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光学功能器件和摄像装置制造方法及图纸

技术编号:8629482 阅读:165 留言:0更新日期:2013-04-26 18:01
公开了一种光学功能元件,包括:基材层;半透过层,形成在基材层的一个主面上,半透过层反射预定比率的入射至其上的光,同时透过其余的光;以及防反射层,形成在该基材层的另一个主面上并且防止通过基材层的光的反射,所述另一个主面在一个主面的相反侧上。还公开了一种摄像装置包括:光学功能元件;用于接收来自光学功能元件的透过光的第一光接收元件;以及用于接收来自光学功能元件的反射光的第二光接收元件。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及光学功能器件和摄像装置。特别是,本专利技术涉及其中抑制多重反射的光学功能器件和包括该光学功能器件的摄像装置。
技术介绍
已经知晓单镜反光相机,其中单镜用作摄影透镜和取景透镜二者,使得来自摄影透镜的入射光由反射镜反射以允许在取景器中看见。单镜反光相机允许摄影者变化透镜,从而根据摄影场景及摄影者的需要进行摄影。入射到取景器的光学系统上的光通过用反射镜反射从透镜入射的光而获得,并且在摄影时,反射镜缩回并且从透镜入射的光实际到达了膜。因此,在采用单镜反光相机时,其优点在于拍摄从取景器中看到的物体的照片和所显示的图像完全相像,而没有任何视差。为了提供具有自动对焦传感器的单镜反光相机,已经知晓一种单镜反光相机,其中反射镜由半透过反射镜制造,并且透过光用另一个子反射镜传至自动对焦传感器(例如,见专利文件I和2)。在这样的单镜反光相机中,执行自动对焦(在下文,必要时将自动对焦称为AF)直至触发快门。如上所述,单镜反光相机改变可移动反射镜的位置,由此切换入射光至取景器光学系统和膜。这意味着,在拍摄(曝光)物体的瞬间,不可能通过取景器看到物体。当该构造中提供半透过反射镜和子反射镜时,必须缩回半透过反射镜和子反射镜二者到缩回位置,这使其难于在执行连续拍照时使AF正常发挥作用。因此,已经提出了取消子反射镜且使半透过反射镜作为固定式的构造(例如,见专利文件3)。在如专利文件3所公开的构造中,来自半透过反射镜的反射光传至AF传感器单元,并且从其中透过的光传至摄像装置。根据专利文件3所公开的构造,即使在曝光期间也始终能看见物体,并且AF可始终在执行。然而,当半透过反射镜制作为固定式时,在半透过反射镜内发生多重反射,并且可能出现实际不存在的图像(在下文必要时称为幻像)。当红外(IR)截止滤光片和紫外(UV)截止滤光片提供在半透过反射镜的一个表面上时,这种现象也会发生。特别是在数字相机中,容易放大已摄取的数字图像,因此幻像可能会引起问题。在先技术文件专利文件专利文件1:特许第2801217号专利的说明书专利文件2 :特开平8-254751号公报专利文件3 :特开2006-197406号公报
技术实现思路
本专利技术要解决的问题目的是提供其中抑制多重反射的光学功能器件和包括该光学功能器件的摄像装置。解决问题的方案光学功能器件的优选实施例如下。一种光学功能器件,包括基材层;半透过层,形成在基材层的一个主面上,半透过层反射入射光中预定比率的光且透过其余的光;以及防反射层,相对于基材层形成在该基材层的与该一个主面相反的主面上,防反射层防止通过基材层的光反射。摄像装置的优选实施例如下。一种摄像装置,包括光学功能器件,该光学功能器件包括基材层、半透过层和防反射层,半透过层形成在基材层的一个主面上,半透过层反射入射光中预定比率的光且透过其余的光,防反射层相对于基材层形成在基材层的与该一个主面相反的主面上,防反射层防止通过基材层的光反射,该光学功能器件还包括第一光接收器件和第二光接收器件,第一光接收器件用于接收来自光学功能器件的透过光,第二光接收器件用于接收来自光学功能器件的反射光。光学功能器件具有形成在基材层的主面上的半透过层和形成在于形成有半透过层的表面相反的主面上的防反射层。防反射层防止通过基材层的内部传播至防反射层的光反射到基材层的内部。因此,抑制了光学功能器件内的多重反射。本专利技术的有益效果根据至少一个示例,可抑制光学功能器件内的多重反射,并且因此,可提供抑制幻像出现的摄像装置。附图说明图1是示出根据第一实施例的光学功能器件的示意性截面图。图2A是示出半透过层的构造示例的示意性截面图。图2B是示出从图2A所示的层结构得到的期待的光学特性模拟结果的示意图。图3A是示出通过堆叠无机材料形成的防反射层的构造示例的示意性截面图。图3B是从图3A所示的层构造得到的期待的光学特性模拟结果的示意图。