【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及激光
,更具体地说,涉及一种激光发射装置。
技术介绍
激光二极管可以作为激光分析仪的光源部分,激光分析仪通过激光二极管发出特定波长的激光束(仅能被待测气体吸收),穿过待测气体时,激光强度的衰减与待测气体的浓度成一定的函数关系,因此通过测量激光强度衰减信息就可以分析获得待测气体的浓度。但是,由于激光二极管发射出的激光光强分布为高斯分布,即中间光强较强,边缘分布较弱,且具有发散角,所以用该激光检测待测气体浓度会有很大的偏差。因此,为减小获得的待测气体浓度的偏差,我们需要获得光线准直均匀的激光。在激光分析仪的发射筒内安装有保护镜片,用于将激光二极管和被测环境隔离。现有技术为获得光线准直均匀的激光,方法是将遮光片附着在保护镜片上进行遮挡。因为激光光强分布为高斯分布,高斯分布的特点就是中间光强很强,边缘光强很弱,而介于中间和边缘之间的环形部分光强是近似均匀的,这样通过遮挡就可以获得光线准直均匀的激光。因为现有技术是遮挡透镜中间和边缘部分,遮挡面积过大会降低激光光强,遮挡过小达不到激光均匀的效果,所以遮挡面积不易确定。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术提供 ...
【技术保护点】
一种激光发射装置,其特征在于,所述装置从内到外依次安装有激光光源、第一凹透镜、第一凸透镜和第二凸透镜,所述第一凹透镜具有第一虚焦点和第二虚焦点,所述第一凸透镜具有第一实焦点和第二实焦点,所述第二凸透镜具有第三实焦点和第四实焦点;所述第一虚焦点与所述激光光源的距离为第一距离,所述第二虚焦点与所述激光光源的距离为第二距离,所述第一距离小于所述第二距离;所述第一实焦点与所述激光光源的距离为第三距离,所述第二实焦点与所述激光光源的距离为第四距离,所述第三距离小于所述第四距离;所述第三实焦点与所述激光光源的距离为第五距离,所述第四实焦点与所述激光光源的距离为第六距离,所述第五距离小于 ...
【技术特征摘要】
1.一种激光发射装置,其特征在于,所述装置从内到外依次安装有激光光源、第一凹透镜、第一凸透镜和第二凸透镜,所述第一凹透镜具有第一虚焦点和第二虚焦点,所述第一凸透镜具有第一实焦点和第二实焦点,所述第二凸透镜具有第三实焦点和第四实焦点;所述第一虚焦点与所述激光光源的距离为第一距离,所述第二虚焦点与所述激光光源的距离为第二距离,所述第一距离小于所述第二距离;所述第一实焦点与所述激光光源的距离为第三距离,所述第二实焦点与所述激光光源的距离为第四距离,所述第三距离小于所述第四距离;所述第三实焦点与所述激光光源的距离为第五距离,所述第四实焦点与所述激光...
【专利技术属性】
技术研发人员:曾繁华,金多,牛麒斌,张永鹏,
申请(专利权)人:重庆川仪自动化股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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