一种用于半导体厂房的洁净室制造技术

本发明专利技术公开了一种用于半导体厂房的洁净室，包括新风输送系统、排气系统和一大型洁净空间，所述大型洁净空间内具有中央走道和至少一条生产走道；所述中央走道和所有生产走道的四周围设有隔板，使其所在的至少一部分架构空间、洁净空间，以及高架地板所在的空间构成独立的洁净微环境结构；所述中央走道的内围设有第二隔板，第二隔板设于所述隔板的内侧，隔板和第二隔板之间的天花板镂空，使隔板和第二隔板之间的架构空间和洁净空间构成回风通道。本发明专利技术在中央走道和所有生产走道的四周围设有隔板，构成独立的洁净微环境结构，从而避免了上述腐蚀性气体对中央走道和生产走道内的储存仓及产品的影响。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于半导体厂房的洁净室，尤其是指用于高端半导体的生产场口 O
技术介绍
半导体厂房是专门用来制备半导体器件的地方，目前已经得到了广泛应用。由于半导体器件的特殊性，要求半导体厂房必须设计成洁净室，以满足恒温恒湿以及洁净度等要求。对于一些高端半导体的生产厂房，如32/28nm，甚至以下的高端制程，不但对洁净度的要求较高，且对漂浮于空气中的悬浮化学分子气体污染更为严格。现有的用于半导体厂房的洁净室参见附图广3所示，主要包括新风输送系统、排气系统和一大型洁净空间，该大型洁净空间内设有各种加工设备，在各个加工设备15之间形成有一条中央走道I (central area)和多条生产走道2 (bay (production area)),所述生产走道和中央走道都是空白通道，其间通过储存仓3 (Stocker)的传递来实现物料的输送(在生产走道和储存仓之间有时候还设有摆放区21 (F0UP)，用来暂时摆放待处理的半导体器件)；所述生产走道和中央走道之间是连通的；大型洁净空间的其他区域称之为服务区(service area),用来摆放各种加工设备。现有技术中，在生产走道(bay)和本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于半导体厂房的洁净室，包括新风输送系统、排气系统和一大型洁净空间，所述大型洁净空间内具有中央走道(1)和至少一条生产走道(2)；所述大型洁净空间从上到下包括架构空间(4)、洁净空间(5)和循环空间(6)，架构空间和洁净空间之间设有天花板(7)，洁净空间和循环空间之间设有高架地板(10)和混凝土板(11)；其特征在于：所述中央走道和所有生产走道的四周围设有隔板(8)，使其所在的至少一部分架构空间、洁净空间，以及高架地板所在的空间构成独立的洁净微环境结构；所述洁净微环境的底部设有下密封板(12)，其顶部设有上密封板(13)；所述中央走道的内围设有第二隔板(19)，第二隔板设于所述隔板的内侧，...

【技术特征摘要】
1.一种用于半导体厂房的洁净室，包括新风输送系统、排气系统和一大型洁净空间，所述大型洁净空间内具有中央走道(I)和至少一条生产走道(2); 所述大型洁净空间从上到下包括架构空间(4)、洁净空间(5)和循环空间(6)，架构空间和洁净空间之间设有天花板(7)，洁净空间和循环空间之间设有高架地板(10)和混凝土板(11);其特征在于 所述中央走道和所有生产走道的四周围设有隔板(8)，使其所在的至少一部分架构空间、洁净空间，以及高架地板所在的空间构成独立的洁净微环境结构； 所述洁净微环境的底部设有下密封板(12)，其顶部设有上密封板(13)； 所述中央走道的内围设有第二隔板(19)，第二隔板设于所述隔板的内侧，隔板和第二隔板之间的天花板镂空，使隔板和第二隔板之间的架构空间和洁净空间构成回风通道(18)； 所述各个生产走道的天花板下设有至少一个通风管(20)，构成洁净微环境结构的回风...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨政谕，
申请(专利权)人：亚翔系统集成科技苏州股份有限公司，
类型：发明
国别省市：