本发明专利技术提供一种能够降低玻璃板的损坏发生率的玻璃板研磨装置的监控方法及监控系统。实施方式的监控系统始终监控玻璃板（G）相对于吸附片（22）的异常吸附状态，在判定为异常时，不实施该玻璃板的研磨，停止研磨部（18）或使警报装置发出警告声，向操作员报告异常。实施方式的监控系统在具有甘油涂敷部（12）、板吸附部（14）及研磨部的普通设备的玻璃板研磨装置（10）中，在板吸附部和研磨部之间包括具有拍摄部（16）的判定部（20）。拍摄部通过光源（38）对从板吸附部向研磨部移动的吸附片进行照明，通过相机（40）对该反射光进行拍摄。而且，判定部（20）基于由相机拍摄的图像来判定玻璃板是否正常地吸附于吸附片。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及玻璃板研磨装置的监控方法及监控系统。
技术介绍
液晶显示器、等离子显示器等所使用的FPD (Flat Panel Display :平板显示器)用的玻璃板如下加工而成，将熔融玻璃成形为板状，然后，在通过切断装置切成规定的矩形尺寸的玻璃板后，通过倒角装置的倒角用砂轮对该端面进行倒角加工。然后，所述玻璃板通过利用研磨装置研磨去除表面的微小凹凸或波纹，被制造为满足FH)用玻璃板所要求的平面度的薄板状的玻璃板。作为所述玻璃板的尺寸，以纵横尺寸超过IOOOmm为主流，其厚度为O. 7mm以下。专利文献I中所公开的研磨装置包括板贴附台，向张设于膜框的吸附片贴附玻璃板；膜框安装台，将膜框安装于支架；及研磨台，使安装有膜框的支架和研磨加工台相对地靠近，将贴附于所述吸附片的玻璃板的研磨面推向研磨加工台的研磨垫而进行研磨。所述吸附片由具有自身吸附性的多孔质部件构成，为了防止吸附于吸附片的玻璃板的非研磨面的干燥或提高吸附片的自身吸附力，玻璃板经由液体而吸附于吸附片。在专利文献2所公开的晶片的研磨方法中，通过使甘油等液体介于晶片的非研磨面和晶片载置用板之间，可以提高晶片的非研磨面和所述载置用板的吸附力。另外，在规定的涂敷量范围内随着甘油的涂敷量增多吸附片的吸附力增强，但当甘油的涂敷量超过规定的涂敷量时吸附力有降低的趋势。而且，在将玻璃板载置于吸附片之前，通过相机等拍摄单元或传感器等检测单元来检查在吸附片的吸附面是否附着有玻璃片、吸附片碎片、研磨工具片及研磨剂等异物。专利文献1:日本特开2004-122351号公报专利文献2 :日本特开6-61203号公报专利技术内容在研磨装置中，希望监控玻璃板是否正常吸附于吸附片，但在设备复杂的研磨装置中，难以用目测监控。特别是在如专利文献I所示的研磨装置那样，使玻璃板的非研磨面吸附于吸附片的下表面而进行研磨的装置中，设备复杂且必须从支架的下方仰视吸附片，因此进行目测监控非常困难。本专利技术鉴于以上情况而被作出的，其目的在于提供一种能够监控玻璃板相对吸附片的吸附状态的玻璃板研磨装置的监控方法及监控系统。首先，对玻璃板相对吸附片的吸附状态的异常形态进行说明。第一异常形态是由于对吸附片的甘油的涂敷量过多及涂敷量过少而使吸附片的吸附力降低的形态。第二异常形态是两片以上的玻璃板吸附于吸附片的形态。该形态包含在残留于吸附片的玻璃片吸附新的玻璃板的形态。第三异常形态是吸附片未吸附有玻璃板的形态。第四异常形态是相对于框体玻璃板偏离正规的位置而吸附于吸附片的形态。本专利技术着眼于上述第一 第四异常形态而作出。以下，对本专利技术进行说明。本专利技术为了完成所述目的，提供一种玻璃板研磨装置的监控方法，包括液体涂敷工序，向吸附玻璃板的吸附片涂敷液体；吸附工序，使玻璃板的非研磨面吸附于涂敷有所述液体的所述吸附片；拍摄工序，朝所述吸附片照射照明光，对该反射光进行拍摄；判定工序，基于拍摄到的图像判定所述玻璃板是否正常地吸附于所述吸附片；及研磨工序，研磨吸附于所述吸附片的所述玻璃板的研磨面。