制冷装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种制冷装置。在包括使用含以分子式1：C3HmFn（其中，m与n都是1以上5以下的整数，m＋n＝6的关系成立）表示且在分子结构中具有一个双键的制冷剂的单一制冷剂或者包含该制冷剂的混合制冷剂的制冷剂回路的制冷装置中，利用包含聚四氟乙烯、聚苯硫醚、酚醛树脂、聚酰胺树脂、氯丁二烯橡胶、硅橡胶、氢化丁腈橡胶、含氟橡胶、氯醚橡胶中之任意一种的材料制造设置为可与制冷剂回路（10）中的制冷剂接触的规定的树脂制功能部件（61、62、63、64、65）；制冷剂回路中的制冷剂为仅由2,3,3,3-四氟-1-丙烯和二氟甲烷组成的混合制冷剂，混合制冷剂中2,3,3,3-四氟-1-丙烯的比例在70质量％以上94质量％以下，二氟甲烷的比例在6质量％以上30质量％以下。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种包括在压缩机中压缩制冷剂而进行制冷循环的制冷剂回路的制冷装置。
技术介绍
到目前为止，包括进行制冷循环的制冷剂回路的制冷装置被广泛地应用于空调装置、热水供给机等中。在专利文献I中公开有该种制冷装置。该制冷装置包括压缩机、冷凝器、膨胀阀以及蒸发器相连接而进行制冷循环的制冷剂回路。在该制冷剂回路中，已在压缩机中压缩了的制冷剂在冷凝器中向空气放热而冷凝。在冷凝器中已冷凝了的制冷剂经膨胀阀减压后，在蒸发器中蒸发。蒸发后的制冷剂被吸入压缩机后，被再次压缩。在专利文献I所公开的制冷剂回路中，使用的是以分子式I =C3HniFn (其中，m与n都是I以上且5以下的整数，m + n = 6的关系成立)表示且在分子结构中具有一个双键的制冷剂。众所周知，该制冷剂中不含氯原子、溴原子，对臭氧层的破坏所造成的影响小。专利文献1:日本公开特许公报特开平4 — 110388号公报
技术实现思路
-专利技术要解决的技术问题-因为专利文献I中所公开的制冷剂具有含双键等不够稳定的分子结构，所以会出现制冷剂伴随着长期的制冷循环恶化而生成杂质等情况。产生这样的杂质以后，例如压缩机的动涡旋盘的滑动部件、密本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制冷装置，包括利用压缩机（30）让制冷剂循环来进行制冷循环的制冷剂回路（10），所述制冷剂回路（10）中的制冷剂，使用的是以分子式1：C3HmFn表示且在分子结构中具有一个双键的制冷剂或者含有该制冷剂的混合制冷剂，其中，m与n都是1以上5以下的整数，m＋n＝6的关系成立，其特征在于：设置为可与所述制冷剂回路（10）中的制冷剂接触的规定的树脂制功能部件（61、62、63、64、65）由包含聚四氟乙烯、聚苯硫醚、酚醛树脂、聚酰胺树脂、氯丁二烯橡胶、硅橡胶、氢化丁腈橡胶、含氟橡胶、氯醚橡胶中之任意一种的材料制成；所述制冷剂回路中的制冷剂为仅由2,3,3,3?四氟?1?丙烯和二氟甲烷组成的混合制冷...

【技术特征摘要】
2008.03.18 JP 2008-0702381.一种制冷装置，包括利用压缩机(30)让制冷剂循环来进行制冷循环的制冷剂回路(10)，所述制冷剂回路(10)中的制冷剂，使用的是以分子式I =C3HmFn表示且在分子结构中具有一个双键的制冷剂或者含有该制冷剂的混合制冷剂，其中，m与n都是I以上5以下的整数，m + n = 6的关系成立,其特征在于: 设置为可与所述制冷剂回路(...

【专利技术属性】
技术研发人员：松浦秀树，田中胜，原日出树，芝池幸治，大沼洋一，
申请(专利权)人：大金工业株式会社，
类型：发明
国别省市：