0),其满足下列公式I。[公式I]

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.03.04 KR 10-2011-00195981.一种导电结构体，其包括: 基板； 导电图形层；和 黑化图形层，其包含AlOxNy，其中O彡X彡1.5，0彡y彡1， 其中，X和y分别表不在AlOxNy中O和N原子的数目与一个Al原子的比例。2.根据权利要求1所述的导电结构体，其中，所述黑化图形层的厚度为IOnm以上和400nm以下。3.根据权利要求1所述的导电结构体，其中，所述黑化图形层进一步包含选自介电材料、金属及其混合物中的至少一种。4.根据权利要求3所述的导电结构体，其中，所述介电材料选自SiO、3102、1%&和SiNz，其中z为I以上的整数。5.根据权利要求3所述的导电结构体，其中，所述金属选自Fe、Co、T1、V、Cu、Al、Au和Ag。6.根据权利要求1所述的导电结构体，其中，所述黑化图形层的面积为被所述导电图形层占据的面积的80-120%。7.根据权利要求1所述的导电结构体，其中，所述黑化图形层的线宽与所述导电图形层的线宽相同或者比所述导电图形层的线宽更宽。8.根据权利要求1所述的导电结构体，其中，在黑化图形层的与所述导电图形层接触的表面的相对表面的方向上测量的总反射率为20%以下。9.根据权利要求1所述的导电结构体，其中，所述黑化图形层设置在所述导电图形层和所述基板之间，在所述基板一侧测量的总反射率为20%以下。10.根据权利要求1所述的导电结构体，其中，所述导电结构体的表面电阻为IΩ/□以上和300 Ω / □以下。11.根据权利要求1所述的导电结构体，其中，所述导电图形层包含选自金属、金属合金、金属氧化物、金属氮化物及其混...

【专利技术属性】
技术研发人员：具范谟，黄智泳，章盛皓，朴镇宇，金忠完，李承宪，
申请(专利权)人：LG化学株式会社，
类型：
国别省市：