而且，本专利技术为了完成所述目的，提供一种玻璃板研磨装置的监控系统，包括液体涂敷单元，向吸附玻璃板的吸附片涂敷液体；吸附单元，使玻璃板的非研磨面吸附于涂敷有所述液体的所述吸附片；拍摄单元，朝所述吸附片照射照明光，对该反射光进行拍摄；判定单元，基于拍摄到的图像判定所述玻璃板是否正常地吸附于所述吸附片；及研磨单元，研磨吸附于所述吸附片的所述玻璃板的研磨面。根据本专利技术，在具有液体涂敷工序、吸附工序及研磨工序的玻璃板研磨装置中，在所述吸附工序和所述研磨工序之间包括拍摄工序和判定工序。所述拍摄工序对从所述吸附工序向所述研磨工序移动的吸附片进行照明，通过拍摄单元对该反射光进行拍摄。所述判定工序基于由所述拍摄单元拍摄的图像来判定玻璃板是否正常地吸附于所述吸附片。因此，本专利技术能够监控玻璃板相对吸附片的吸附形态。另外，在研磨装置配置所述拍摄单元，因而不需要目测监控，而且，在设备复杂的研磨装置中也能够进行所述判定。优选地，在本专利技术的所述判定工序中，算出所述图像的亮度的平均值，并且对该平均值和预先存储的所述液体的涂敷量为最佳值时的最佳亮度的范围进行比较，当所述平均值处于所述最佳亮度的范围时，判定为所述玻璃板正常地吸附于所述吸附片，当所述平均值处于最佳亮度的范围之外时，判定为所述玻璃板未正常地吸附于所述吸附片。优选地，所述判定单元算出所述图像的亮度的平均值，并且对该平均值和预先存储的所述液体的涂敷量为最佳值时的最佳亮度的范围进行比较，当所述平均值处于所述最佳亮度的范围时，判定为所述玻璃板正常地吸附于所述吸附片，当所述平均值处于最佳亮度的范围之外时，判定为所述玻璃板未正常地吸附于所述吸附片。本专利技术对所述的第一异常形态进行判定。在相对于吸附片的液体的涂敷量比最佳值多的状态下玻璃板吸附于吸附片时，拍摄单元感受来自吸附片的反射光的光量比来自玻璃板的反射光的光量多。因此，拍摄单元对吸附片的颜色(例如亮度比玻璃板的亮度低的黑色)进行拍摄，由于该平均亮度未超过最佳亮度的范围的下限值，因此判定单元判定为由于涂敷量过多玻璃板未能正常地吸附于吸附片。另外，在相对于吸附片的液体的涂敷量比最佳值少的状态下玻璃板吸附于吸附片时，拍摄单元感受来自玻璃板的反射光的光量比来自吸附片的反射光的光量多。因此，拍摄单元对玻璃板的颜色(例如亮度高的白色)进行拍摄，由于该平均亮度超过最佳亮度的范围的上限值，因此判定单元判定为由于涂敷量过少玻璃板未能正常地吸附于吸附片。另一方面，当相对于吸附片的液体的涂敷量是最佳值时，拍摄单元感受来自吸附片的反射光和与该反射光大致相同光量的来自玻璃板的反射光。因此，拍摄单元对玻璃板的颜色(例如白色)和吸附片的颜色(例如黑色)混合后的灰色进行拍摄，该平均亮度处于最佳亮度的范围内，因此判定单元判定玻璃板正常地吸附于吸附片。优选地，在所述判定工序中，算出所述图像中所包含的白色部分的面积(白色面积)，并且比较该白色面积和预先存储的基准白色面积，当所述白色面积未达到所述基准白色面积时，判定为一片玻璃板正常地吸附于所述吸附片，当所述白色面积在所述基准白色面积以上时，判定为至少两片玻璃板吸附于所述吸附片。优选地，本专利技术的所述判定单元算出所述图像中所包含的白色部分的面积(白色面积)，并且比较该白色面积和预先存储的基准白色面积，当所述白色面积未达到所述基准白色面积时，判定为一片玻璃板正常地吸附于所述吸附片，当所述白色面积在所述基准白色面积以上时，判定为至少两片玻璃板吸附于所述吸附片。本专利技术对所述的第二异常形态进行判定。当至少两片玻璃板吸附于吸附片时，由于从至少两片玻璃板反射来照明光，因而该部分的图像将成为白色。