高效、无划伤、长寿命橡胶高分子材料抛光垫制造技术

本发明专利技术涉及对蓝宝石表面的精抛的抛光技术领域，尤其是一种高效、无划伤、长寿命橡胶高分子材料抛光垫。该抛光垫采用具有弹性、空隙率小于5%、密致橡胶高分子材料制成。所述橡胶高分子材料是丁苯橡胶，聚氨酯、聚丙烯酸等具有弹性、耐磨的高分子材料。所述抛光垫使用前附以背胶，用硬质磨盘打磨，表面粗糙度达到2微米以上。所述抛光垫打磨过程中，硬质磨盘是钻石盘，碳化硼盘，氮化硼盘，氧化铝盘或者碳化硅盘。本发明专利技术的制作方法简单、合理，易于生产，产品稳定性好。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及对蓝宝石表面的精抛的抛光
，尤其是一种高效、无划伤、长寿命橡胶高分子材料抛光垫。
技术介绍
当前市场上的蓝宝石精抛抛光垫主要采用发泡聚氨酯无纺布。这种抛光布的多孔结构被广泛认为有利于抛光液的传输，有利于提高抛光效率与均匀度。但这种发泡聚氨酯抛光垫的孔道容易累积抛光液的研磨剂，导致孔道堵塞，抛光垫板结，抛光面出现划伤，以及抛光垫很快失效。
技术实现思路
为了克服现有的抛光垫容易失效、使用寿命短的不足，本专利技术提供了一种高效、无划伤、长寿命橡胶闻分子材料抛光垫。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是一种高效、无划伤、长寿命橡胶高分子材料抛光垫，采用非发泡，表面平滑，空隙率小于5%橡胶高分子材料。这里，橡胶的定义包括NR :天然橡胶(Natutal Rubber), IR :异戍橡胶(Polyisoprene), SBR : 丁苯胶(Styrene butadiene copolyme), BR :顺丁胶(Polybutadiene), IIR: 丁基橡胶(ButylRubber), EPDM :乙丙胶(Ethylene propylene Rubber), CR :(氯丁胶 Polychloroprene),NBR : 丁睛胶(Nitrle Rubber), PU :聚氨酯胶(Urethane Rubber), CSM :氯磺化聚乙烯胶(Hypalon Polyethylene), ACM :丙烯酸酯橡胶(Polyacrylate Rubber), ECO:氯酯橡胶(Epichlorohydrin), S1:娃橡胶(Silicone Rubber), FPM :氟素橡胶(Fluoro CarbonRubber),HNBR :氢化丁睛胶(Hydrogenate Nitrile),LS :氟素娃胶(Fluorinated SiliconeRubber)等等。关键在于该橡胶体具有一定的弹性(压缩比)同时空隙率要低。该橡胶高分子材料附以背胶，经过硬质磨盘打磨至表面粗糙度大于2微米，就可以广泛用于各种材料的高精密表面的抛光了。所述抛光垫打磨过程中，硬质磨盘是钻石盘，碳化硼盘，氮化硼盘，氧化招盘或者碳化娃盘。根据本专利技术的另一个实施例，进一步包括所述橡胶垫含有机颗、无机颗粒或其混合物的填充材料。填充料可以在橡胶合成过程中加入。填充料与橡胶之间可以直接通过化学键键合，也可以是简单的物理混合复合材料。本专利技术的有益效果是，本专利技术的制作方法简单、合理，易于生产，产品稳定性好。使用之后的抛光垫表面无沉积，抛光垫耐用，寿命长。具体实施例方式一、实施例1 :取厚度2mm，直径550mm 丁苯橡胶片，空隙率3%，用3M背胶，粘附到Logitech CDP单面抛光机抛光盘上。用钻石盘修复平整，表面粗糙度大于2微米，采用硅溶胶蓝宝石抛光液，下压5psi，下盘以及载盘转速50 RPM，抛光液流速100 ml/分钟。采用C面泡生法生长蓝宝石研磨片(表面粗糙度0.8微米)。该抛光液在该抛光垫的抛光速率为51纳米/分钟。被抛蓝宝石表面小于2A，表面无划伤，无坑点，抛光垫表面无沉积。二、实施例 2: 取厚度2mm，直径550mm聚氨酯橡胶片，空隙率2%，用3M背胶，粘附到Logitech CDP单面抛光机抛光盘上。用钻石盘修复平整，表面粗糙度大于2微米，采用硅溶胶蓝宝石抛光液，下压5psi，下盘以及载盘转速50 RPM，抛光液流速100 ml/分钟。采用C面泡生法生长蓝宝石研磨片(表面粗糙度0.8微米)。该抛光液在该抛光垫的抛光速率为75纳米/分钟。被抛蓝宝石表面小于2A，表面无划伤，无坑点，抛光垫表面无沉积。三、实施例3: 取厚度2mm，直径550mm聚丙烯酸橡胶片，空隙率5%，用3M背胶，粘附到Logitech⑶P单面抛光机抛光盘上。用钻石盘修复平整，表面粗糙度大于2微米，采用硅溶胶蓝宝石抛光液，下压5psi，下盘以及载盘转速50 RPM，抛光液流速100 ml/分钟。采用C面泡生法生长蓝宝石研磨片(表面粗糙度O. 8微米)。该抛光液在该抛光垫的抛光速率为63纳米/分钟。被抛蓝宝石表面小于2A，表面无划伤，无坑点，抛光垫表面无沉积。四、现有技术比较试样例 取厚度2mm，直径550mm发泡聚氨酯片，空隙率20%，用3M背胶，粘附到Logitech⑶P单面抛光机抛光盘上。用钻石盘修复平整，表面粗糙度大于2微米，采用硅溶胶蓝宝石抛光液，下压5psi，下盘以及载盘转速50 RPM，抛光液流速100 ml/分钟。采用C面泡生法生长蓝宝石研磨片(表面粗糙度O. 8微米)。该抛光液在该抛光垫的抛光速率为63纳米/分钟。被抛蓝宝石表面小于23A，表面有亮丝划伤，橘皮现象坑点，抛光垫表面有硅溶胶沉积。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高效、无划伤、长寿命橡胶高分子材料抛光垫，其特征是，该抛光垫采用具有弹性、空隙率小于5%、密致橡胶高分子材料制成。

【技术特征摘要】
1.一种高效、无划伤、长寿命橡胶高分子材料抛光垫，其特征是，该抛光垫采用具有弹性、空隙率小于5%、密致橡胶高分子材料制成。2.根据权利要求1所述的高效、无划伤、长寿命橡胶高分子材料抛光垫，其特征是，所述橡胶高分子材料是丁苯橡胶，聚氨酯、聚丙烯酸等具有弹性、耐磨的高分子材料。3.根据权利要求1所述的高效、无划伤、长寿命橡胶高分子材料抛光垫，其特征是，所述抛光...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙韬，
申请(专利权)人：江苏中晶光电有限公司，
类型：发明
国别省市：