一种连续电镀线装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种连续电镀线装置，包括环形的钢带以及安装在钢带下方的电镀液槽，所述的电镀液槽包括电镀液子槽和电镀液母槽，多个待电镀的工件悬挂在所述的钢带下方，所述的钢带运行时待电镀的工件进入所述的电镀液子槽内由电镀液进行电镀处理，由所述的电镀液母槽向所述的电镀液子槽输送电镀液，控制电镀液子槽内电镀液和电镀液母槽内电镀液的液位落差。通过上述方式，本发明专利技术保证了电镀液子槽内电镀液和电镀液母槽内电镀液的液位落差大大减小，相对传统连续电镀线体，其电镀溶液循环时冲击力大幅降低，有利于抑制珍珠镍溶液中有机成分的分解，从而大幅度延长电镀溶液中珍珠镍的时效性，从根本上解决了在连续电镀线体上进行珍珠镍电镀的难题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电镀的领域，特别是涉及一种连续电镀线装置，尤其是适用于珍珠镍电镀。
技术介绍
珍珠镍也称沙丁镍，镀层呈乳白色、无光泽，似半朦胧的消光状态。通常珍珠镍中含有多种添加剂，沙剂是其中的一种添加剂。沙剂是非离子型表面活性剂所形成的乳液，具有反常的溶解度，在电镀液中呈不稳定的状态，会逐步分解。电镀液的循环搅拌越剧烈，沙剂越容易分解，减少了电镀液的时效性。所以在珍珠镍电镀中，减小电镀液循环过滤的落差及控制电镀液搅拌的剧烈程度尤其重要。
技术实现思路
本专利技术主要解决的技术问题是提供一种连续电镀线装置，能够解决现有技术中珍珠镍(含有机添加剂)的电镀液容易分解，时效性差的问题。为解决上述技术问题，本专利技术采用的一个技术方案是提供一种连续电镀线装置，包括环形的钢带以及安装在钢带下方的电镀液槽，所述的电镀液槽包括电镀液子槽和电镀液母槽，多个待电镀的工件悬挂在所述的钢带下方，所述的钢带运行时待电镀的工件进入所述的电镀液子槽内由电镀液进行电镀处理，由所述的电镀液母槽向所述的电镀液子槽输送电镀液，控制电镀液子槽内电镀液和电镀液母槽内电镀液的液位落差。在本专利技术一个较佳实施例中，所述的电镀液槽为子母连体式电镀液槽。在本专利技术一个较佳实施例中，所述的电镀液子槽和电镀液母槽内的电镀液为珍珠镍，其中，所述的电镀液母槽内的电镀液比电镀液子槽内的电镀液浓度大。在本专利技术一个较佳实施例中，所述的珍珠镍还加入有添加剂，所述的添加剂为硫酸镍、湿润剂、柔软剂以及沙剂。在本专利技术一个较佳实施例中，所述的电镀液子槽和电镀液母槽之间的电镀液液位落差为20-30cm。本专利技术的有益效果是本专利技术的连续电镀线装置，适用于珍珠镍电镀，保证了电镀液子槽内电镀液和电镀液母槽内电镀液的液位落差大大减小，相对传统连续电镀线体，其电镀溶液循环时冲击力大幅降低，有利于抑制珍珠镍溶液中有机成分的分解，从而大幅度延长电镀溶液中珍珠镍的时效性，从根本上解决了在连续电镀线体上进行珍珠镍电镀的难题。附图说明 图1是本专利技术连续电镀线装置一较佳实施例的结构示意 图2是图1中电镀液槽的结构示意图；附图中各部件的标记如下1、钢带，2、电镀液子槽，3、电镀液母槽，4、待电镀工件，5、电镀液。具体实施例方式下面结合附图对本专利技术的较佳实施例进行详细阐述，以使本专利技术的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本专利技术的保护范围做出更为清楚明确的界定。