人工保护耳膜机构及其实现方法技术

技术编号:8615572 阅读:272 留言:0更新日期:2013-04-24 18:53
本发明专利技术涉及一种人工保护耳膜机构及其实现方法,人工耳膜保护机构,由底座、PET薄膜和上帽组配而成,底座为空腔锥体状,底座的中心加工有中心通孔,中心通孔上口边沿加工有子母扣结构的半圆凹槽;上帽为空腔圆柱,圆柱上底中心为通孔,圆柱上底内壁下部的内腔为锥体状,上帽上底内壁平面上加工有子母扣结构的半圆凸缘;底座上口边沿的半圆凹槽与上帽上底内壁平面上的半圆凸缘相配合,将PET薄膜置于半圆凹槽与半圆凸缘之间,使PET薄膜中心部分形成张紧状态,由半圆凹槽与半圆凸缘绷紧后扣牢,从而形成装置中的人工保护膜,用PET薄膜将作为听力通道的通孔隔绝保护膜,利用PET薄膜张力一致性好的特点,实现在高水压、高气压作业、高噪音环境下,即能避免高压直接冲击作业者耳膜,又能保留畅通的听力通道的效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及人体耳膜保护耳塞技术,特别涉及一种,作为人体耳膜保护耳塞组件,装配在耳塞的硅胶外套内构成人体耳膜保护耳塞整体,在诸如水下高水压作业、陆地高气压作业、高噪音的环境下,使用人体耳膜保护耳塞来保护工作人员的耳膜安全。
技术介绍
在水下的高水压作业、陆地高气压作业、高噪音等环境下,环境压力作用会对工作人员的耳膜造成伤害,为避免高压直接冲击作业者耳膜(鼓膜),造成不可修复的损伤。通常采用佩戴耳塞的方法来保护工作人员耳膜安全。现有的耳塞通常由硅胶或塑胶成型,通过耳塞减压,还可通过耳塞中心小孔形成听力通道。现有的耳塞虽然可以减小在高水压、高气压、高噪音环境下对作业者耳膜(鼓膜)的伤害,然而由于耳塞中心小孔的存在,通透小孔未能将耳膜(鼓膜)与外部隔绝,所以不能完全避免在高压作用下,水、气从小孔灌入耳内,所以现有的耳塞不能完全避免高压直接冲击作业者耳膜(鼓膜),如果取消通透小孔,则会失去作业者的听力通道,因此,需要通过技术改造和设计一种新的人工保护耳膜机构结构,将其应用于人体耳膜保护耳塞,实现在高水压、高气压作业、高噪音环境下,即能避免高压直接冲击作业者耳膜(鼓膜),又能保留畅通的听力通道的效果,通过技术改造克服现有技术的不足,目前市场上还未有此类可保护人体耳膜(鼓膜)的装置,文献中也无相关报道。
技术实现思路
鉴于上述存在的问题 ,本专利技术的目的就是提供人工保护耳膜机构的设计方案,通过结构上的改进,用PET薄膜将作为听力通道的通孔隔绝保护膜,使其具有以下特点结构简单,安装方便,利用PET薄膜张力一致性好的特点,实现在高水压、高气压作业、高噪音环境下,即能避免高压直接冲击作业者耳膜(鼓膜),又能保留畅通的听力通道的效果。可适用于大批量生产,成本较低。本专利技术是通过这样的技术方案实现的一种人工耳膜保护机构,其特征在于,由底座、PET薄膜和上帽组配而成,所述底座的形状为空腔锥体状,底座的下部是底盘、底座的中部是座身,座身上有定位块;定位块用于与硅胶外套内壁定位槽配合;底座的中心加工有中心通孔,中心通孔上口边沿加工有子母扣结构的半圆凹槽; 所述上帽的形状为空腔圆柱,圆柱上底中心为通孔,圆柱上底内壁下部的内腔为锥体状,上帽上底内壁平面上加工有子母扣结构的半圆凸缘;底座的座身的外壁直径和上帽的内壁直径尺寸相配合;座身上口边沿的半圆凹槽与上帽上底内壁平面上的半圆凸缘相配合,装配构成子母扣结构;底座的中心通孔与上帽的通孔贯通; 所述PET薄膜置于半圆凹槽与半圆凸缘之间,由半圆凹槽与半圆凸缘绷紧后扣牢,由底座、PET薄膜和上帽依次装配构成人工耳膜保护机构整体。所述人工耳膜保护机构的实现方法,其特征在于,包括如下步骤 a)将PET薄膜置于半圆凹槽与半圆凸缘之间,使底座的顶端半圆凹槽与上帽圆柱上底内壁的接触位置的半圆凸缘相配合; b)使PET薄膜中心部分形成张紧状态,由半圆凹槽与半圆凸缘绷紧后扣牢,凭借摩擦自锁和子母扣两种形式同时作用,将PET薄膜平整地张紧在底座中心通孔与上帽的通孔中间,从而形成装置中的人工保护膜。底座的座身锥体的锥度为5度,圆柱上底内壁下部的内腔锥度为5度。本专利技术有益效果用PET薄膜将作为听力通道的通孔隔绝保护膜,使其具有以下特点结构简单,安装方便,利用PET薄膜张力一致性好的特点,实现在高水压、高气压作业、高噪音环境下,即能避免高压直接冲击作业者耳膜(鼓膜),又能保留畅通的听力通道的效果。可适用于大批量生产,成本较低。