基于倏逝场照明的移频超分辨显微成像方法和装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种基于倏逝场照明的移频超分辨显微成像方法，包括以下几个步骤：1)入射照明光倾斜照射在基板介质分界面上进行全反射并产生倏逝场；2)使用倏逝场对样品表面进行照明，并通过显微镜接收样品表面的强度图像；3)对强度图像进行傅里叶变换得到相应频谱，对所得到的频谱进行还原，得到相应的频谱还原图像；4)绕样品多次改变入射照明光方向，直至入射照明光方向覆盖0～360°，得到不同方向下的频谱还原图像；5)对不同方向下的频谱还原图像进行叠加，得到完整的高频频谱图像；6)对完整高频频谱图像进行傅里叶反变换，得到观察样品的超分辨显微图像。本发明专利技术还公开了一种基于倏逝场照明的移频超分辨显微成像装置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于微观观测测量领域，具体涉及一种基于倏逝场照明的移频超分辨显微成像方法和装置。
技术介绍
纳米技术与生物技术是21世纪发展最迅速和热门的科学领域。纳米技术应用广泛，包括I IOOnm尺度内的成像、测量、加工、操纵等。许多重要的生物体比如葡萄糖、抗体、病毒等都处于这个尺度范围内，研究这些微小物体的需求推动了高分辨率显微成像技术的发展。反过来，超分辨显微术的发展也推动了整个生命科学的进步。相比其他的显微技术，光学显微技术的一大优势是可以对处于自然状态的活细胞进行研究。自世界上第一台光学显微镜问世以来，提高光学显微成像系统的分辨能力及测量范围一直是众多科学家致力研究的重要科学问题，特别是近年来，随着物理学、生物医学、微电子学和材料学等学科的迅速发展，对这一问题的研究变得尤为迫切，主要体现在物理学的发展要求人们能观测到微观世界中原子的大小；分子生物学的发展要求人们能观测到活体细胞这种高散射物质内小到纳米尺度的单分子；微电子技术的发展要求人们能检测到超大规模集成电路中窄到数十纳米的线宽尺寸；纳米新材料的出现要求人们能观测到纳米尺度大小的纳米颗粒等，这些现代科学的新进展，更加促使人本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于倏逝场照明的移频超分辨显微成像方法，其特征在于，包括以下几个步骤：1)将准直后的入射照明光倾斜照射在基板介质分界面上产生全反射，在基板介质分界面另一侧产生倏逝场；2)使用倏逝场对样品表面进行照明，并通过显微镜从远场接收样品表面的强度图像；3)对所述的强度图像进行傅里叶变换得到相应频谱，使用移频算法对所得到的频谱进行还原，并得到相应的频谱还原图像；4)绕样品多次改变入射照明光方向，直至入射照明光方向覆盖0～360°，每次均重复步骤1)～步骤3)，得到不同方向下的频谱还原图像；5)对不同方向下的频谱还原图像进行叠加，得到完整的高频频谱图像；6)对所述的完整高频频谱图像进行傅里叶反变换，得到...

【技术特征摘要】
1.一种基于倏逝场照明的移频超分辨显微成像方法，其特征在于，包括以下几个步骤1)将准直后的入射照明光倾斜照射在基板介质分界面上产生全反射，在基板介质分界面另一侧产生倏逝场；2)使用倏逝场对样品表面进行照明，并通过显微镜从远场接收样品表面的强度图像；3)对所述的强度图像进行傅里叶变换得到相应频谱，使用移频算法对所得到的频谱进行还原，并得到相应的频谱还原图像；4)绕样品多次改变入射照明光方向，直至入射照明光方向覆盖O 360°，每次均重复步骤I) 步骤3)，得到不同方向下的频谱还原图像；5)对不同方向下的频谱还原图像进行叠加，得到完整的高频频谱图像；6)对所述的完整高频频谱图像进行傅里叶反变换，得到观察样品的超分辨显微图像。2.如权利要求1所述的基于倏逝场照明的移频超分辨显微成像方法，其特征在于，所述的入射照明光为具有相同偏振方向、且波长在380 780nm范围内的可见单色线偏振光。3.如权利要求1所述的基于倏逝场照明的移频超分辨显微成像方法，其特征在于，步骤4)中的入射照明光方向改变的次数由下式决定NUM = n /arcsin (km/ke)式中km为显微镜最大截止频率，ke为倏逝场横向光波矢。4.一种基于倏逝场照明的移频超分辨显微成像装置，其特征在于，包括用于产生入射照明光的光源组；用于对所述入射照明光进行全反射且带有基板介质分界面的棱镜，该基板介质分界面的...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘旭，郝翔，匡翠方，库玉龙，李旸晖，
申请(专利权)人：浙江大学，
类型：发明
国别省市：