请参阅图1和图2，本专利技术实施例提供了一种连续电镀线装置，包括环形的钢带I以及安装在钢带I下方的电镀液槽，所述的电镀液槽包括电镀液子槽2和电镀液母槽3，多个待电镀的工件4悬挂在所述的钢带I下方，所述的钢带I运行时待电镀的工件4进入所述的电镀液子槽2内由电镀液5进行电镀处理，钢带I除起到连续电镀的传动功能外，还起到作为阴极的导电作用，由所述的电镀液母槽3向所述的电镀液子槽2输送电镀液5，控制电镀液子槽2内电镀液5和电镀液母槽3内电镀液5的液位落差。其中，所述的电镀液槽为子母连体式电镀液槽。上述中，所述的电镀液子槽2和电镀液母槽3内的电镀液5为珍珠镍。其中，所述的电镀液母槽内3的电镀 液5比电镀液子槽2内的电镀液5浓度大。所述的珍珠镍还加入有添加剂，所述的添加剂为硫酸镍、湿润剂、柔软剂以及沙剂。本专利技术中，所述的电镀液槽包括电镀液子槽2和电镀液母槽3，当多个待电镀工件4进入电镀液子槽2内由电镀液5进行电镀处理后，电镀液子槽2内电镀液5的容量开始慢慢减少，电镀液5的浓度也相应的减少，电镀液子槽2和电镀液母槽3之间的电镀液5液位落差就开始增大，同时由于待电镀工件4在进行电镀中对电镀液5形成了一个搅拌的过程，容易使电镀液5中的添加剂进行分解，减少了电镀液5的时效性。本专利技术由所述的电镀液母槽3通过水泵向上方的电镀液子槽2输送电镀液5，保证电镀液子槽2内电镀液5和电镀液母槽3内电镀液5的液位落差，同时新输入电镀液母槽3内的电镀液5浓度较高，可以弥补电镀液子槽2内电镀液5浓度减少的现象，有效的减少了电镀液5中添加剂的分解，大大延长了电镀液5的时效性。其中，所述的电镀液子槽2和电镀液母槽3之间的电镀液液位落差为20-30cm。本专利技术揭示的连续电镀线装置，适用于珍珠镍电镀，保证了电镀液子槽2内电镀液5和电镀液母槽3内电镀液5的液位落差大大减小，相对传统连续电镀线体，其电镀溶液循环时冲击力大幅降低，有利于抑制珍珠镍溶液中有机成分的分解，从而大幅度延长电镀溶液中珍珠镍的时效性，从根本上解决了在连续电镀线体上进行珍珠镍电镀的难题。以上所述仅为本专利技术的实施例，并非因此限制本专利技术的专利范围，凡是利用本专利技术说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的
，均同理包括在本专利技术的专利保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种连续电镀线装置，其特征在于，包括环形的钢带以及安装在钢带下方的电镀液槽，所述的电镀液槽包括电镀液子槽和电镀液母槽，多个待电镀的工件悬挂在所述的钢带下方，所述的钢带运行时待电镀的工件进入所述的电镀液子槽内由电镀液进行电镀处理，由所述的电镀液母槽向所述的电镀液子槽输送电镀液，控制电镀液子槽内电镀液和电镀液母槽内电镀液的液位落差。

【技术特征摘要】
1.一种连续电镀线装置，其特征在于，包括环形的钢带以及安装在钢带下方的电镀液槽，所述的电镀液槽包括电镀液子槽和电镀液母槽，多个待电镀的工件悬挂在所述的钢带下方，所述的钢带运行时待电镀的工件进入所述的电镀液子槽内由电镀液进行电镀处理，由所述的电镀液母槽向所述的电镀液子槽输送电镀液，控制电镀液子槽内电镀液和电镀液母槽内电镀液的液位落差。2.根据权利要求1所述的连续电镀线装置，其特征在于，所述的电镀液槽为子母连体式电...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢彪，庞美兴，
申请(专利权)人：苏州市安派精密电子有限公司，
类型：发明
国别省市：