一种直写式光刻加工系统及光刻方法技术方案

一种直写式光刻加工系统和光刻方法，该光刻加工系统包括能够运用傅立叶展开计算功能的控制系统和由该控制系统控制实现多次光刻的曝光系统。该光刻方法依据傅立叶分析原理，将待刻曲面展开为傅立叶多项式，然后根据多项式中各项余弦函数进行多次光刻，使得多此光刻叠加后实现目标曲面的刻蚀。通过本发明专利技术的实施，能够对任意大幅面的三维曲面进行刻蚀，并且具有较高的设计灵活性、刻蚀效率和精确度，以及较低的成本等优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光刻
，具体地，是一种用于制备三维曲面的直写式光刻加工系统和光刻方法。
技术介绍
三维曲面(微)结构，在光学薄膜、平板显不、微光学器件以及微机电系统(MEMS)等诸多领域具有广泛应用。例如，具有球面结构的微透镜阵列，也被称为蝇眼透镜，可实现光束匀化和阵列成像，广泛应用于光刻机光源和CCD检测等领域。又例如，具有V型沟槽和金字塔结构的光学薄膜，具有定向反射的光学效果，广泛应用于公共交通领域的安全标识。目前三维曲面(微)结构的制作方法主要有，特殊物理和化学工艺方法、精密机械加工和光刻加工共三大类方法，逐一分析如下。特殊的物理和化学工艺方法，是指利用特殊的物理和化学效应生成特定的三维曲面的加工方法。例如，对光刻胶和玻璃等低熔点材料，采用热熔回流的处理方法，依靠重力和液体的表面张力，很容易获得球面以及柱面结构。又例如，利用晶体硅的各项异性，进行化学腐蚀，可以获得V型和金字塔型的槽型结构。这类方法的优点是成本低廉，曲面质量良好，但是主要缺点是，只能制备特定的少数几种曲面结构类型，通用性和灵活性很差。精密机械加工方法，采用金刚石车床和数控精雕机等精密和超精密加工机床进行材料本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种直写式光刻加工系统，包括曝光系统和控制系统，其特征在于：所述曝光系统包括光源、分光器件、第一光学镜组、可变光阑和第二光学镜组，所述分光器件为空间光调制器，所述第一光学镜组和第二光学镜组组成缩放投影光学镜组，所述可变光阑具有位置可调的单级光通孔，该曝光系统按光源、分光器件、第一光学镜组、可变光阑和第二光学镜组的顺序组成曝光光路，所述控制系统包括用于将三维曲面进行傅里叶展开的计算器和根据上述计算器得到的傅里叶多项式进行曝光控制的驱动控制器，其中所述驱动控制器包括用以驱动空间光调制器显示的驱动电路、用以控制可变光阑单级光通孔位置的单轴驱动电机，以及用以驱动整个曝光系统进行移动的三轴驱动电机。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：胡进，浦东林，陈林森，
申请(专利权)人：苏州大学，
类型：发明
国别省市：