【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光波导
,具体涉及一种基于硅基狭缝波导以及混合等离子波导结构的偏振分束器。
技术介绍
传统的介质光波导通常以高折射率材料作为波导芯,以低折射率材料作为包层,光场主要被限制在波导芯中传输。尽管也有研究学者们提出譬如用光子晶体来实现对光的约束,但其导光机制是基于光子带隙原理,事实上,我们更多的是采用类似如传统波导中基于全反射导光原理的结构。近几年来,硅基波导技术的快速发展在集成光子技术中引起越来越多的关注。它的应用领域包括光互连、光通信、光传感等方面。此外,由于可与标准的CMOS工艺相兼容,具有非常广阔的市场前景。更为重要的是,由于硅基波导打破了光的衍射极限,因而相关器件的尺寸可以相对较小。然而,硅基波导结构中由于芯和包层材料的巨大折射率差导致这种硅基波导的相关器件具有很强的偏振依赖特性。为解决这种偏振依赖特性的缺点,科学家们分别提出了诸如偏振旋转器,偏振分束器以及偏振器等等相关器件。但作为偏振分束器的相关研究还不成熟,主要体现在以下几个方面一是器件的消光比较低,二是器件的工作带宽比较窄,三是器件的尺寸的比较大,不利于器件的高度集成化。专利技术内 ...
【技术保护点】
一种偏振分束器,由基底层(1),水平狭缝波导结构、混合等离子波导结构、空气覆层(2组成,其特征在于:所述水平狭缝波导结构和混合等离子波导结构等长、等高、等宽,并对称的沉积在基底层(1)上,所述水平狭缝波导结构和混合等离子波导结构之间相隔一定厚度的空气间隙;所述空气覆层(2)包围在所述水平狭缝波导结构和混合等离子波导结构周围;所述水平狭缝波导结构由宽度相同的第二高折射率介质层(6)、第二低折射率介质层(7)和第三高折射率介质层(8)叠加组成;所述混合等离子波导结构由宽度相同的第一高折射率介质层(3)、第一低折射率介质层(4)和金属层(5)叠加组成;所述水平狭缝波导结构的宽度为 ...
【技术特征摘要】
1.一种偏振分束器,由基底层(1),水平狭缝波导结构、混合等离子波导结构、空气覆层(2组成,其特征在于所述水平狭缝波导结构和混合等离子波导结构等长、等高、等宽, 并对称的沉积在基底层(I)上,所述水平狭缝波导结构和混合等离子波导结构之间相隔一定厚度的空气间隙;所述空气覆层(2)包围在所述水平狭缝波导结构和混合等离子波导结构周围;所述水平狭缝波导结构由宽度相同的第二高折射率介质层(6)、第二低折射率介质层(7)和第三高折射率介质层(8)叠加组成;所述混合等离子波导结构由宽度相同的第一高折射率介质层(3)、第一低折射率介质层(4)和金属层(5)叠加组成;所述水平狭缝波导结构的宽度为所传输光信号的波长的O. 14-0. 35倍。2.根据权利要求书I所述的一种偏振分束器,其特征在于,所述第一高折射率介质层 (3)、第二高折射率介质层(6)、第...
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