具有掩模交接保护功能的掩模台、方法及光刻设备技术

本发明专利技术公开一种具有掩模交接保护功能的掩模台，设置在一基台上，包括：运动台，承载掩模；驱动机构，驱动运动台相对基台运动；一掩模交接保护模块，包括固定在基台上的固定装置以及固定连接承片台的定位装置，所述固定装置设有一可动的锁紧部，该锁紧部连接所述定位装置时固定所述承片台。本发明专利技术同时公开一种使用该具有交接保护功能的掩模台的方法及一种光刻设备。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种集成电路装备制造领域，尤其涉及一种具有掩模交接保护功能的掩模台、方法及光刻设备。
技术介绍
现有技术中的光刻装置，主要用于集成电路IC或其它微型器件的制造。通过光刻装置将具有不同掩模图案的多层掩模在精确对准下依次成像在涂覆有光刻胶的晶片上，例如半导体晶片或LCD板。光刻装置大体上分为两类，一类是步进光刻装置，掩模图案一次曝光成像在晶片的一个曝光区域，随后晶片相对于掩模移动，将下一个曝光区域移动到掩模图案和投影物镜下方，再一次将掩模图案曝光在晶片的另一曝光区域，重复这一过程直到晶片上所有曝光区域都拥有掩模图案的像。另一类是步进扫描光刻装置，在上述过程中，掩模图案不是一次曝光成像，而是通过投影光场的扫描移动成像。在掩模图案成像过程中，掩模与晶片同时相对于投影系统和投影光束移动。在上述的光刻设备中，需具有相应的装置作为掩模版和硅片的载体，装载有掩模版/硅片的载体产生精确的相互运动来满足光刻需要。上述掩模版的载体被称之为承版台，硅片/基板的载体被称之为承片台。承版台和承片台分别位于光刻装置的掩模台分系统和工件台分系统中，为上述分系统的核心模块。在扫描光刻装置中，掩模台一般本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有掩模交接保护功能的掩模台，设置在一基台上，其特征在于，包括：运动台，承载掩模；驱动机构，驱动运动台相对基台运动；一掩模交接保护模块，包括固定在基台上的固定装置以及固定连接承片台的定位装置，所述固定装置设有一可动的锁紧部，该锁紧部连接所述定位装置时固定所述承片台。

【技术特征摘要】
1.一种具有掩模交接保护功能的掩模台，设置在一基台上，其特征在于，包括 运动台，承载掩模； 驱动机构，驱动运动台相对基台运动； 一掩模交接保护模块，包括固定在基台上的固定装置以及固定连接承片台的定位装置，所述固定装置设有一可动的锁紧部，该锁紧部连接所述定位装置时固定所述承片台。2.如权利要求1所述的的掩模台，其特征在于，所述运动台包括相对基台运动的粗动台和相对粗动台运动的微动台，所述掩模交接保护模块的定位装置固定于粗动台上。3.如权利要求2所述的的掩模台，其特征在于，所述驱动机构包括驱动粗动台沿Y向运动的第一运动装置和驱动微动台沿X、Y、RZ向运动的第二运动装置。4.如权利要求3所述的的掩模台，其特征在于，所述第一运动装置为提供Y向直线运动的直线电机，所述第二运动装置为提供X、Y、RZ向运动的X向电机和Y向电机。5.如权利要求1所述的的掩模台，其特征在于，所述固定装置上的锁紧部为一定位...

【专利技术属性】
技术研发人员：江旭初，李生强，董俊清，徐涛，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：