判定单元算出所述白色部分的面积(白色面积)，通过比较算出的白色面积和基准白色面积来判定所述第二异常形态。另外，为了识别来自吸附片的反射光和来自玻璃板的反射光，吸附片的颜色优选为例如黑色等比玻璃板的亮度低的颜色。优选地，在本专利技术的所述判定工序中，算出所述图像中所包含的黑色部分的面积(黑色面积)，并且比较该黑色面积和预先存储的基准黑色面积，当所述黑色面积不足所述基准黑色面积时，判定为所述玻璃板正常地吸附于所述吸附片，当所述黑色面积为所述基准黑色面积以上时，判定为所述玻璃板未吸附本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种玻璃板研磨装置的监控方法，其特征在于，包括：液体涂敷工序，向吸附玻璃板的吸附片涂敷液体；吸附工序，使玻璃板的非研磨面吸附于涂敷有所述液体的所述吸附片；拍摄工序，朝所述吸附片照射照明光，对该反射光进行拍摄；判定工序，基于拍摄到的图像判定所述玻璃板是否正常地吸附于所述吸附片；及研磨工序，研磨吸附于所述吸附片的所述玻璃板的研磨面。
【技术特征摘要】
2011.09.30 JP 2011-2168071.一种玻璃板研磨装置的监控方法，其特征在于，包括 液体涂敷工序，向吸附玻璃板的吸附片涂敷液体； 吸附工序，使玻璃板的非研磨面吸附于涂敷有所述液体的所述吸附片； 拍摄工序，朝所述吸附片照射照明光，对该反射光进行拍摄； 判定工序，基于拍摄到的图像判定所述玻璃板是否正常地吸附于所述吸附片；及 研磨工序，研磨吸附于所述吸附片的所述玻璃板的研磨面。2.根据权利要求1所述的玻璃板研磨装置的监控方法，其中， 在所述判定工序中，算出所述图像的亮度的平均值，并且对该平均值和预先存储的所述液体的涂敷量为最佳值时的最佳亮度的范围进行比较，当所述平均值处于所述最佳亮度的范围时，判定为所述玻璃板正常地吸附于所述吸附片，当所述平均值处于最佳亮度的范围之外时，判定为所述玻璃板未正常地吸附于所述吸附片。3.根据权利要求1或2所述的玻璃板研磨装置的监控方法，其中， 在所述判定工序中，算出所述图像中所包含的白色部分的面积，并且比较该白色面积和预先存储的基准白色面积，当所述白色面积未达到所述基准白色面积时，判定为一片玻璃板正常地吸附于所述吸附片，当所述白色面积在所述基准白色面积以上时，判定为至少两片玻璃板吸附于所述吸附片。4.根据权利要求广3中任一项所述的玻璃板研磨装置的监控方法，其中， 在所述判定工序中，算出所述图像中所包含的黑色部分的面积，并且比较该黑色面积和预先存储的基准黑色面积，当所述黑色面积未达到所述基准黑色面积时，判定为所述玻璃板正常地吸附于所述吸附片，当所述黑色面积在所述基准黑色面积以上时，判定为所述玻璃板未吸附于所述吸附片。5.根据权利要求广4中任一项所述的玻璃板研磨装置的监控方法，其中， 在所述吸附片吸附有框体，所述框体配置在吸附保持于所述吸附片的所述玻璃板的周围，并和所述玻璃板一同抵接于所述研磨工序中的研磨工具， 在所述判定工序中，基于所述图像算出所述玻璃板和所述框体的间隔，比较算出的间隔和预先存储的基准间隔，当所述算出的间隔在所述基准间隔以下或在所述基准间隔以上时，判定为所述玻璃板未正常地吸附于所述吸附片。6.根据权利要求广5中任一项所述的玻璃板研磨装置的监控方法，其中， 在所述吸附工序中，所述玻璃板以所述非研磨面为上表面而吸附于所述吸附片...
【专利技术属性】
技术研发人员：秋山秀，胜吕昭男，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：
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