接触式等离子割炬制造技术

一种等离子割炬，特别是接触式等离子割炬，其结构有笔形的弯头形两种。两者都通过使用一种螺旋槽式的电极的割嘴，提高了电离效果，改进了冷却方式，笔形割炬的工作气体可由空气改成氧气，其冷却方式可由单一气体冷式改成单一水冷式或气水混合式，这就提高了割炬对切割条件的适应性，扩大了割炬适用范围。该割炬可切割板厚为０．１～２０毫米的不锈钢、碳钢，６毫米以下铜或铝。（*该技术在2007年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种等离子割炬，特别是接触式等离子割炬。该割炬专用于切割金属薄板。现有的接触式等离子割炬(或焊炬)，其电极结构一般为空心或实心圆柱体，割咀(或焊咀)结构为一般的圆锥漏斗形(见美国专利US4558201和日本专利特开昭58-51791)。这种电极和割咀寿命短，同时，工作气体是以切线式直接进入电离室，所以电离效果差，能量利用率低。一种割炬，一般只能使用一种工作气体，也就是只能使用空气或氧气(见日本《焊接技术》，No.10，p29，1983，日本专利特开昭59-229282)，与此相关，割咀的冷却，只能使用空气冷却或水冷却(日本《焊接技术》No.8，p15，1986，No.4，p99，1980)，这就限制了割炬的适用范围。本专利技术的目的在于提供一种能量利用率高、关键零件寿命长、适用范围广的接触式等离子割炬。本专利技术的目的，是通过以下两种结构的接触式等离子割炬实现的。一种是笔形接触式空气或氧气等离子割炬。其结构是将一般的空心圆柱电极改成螺旋槽式空心圆柱电极。改进的电极结构由三部分组成，下部为球头形小圆柱体，其球端嵌有锆或铪;中部为带有多头螺旋槽的大圆柱体;上部为带有内螺纹的光本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种接触式等离子割炬，包括电极（１）、割咀（２）、割咀盖（３）、壳体（４）、中心气管（８），其特征是电极（１）采用螺旋槽式空心圆柱结构，下部为球头形小圆柱体（１－ａ），其球端嵌有锆或铪，中部为带有多头螺旋槽的大圆柱体（１－ｂ），上部为一带有内螺纹的光滑圆柱体（１形槽（１－ｄ），槽底有多个径向孔（１－ｅ），其位置与螺旋槽对应。

【技术特征摘要】
1.一种接触式等离子割炬，包括电极(1)、割咀(2)、割咀盖(3)、壳体(4)、中心气管(8)，其特征是电极(1)采用螺旋槽式空心圆柱结构，下部为球头形小圆柱体(1-a)，其球端嵌有锆或铪，中部为带有多头螺旋槽的大圆柱体(1-b)，上部为一带有内螺纹的光滑圆柱体(1形槽(1-d)，槽底有多个径向孔(1-e)，其位置与螺旋槽对应。2.按权利要求1所述的接触式等离子割炬，其特征是割咀(2)采用螺旋槽式漏斗结构，其下部为带有多头螺旋槽的小圆柱体(2-a)，其中心钻有工作气体喷射孔，上部为带凸缘的圆锥漏斗形(2-b)。3.按权利要求2所述的等离子割炬，其特征是电极(1)的上部与阴杆(7)连接，电极(1)的外周与导气套(6)配合，导气套(6)内腔上部有环形槽(6-a)和径向孔(6-b)，阴极杆(7)外圆周与绝缘套(11)配合，阴极杆(7)上部与顶盖(12)连接，顶盖(12)内腔有弹簧(13)及弹簧座(14)，弹簧座(14)与塔形接头(15)、气电缆(16)连接。4.按权利要求3所述的等离子割炬，...

【专利技术属性】
技术研发人员：魏俊全，欧阳涛，卢崇仁，
申请(专利权)人：核工业部第六研究所，
类型：发明
国别省市：43[中国|湖南]