【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及集成电路芯片静电放电(Electronic Static Discharge,ESD)保护
,尤其涉及一种防误触发型电源钳位ESD保护电路。
技术介绍
集成电路芯片的静电防护设计是保证芯片可靠工作的必备条件之一。静电冲击在生活中无处不在,随着集成电路工艺技术代的不断进步,构成电路的器件尺寸越来越小,静电冲击本身具有时间短和瞬时电流非常大的特点,在器件尺寸做小的情况下,静电冲击会在器件内部形成巨大的等效电场,把器件直接击穿,使得器件遭受不可逆的物理伤害而瘫痪。ESD保护策略的宗旨就是在静电冲击来临的时候,为冲击带来的大量电荷提供一个低阻的泄放通路,静电电荷从低阻泄放通路泄放可以避免对内部逻辑电路造成伤害。随着工艺的进步,静电冲击对芯片逻辑电路的威胁越来越大,有效的防静电冲击设计方案的意义也就越来越突出。芯片的ESD冲击防护设计需要考虑的因素众多,可以从器件级别来优化泄放器件的泄放性能,可以从电路级别来设计一个有效的泄放器件触发机制,让泄放器件在冲击来临时有效开启,在正常上电时严格关闭,当然,随着功率集成电路的兴起与发展,功率器件的静电防护工作也得到了研究人员的足够重视。图1所示的电路是一种已有的ESD保护电路的示意图,该电路的泄放晶体管的开启通路和关断通路是分开的。如此一来,当冲击来临时,泄放晶体管的开启时间主要由关断通路的等效RC延迟来决定,使ESD冲击探测电阻和电容有了做小的裕度,无源电阻和电容做小一方面利于版图面积的节省,同时也是提升电路本身防止快速上电时的误触发的有效途径。然而,图1所示电路关断通路的电阻是用有源器件PMOS晶体 ...
【技术保护点】
一种防误触发型电源钳位ESD保护电路,其特征在于,包括ESD冲击探测部件、泄放晶体管、泄放晶体管开启通路以及泄放晶体管关断通路;所述ESD冲击探测部件包括NMOS晶体管Mcn1、Mcn2,电容C1,电阻R1;所述泄放晶体管为NMOS晶体管Mbig;所述泄放晶体管开启通路包括PMOS晶体管Mp2?1、Mp2?2、Mp3以及NMOS晶体管Mn2;所述泄放晶体管关断通路包括PMOS晶体管Mp4、Mp5、Mp6,NMOS晶体管Man1、Man2、Mbn1、Mbn2、Mn3、Mn4?1、Mn4?2,电容C2和C3。
【技术特征摘要】
1.一种防误触发型电源钳位ESD保护电路,其特征在于,包括ESD冲击探测部件、泄放晶体管、泄放晶体管开启通路以及泄放晶体管关断通路;所述ESD冲击探测部件包括NMOS晶体管Mcnl、Mcn2,电容Cl,电阻Rl ;所述泄放晶体管为NMOS晶体管Mbig ;所述泄放晶体管开启通路包括PMOS晶体管Mp2-1、Mp2-2、Mp3以及NMOS晶体管Mn2 ;所述泄放晶体管关断通路包括 PMOS 晶体管 Mp4、Mp5、Mp6, NMOS 晶体管 Manl、Man2、Mbnl、Mbn2、Mn3、Mn4_l、Mn4-2,电容 C2 和 C3。2.如权利要求1所述的防误触发型电源钳位ESD保护电路,其特征在于,在所述ESD冲击探测部件中,所述NMOS晶体管Mcnl的栅极与所述电容Cl的下极板相连,所述电容Cl的上极板与防误触发型电源钳位ESD保护电路的电源VDD相连,所述NMOS晶体管Mcnl的源极与所述电阻Rl的A端相连,所述电阻Rl的B端接地,所述NMOS晶体管Mcnl的漏极与所述电容Cl的下极板相连,所述NMOS晶体管Mcn2的栅极与所述电容Cl的下极板相连,所述NMOS晶体管Mcn2的源极与所述电阻Rl的A端相连,所述NMOS晶体管Mcn2的漏极与所述防误触发型电源钳位ESD保护电路的电源VDD相连; 所述NMOS晶体管Mbig的源极接地,所述NMOS晶体管Mbig的漏极与所述防误触发型电源钳位ESD保护电路的电源VDD相连; 在所述泄放晶体管开启通路中,所述PMOS晶体管Mp2-1的栅极与所述电阻Rl的A端相连,所述PMOS晶体管Mp2-1的源极与所述PMOS晶体管Mp2-2的栅极相连,所述PMOS晶体管Mp2-2的源极与所述防误触发型电源钳位ESD保护电路的电源VDD相连,所述PMOS晶体管Mp2-2的漏极与所述PMOS晶体管Mp2-1的源极相连,所述PMOS晶体管Mp2_l的漏极与所述PMOS晶体管Mp3的栅极相连,所述PMOS晶体管Mp3的源极与所述防误触发型电源钳位ESD保护电路的电源VDD相连,所述PMOS晶体管Mp3的漏极与所述泄放晶体管Mbig的栅极相连,所述NMOS晶体管Mn2的栅极与所述电阻Rl的A端相连,所述NMOS晶体管Mn2的源极接地,所述NMOS晶 体 管Mn2的漏极与所述PMOS晶体管Mp3的栅极相连; 在所述泄放晶体管关断通路中,所述PMOS晶体管Mp4的栅极与所述PMOS晶体管Mp5的漏极相连,所述PMOS晶体管Mp5的栅极与所述电阻Rl的A端相连,所述P...
【专利技术属性】
技术研发人员:王源,陆光易,曹健,刘琦,贾嵩,张兴,
申请(专利权)人:北京大学,
类型:发明
国别省市:
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