一种微小孔硅胶制造流程制造技术

技术编号:8588173 阅读:212 留言:0更新日期:2013-04-18 01:48
本发明专利技术涉及一种微小孔硅胶制造流程,通过配碱池、配酸罐、反应塔和水洗罐进行混合、反应和水洗,具体流程为:在硅胶生产设备上通过配碱池配制SiO2含量为25-30%的硅酸钠溶液,温度为25-30℃,在配酸罐内配置含量为20-35%的硫酸溶液,温度为25-30℃,将硫酸溶液加入到反应塔内,再将配制好的硅酸钠溶液加入到反应塔内,反应后形成硅胶颗粒,硅胶颗粒在PH值在1-3的酸性溶液中老化15-18小时后,进入到水洗罐中,在30-40℃的水中进行水洗,水洗到终点后进行氨泡6-8小时,然后在烘箱内压滤烘干,即得微小孔硅胶。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于硅胶制造
,具体涉及一种微小孔硅胶制造流程
技术介绍
硅胶的应用领域日渐广泛,就目前的应用来看,硅胶的应用领域主要向微粉化、微小孔化和大孔化发展,在助滤剂、消光剂、触平剂、催化剂载体、选择性吸附等应用领域都得到了很好的应用,微小孔硅胶适用于涂料、塑料、造纸、酿造、石油化工、建筑、日用化工等行业,也可以进行皮革保护专用,可有效提升这些皮革的产品质量。目前现有工艺技术在粒度分布上取得的效果还不明显。
技术实现思路
本专利技术克服了现有技术的不足,提出了一种微小孔硅胶制造流程,所述微粉硅胶制造流程是由硅酸钠与硫酸进行溶胶反应制得的,其反应示意式为Na2 S i 03+H2 SO4——Na2S04+H4Si04H4SiO4SiO2 · ηΗ20本专利技术的技术方案为一种微小孔硅胶制造流程,通过配碱池、配酸罐、反应塔和水洗罐进行混合、反应和水洗,具体流程为在硅胶生产设备上通过配碱池配制SiO2含量为25-30%的硅酸钠溶液,温度为25 -30°C,在配酸罐内配置含量为20-35%的硫酸溶液,温度为25-30°C,将硫酸溶液加入到反应塔内,再将配制好的硅酸钠溶液加入到反应塔内,反应后形成硅胶颗粒,硅胶颗粒在PH值在1-3的酸性溶液中老化15-18小时后,进入到水洗罐中,在30-40°C的水中进行水洗,水洗到终点后进行氨泡6-8小时,然后在烘箱内压滤烘干,即得微小孔硅胶。反应塔内反应温度为70_80°C。水洗罐内水洗时间为30-35小时。压滤烘干阶段烘箱的温度为100-150°C,烘干时间为48-52小时。本专利技术具有如下有益效果I)无需对原材料进行特殊的处理。2)生产过程都是在常压条件下进行的,有利于规模化生产。3)水洗过程中水洗温度在常温下进行,制得的硅胶粒度分布均匀。4)可根据客户的需要在水洗过程中进行扩孔处理,满足不同客户的指标要求。5)缩短了生产周期,装置利用率明显提高。以下结合具体实施方式进一步说明本专利技术。具体实施例方式以下是本专利技术的实施实例实施实例1:先将10升25%硫酸溶液加入到实验用反应塔内,再将6升配制好的SiO2含量为30%的硅酸钠溶液喷入到实验用反应塔内,塔内温度为70°C,在PH值在1-3的酸性溶液中老化15小时后进入到实验用水洗罐中,在30°C的水中进行水洗,水洗到30小时后进行氨泡7小时,然后压滤烘干阶段烘箱的温度为100°C,烘干时间为48小时实验数据如表I。表I实验数据表本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种微小孔硅胶制造流程,其特征在于:通过配碱池、配酸罐、反应塔和水洗罐进行混合、反应和水洗,具体流程为:在硅胶生产设备上通过配碱池配制SiO2含量为25?30%的硅酸钠溶液,温度为25?30℃,在配酸罐内配置含量为20?35%的硫酸溶液,温度为25?30℃,将硫酸溶液加入到反应塔内,再将配制好的硅酸钠溶液加入到反应塔内,反应后形成硅胶颗粒,硅胶颗粒在PH值在1?3的酸性溶液中老化15?18小时后,进入到水洗罐中,在30?40℃的水中进行水洗,水洗到终点后进行氨泡6?8小时,然后在烘箱内压滤烘干,即得微小孔硅胶。

【技术特征摘要】
1.一种微小孔硅胶制造流程,其特征在于通过配碱池、配酸罐、反应塔和水洗罐进行混合、反应和水洗,具体流程为在硅胶生产设备上通过配碱池配制SiO2含量为25-30%的硅酸钠溶液,温度为25-30°C,在配酸罐内配置含量为20-35%的硫酸溶液,温度为25_30°C, 将硫酸溶液加入到反应塔内,再将配制好的硅酸钠溶液加入到反应塔内,反应后形成硅胶颗粒,硅胶颗粒在PH值在1-3的酸性溶液中老化15-18小时后,进入到水洗...

【专利技术属性】
技术研发人员:乔伟光
申请(专利权)人:青岛中能集团有限公司
类型:发明
国别省市:

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