附图说明·图1是人工耳膜保护机构的爆炸 图2是应用人工耳膜保护机构的耳塞总装 图3是PET薄膜形成的保护膜示意图。图中1.底座,2. PET薄膜,3.上帽,4.硅胶外套;11.底盘,12.座身,13.定位块,14.中心通孔,15.半圆凹槽;31.通孔,32.半圆凸缘。具体实施例方式为了更清楚的理解本专利技术,结合附图和实施例详细描述本专利技术 如图1至图3所示,人工耳膜保护机构,由底座1、PET薄膜2和上帽3组配而成,所述底座I的形状为空腔锥体状,底座I的下部是底盘11、底座I的中部是座身12,座身12上有定位块13 ;定位块13用于与娃胶外套4内壁定位槽配合;底座I的中心加工有中心通孔14,中心通孔14上口边沿加工有子母扣结构的半圆凹槽15 ; 所述上帽3的形状为空腔圆柱,圆柱上底中心为通孔31,圆柱上底内壁下部的内腔为锥体状,上帽3上底内壁平面上加工有子母扣结构的半圆凸缘32 ;底座I的座身12的外壁直径和上帽3的内壁直径尺寸相配合;座身12上口边沿的半圆凹槽15与上帽3上底内壁平面上的半圆凸缘32相配合,装配构成子母扣结构;底座I的中心通孔14与上帽3的通孔31贯通; 所述PET薄膜2置于半圆凹槽15与半圆凸缘32之间,由半圆凹槽15与半圆凸缘32绷紧后扣牢,由底座1、PET薄膜2和上帽3依次装配构成人工耳膜保护机构整体。人工耳膜保护机构的实现方法,包括如下步骤 a)将PET薄膜2置于半圆凹槽15与半圆凸缘32之间,使底座I的顶端半圆凹槽15与上帽3圆柱上底内壁的接触位置的半圆凸缘32相配合; b)使PET薄膜2中心部分形成张紧状态,由半圆凹槽15与半圆凸缘32绷紧后扣牢,凭借摩擦自锁和子母扣两种形式同时作用,,将PET薄膜2平整地张紧在底座I中心通孔14与上帽3的通孔31中间,从而形成装置中的人工保护膜。人工耳膜保护机构,底座I的座身12锥体的锥度为5度,圆柱上底内壁下部的内腔锥度为5度。根据上述说明,结 合本领域技术可实现本专利技术的方案。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种人工耳膜保护机构,其特征在于,由底座(1)、PET薄膜(2)和上帽(3)组配而成;所述底座(1)的形状为空腔锥体状,底座(1)的下部是底盘(11)、底座(1)的中部是座身(12),座身(12)上有定位块(13),定位块(13)用于与硅胶外套(4)内壁定位槽配合;底座(1)的中心加工有中心通孔(14),中心通孔(14)上口边沿加工有子母扣结构的半圆凹槽(15);????所述上帽(3)的形状为空腔圆柱,圆柱上底中心为通孔?(31),圆柱上底内壁下部的内腔为锥体状,上帽(3)上底内壁平面上加工有子母扣结构的半圆凸缘(32);底座(1)的座身(12)的外壁直径和上帽(3)的内壁直径尺寸相配合;座身(12)上口边沿的半圆凹槽(15)与上帽(3)上底内壁平面上的半圆凸缘(32)相配合,装配构成子母扣结构;底座(1)的中心通孔(14)与上帽(3)的通孔?(31)贯通;所述PET薄膜(2)置于半圆凹槽(15)与半圆凸缘(32)之间,由半圆凹槽(15)与半圆凸缘(32)绷紧后扣牢,由底座(1)、PET薄膜(2)和上帽(3)依次装配构成人工耳膜保护机构整体。

【技术特征摘要】
1.一种人工耳膜保护机构,其特征在于,由底座(I)、PET薄膜(2)和上帽(3)组配而成;所述底座(I)的形状为空腔锥体状,底座(I)的下部是底盘(11)、底座(I)的中部是座身(12),座身(12)上有定位块(13),定位块(13)用于与硅胶外套(4)内壁定位槽配合;底座(I)的中心加工有中心通孔(14),中心通孔(14)上口边沿加工有子母扣结构的半圆凹槽(15); 所述上帽(3)的形状为空腔圆柱,圆柱上底中心为通孔(31),圆柱上底内壁下部的内腔为锥体状,上帽(3)上底内壁平面上加工有子母扣结构的半圆凸缘(32);底座(I)的座身(12)的外壁直径和上帽(3)的内壁直径尺寸相配合;座身(12)上口边沿的半圆凹槽(15)与上帽(3)上底内壁平面上的半圆凸缘(32)相配合,装配构成子母扣结构;底座(I)的中心通孔(14)与上帽(3)的通孔(31)贯通; 所述PET薄膜...

【专利技术属性】
技术研发人员:姜涛窦静
申请(专利权)人:天津市中环亚光电子有限责任公司
类型:发明
国别省市:

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