用于激光软标印的方法和系统技术方案

一种在半导体晶片上标印软标印的激光标印系统，包括设定脉冲宽度（例如，１０－２００纳秒）的控制器，所述脉冲宽度影响将形成的软标印的深度。所述控制器进一步设定所述一个或多个输出脉冲的脉冲能量（例如，６００至１１００微焦），以选择性地提供具有用于产生软标印的设定总输出能量的一个或多个输出脉冲。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于激光软标印(laser soft marking)的方法和系统，尤其 用于半导体晶片和器件。2.
技术介绍
激光器用于激光标印半导体晶片已有几十年。现提供一列有关激光标 印的有代表性的专利和申请。美国专利号5,329,090涉及晶片的点标印。 下列有代表性的专利参考文献涉及晶片和电子组件的激光标印、照明和检 查/读取标印的多个方面美国专利序列号4，522，656、 4,945,204、 6,309,943、 6,262,388、 5,929,997、 5,690,864、 5,894,530、 5,737,122;和日本专利摘要 11135390。下列代表性的参考文献提供有关多种激光标印方法和系统配置和元 件的通常信息"电流计式和谐振式低惯性扫描仪"，Montagu,在《激光 束扫描》中，Marcel-Dekker, 1985， 214-216页("Galvanometric and Resonant Low Inertia Scanners" , Montagu, in Laser Beam Scanning, Marcel画Dekker, 1985,pp.2本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种标印半导体晶片以在所述晶片上形成软标印的激光标印方法，所述方法包括：设定一个或多个激光脉冲的激光脉冲宽度，以选择性地提供具有一个或多个设定的脉冲宽度的一个或多个激光输出脉冲，所述设定的脉冲宽度影响将形成的软标印的深度，所述标印深度实质上取决于所述一个或多个设定脉冲宽度；设定所述一个或多个输出脉冲的脉冲能量，以选择性地提供具有设定的总输出能量的所述一个或多个输出脉冲，所述设定的总输出能量在用于产生所述软标印的可接受的操作能量窗内；以及将具有所述一个或多个设定脉冲宽度和设定总输出能量的所述一个或多个输出脉冲传递到所述晶片的区域，以使如由所述一个或多个设定脉冲宽度和设定总输出能量所确定的所述区域...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：古博，乔纳森S艾尔曼，
申请(专利权)人：通明国际科技有限公司，
类型：发明
国别省市：US[]