图4是示出当蛾眼形成在基材上作为防反射层时,有效反射系数Re[%]相对于入射光的波长入[nm]的示意图。图5是示出反射光的分光术的概况的示意性线图。图6A和6B是示出半透过反射镜固定式摄像装置的示意性线图,并且说明AF如何受到半透过反射镜卷曲的影响。图7A是示出根据第二实施例的摄像装置的概况的示意性截面图。图7B是放大且示出靠近光学功能器件的部分的示意性线图。图8是不出样品SI至样品S5的有效反射系数Re [%]相对于入射光的波长X [nm]的示意图。图9A至9E是用于说明样品SI至样品S5的通过光源装置捕获的图像的示意图。图1OA是示出半透过反射镜固定式摄像装置的示意性构造的示意性截面图。图1OB是放大且示出靠近半透过反射镜的部分的示意性线图。具体实施例方式在下文,将说明光学功能器件和摄像装置的实施例。应注意,说明将以下面的顺序进行。〈O.半透过反射镜固定式摄像装置〉(示意性构造)(半透过反射镜内的多重反射)〈1.第一实施例>[光学功能器件](基材层)(半透过层)(防反射层)(卷曲的减少)<2.第二实施例>[摄像装置](摄像装置的构造)(光学功能器件的设置)[示例]<3.变形 >应注意,下面描述的实施例是光学功能器件和摄像装置的优选特定示例。在下面的说明中,增加了根据技术优选的各种限制,但是,除非特别表示为本专利技术特别限定,光学功能器件和摄像装置的示例不限于下面描述的实施例。〈O.半透过反射镜固定式摄像装置〉为了有利于对实施例的理解,首先,将说明半透过反射镜固定式摄像装置的示意性构造。(示意性构造)图1OA是示出半透过反射镜固定式摄像装置的示意性构造的示意性截面图。图1OB是放大且示出靠近半透过反射镜的部分的示意性线图。如图1OA所示,可更换的摄影光学系统123接附到壳体121以构成摄像装置111的主体。摄影透镜125和光圈等设置在透镜筒127中,这些构成摄影光学系统123。摄影光学系统123的摄影透镜125由对焦驱动系统(未示出)所驱动,该对焦驱动系统能使AF运行。在壳体121中,半透过反射镜101固定为可相对于物体光的光轴倾斜。在半透过反射镜101之上,提供AF模块133。AF的方法通常为相差检测方式。膜135相对于半透过反射镜101提供在与摄影透镜125相反的一侧。在图1OA中,快门机构没有示出。半透过反射镜101反射且透过经由摄影透镜125入射到壳体121中的物体光。如图1OB所示,半透过反射镜101采用具有光学透明度的树脂膜103作为基材,并且光学薄膜105形成在其一个主面上。光学薄膜105形成在靠近摄影透镜125的主面上,并且提供为以预定的反射率反射入射到半透过反射镜101上的光。由半透过反射镜101反射的光传至AF模块133,并且其余的光(透过光)传至膜或摄像装置。更具体而言,具有图10构造的摄像装置采用一部分物体光用于AF,并且用其余的光执行膜或摄像装置的曝光。如图10所示的摄像装置是透过光到达膜135的示例。在如图10所示的构造中,半透过反射镜101制作为固定式,而不执行缩回操作,并且因此,物体光的一部分始终入射到AF模块上。因此,AF始终在执行。在图10所示的构造中,不提供光学取景器,并且由半透过反射镜101向上反射的光传至AF模块133用于AF。然而,该光学系统可设计为在上部提供光学取景器和AF模本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.08.18 JP 2010-1831341.一种光学功能器件,包括 基材层; 半透过层,形成在该基材层的一个主面上,该半透过层反射入射光中预定比率的光,并且透过其余的光;以及 防反射层,相对于该基材层形成在该基材层的与该一个主面相反的主面上,该防反射层防止通过该基材层的光的反射。2.根据权利要求1所述的光学功能器件,其中该基材层由光学各向同性材料制造。3.根据权利要求1所述的光学功能器件,其中该基材层的厚度等于或小于100ym。4.根据权利要求1所述的光学功能器件,其中该防反射层在400nm至650nm的波长带中的有效反射系数的平均值等于或小于1. 2%。5.根据权利要求1所述的光学功能器件,其中该半透过层和该防反射层由相同的材料制造。6.根据权利要求1所述的光学功能器件,其中该半透过层和该防反射层通过溅射法形成。7.根据权利要求1所述的光学功能器件,其中该半透过层和该防反射层通过蒸发法形成。8.根据权利要求1所述的光学功...

【专利技术属性】
技术研发人员:胜田恭敏儿玉信之长谷川真一前田恭男小岛和彦胜野博
申请(专利权)人:索尼公司
类型:
国别省市:

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